La cellule photovoltaïque silicium Structure simplifiée d’une cellule photovoltaïque silicium : I Busbar Contacts V Émetteur < 1 µm type n Base ≈ 250 µm type p Contacts Courbe I(V) et schéma électrique équivalent : I I ICC RS IM 0 I ph VM VCO Id V q(V + IRS ) V + IRS I = I ph − I S exp − 1 − Rp nkT Paramètres caractéristiques : Courant de court-circuit : ICC / Tension de circuit ouvert : VCO Maximum de puissance disponible : PM = VMIM RP V VM I M FF = Facteur de forme : FF : VCO I CC FFVCO I CC VM I M = Rendement de conversion : η : η = Pincidente Pincidente Rendement quantique et réponse spectrale Les paramètres précédents caractérisent les performances globales de la cellule. Pour tenir compte de la répartition en longueur d’onde du rayonnement incident, on introduit la notion de rendement quantique. Rendement quantique externe : EQE (External Quantum Efficiency) : rapport entre le nombre de porteurs collectés et le nombre de photons incidents : nb de porteurs collectés EQE = nb de photons incidents Rendement quantique interne : IQE (Internal Quantum Efficiency) : prise en compte des pertes optiques (réflectivité de surface) : IQE = EQE 1− R Photocourant généré dans la cellule : J ph (λ ) = qN (λ )(1 − R(λ ))× IQE(λ ) J ph = J ph (λ )dλ ∫λ Le cœfficient d’absorption du silicium est fonction de la longueur d’onde du rayonnement incident : les photons de faible longueur d’onde sont absorbés près de la surface, tandis que les photons de grande longueur d’onde sont absorbés plus profondément dans la cellule. Ainsi, la connaissance du rendement quantique permet de déterminer l’efficacité de chaque région constitutive de la cellule photovoltaïque. Expérimentalement, pour calculer le rendement quantique d’une cellule, on mesure la réponse spectrale de la cellule. Réponse spectrale : SR (Spectral Response) : rapport entre le courant généré par la cellule et la puissance incidente pour chaque longueur d’onde : SR = I (λ ) Pincidente (λ ) = I (λ ) φ (λ ) ⋅ S urface Rendement quantique et réponse spectrale sont liés par la relation : SR = qλ EQE hc Principales pertes dans la cellule photovoltaïque : • Pertes fondamentales : - Photons de grande longueur d’onde : λ > λgap - Energie excédentaire des photons - Facteur de tension : rapport entre VCO et tension de gap - Facteur de forme : FF : équation courant tension exponentielle : FFmax = 0,89 • Pertes technologiques : - Réflectivité : coefficient de réflexion R - Taux d’ombre - Rendement d’absorption : épaisseur limitée de la cellule nb porteurs collectés - Rendement de collecte : η collecte = : recombinaisons nb porteurs photogénérés - Pertes électriques : résistances série et parallèle Recombinaisons en volume et en surface : Le phénomène de recombinaison est l’inverse du phénomène de génération : perte d’une paire électron – trou avec restitution de l’énergie soit sous forme de photons (recombinaison radiative), soit sous forme de phonons (recombinaison Auger, Shockley-Read-Hall (SRH)). Les recombinaisons dans la cellule se produisent en volume et au niveau des surfaces avant et arrière. En régime de faible injection (régime de fonctionnement classique d’une cellule photovoltaïque), la durée de vie des porteurs minoritaires est déterminée par les recombinaisons Shockley-Read-Hall : défauts et impuretés présents dans le matériau conduisent à l’apparition de niveaux d’énergie qui vont se comporter comme des centres de recombinaison dans la bande interdite. En surface, la rupture de périodicité du réseau (liaisons pendantes) conduit à la création de niveaux dans la bande interdite et donc à la création de centres de recombinaison. Durée de vie des porteurs minoritaires τ et taux de recombinaison en volume U sont liés par la relation : τn = ∆n ∆p τ = p Un ; Up En surface, la densité de défauts d’interface se traduit par une densité de porteurs photogénérés inférieure en surface à la densité en volume. Ce gradient de concentration donne naissance à un courant de diffusion j : jn , p = ± qDn , p d∆n, p dx avec : Dn,p : coefficient de diffusion des porteurs minoritaires ; le signe de j est fonction de l’orientation de l’axe normal à la surface. On peut également exprimer ce courant de diffusion en fonction de la densité de porteurs excédentaires en surface et leur vitesse, soit : j = q∆n.S n soit : S = ± D n d∆n ∆n dx S est appelée vitesse de recombinaison en surface. On définit le taux de recombinaison en surface : Usurf : U surf = S n ⋅ ∆n Différents processus de recombinaison se déroulent en parallèle en surface et en volume du silicium. Pour les caractériser, on introduit le taux de recombinaison effectif Ueff : U eff = U radiatif + U Auger + U SRH + U surf − av + U surf − arr Expérimentalement, on mesure la durée de vie effective : τeff : 1 τ eff • = 1 τ bulk + 1 τ surfaces avec 1 τ bulk = 1 τ radiatif + 1 τ Auger + 1 τ SRH Solutions technologiques : Pertes optiques : Texturisation de la surface. Dépôt d’une couche anti-reflet (CAR). Pertes par recombinaison : Passivation des surfaces : matériau passivant, BSF, FSF. Passivation en volume : hydrogénation, gettering. Texturation de la surface : développer en surface du silicium un relief micrométrique (5 – 10 µm) permettant des réflexions multiples et donc une augmentation de la probabilité d’absorption des photons. En face arrière, la texturisation favorise le piégeage de la lumière dans la cellule. Couche anti-reflet : insertion entre le silicium et le milieu extérieur d’une couche mince appelée couche anti-reflet dont le rôle est d’adapter l’indice optique entre le milieu extérieur (n0 : air ou polymère EVA1 si la cellule est encapsulée) et le silicium (nSi) à la longueur d’onde de 600 nm (cette dernière est proche du maximum d’émission solaire tout en assurant une bonne profondeur de pénétration des photons dans le silicium). En considérant les phénomènes d’interférences destructives entre les ondes réfléchies, les paramètres de la couche anti-reflet doivent vérifier : - Indice optique : nCAR : n CAR = n 0 n Si - Epaisseur : dCAR : d CAR = 1 EVA : Ethylène Vinyle Acétate (2m + 1)λ 4 ⋅ n CAR Passivation de volume : améliorer les qualités électroniques du matériau (durée de vie des porteurs minoritaires, longueur de diffusion) en neutralisant les effets des défauts électriquement actifs. - Silicium monocristallin : la longueur de diffusion des porteurs est généralement supérieure à l’épaisseur de la cellule : les recombinaisons en surface sont donc prépondérantes. - Silicium multi cristallin : les recombinaisons en volume sont prépondérantes du fait d’une longueur de diffusion des porteurs inférieure à l’épaisseur de la cellule. Une méthode de passivation du volume du silicium : hydrogénation du matériau : l’hydrogène très réactif, peut se lier facilement avec les défauts et impuretés présents dans le silicium : il comble les liaisons pendantes et neutralise leur effet. Industriellement, la passivation en volume est généralement réalisée par diffusion d’hydrogène à partir d’une couche d’un matériau hydrogéné : dépôt d’une couche de nitrure de silicium hydrogéné SiN:H suivi d’un recuit (recuit qui sert par ailleurs à la réalisation des contacts, alors que la couche de nitrure joue par ailleurs le rôle de couche anti-reflet). Passivation de surface : diminuer la vitesse de recombinaison en surface par dépôt d’un matériau en couche mince : nitrure de silicium hydrogéné SiN:H, oxyde de silicium SiO2, oxynitrure SiON:H, silicium amorphe hydrogéné a-Si:H, carbure de silicium hydrogéné aSiC:H. 2 approches pour diminuer la vitesse de recombinaison en surface : - diminuer le taux de recombinaison en surface - modifier les concentrations de porteurs Passivation des liaisons pendantes : l’hydrogène (ou l’oxygène) présent dans le matériau déposé en surface assure la réduction de la densité de défauts d’interface ce qui diminue le taux de recombinaison en surface : passivation par neutralisation des états d’interface. Création de champs électriques (ex. : BSF) : formation d’une zone déplétée ou d’une zone d’accumulation suivant le type de semi-conducteur considéré qui permet de modifier localement la concentration d’un type de porteur : passivation par effet de champ.