TABLE DES MATIÈRES 4
2.8 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 97
3 Influence de la dégradation de l’oxyde sur les caractéristiques électriques 99
3.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 99
3.2 Charges piégées dans l’oxyde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 100
3.2.1 Charges piégées dans le volume de l’oxyde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 100
3.2.2 Etats d’interface . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 101
3.3 Mécanismes de dégradation de l’oxyde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 103
3.3.1 Negative Bias Temperature Instability (NBTI) . . . . . . . . . . . . . . . . 103
3.3.2 Anode Hole Injection (AHI) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 106
3.4 Effets de la dégradation de l’oxyde sur le courant mesuré . . . . . . . . . . . . . . . 108
3.4.1 Méthode d’étude de la dégradation de l’oxyde . . . . . . . . . . . . . . . . . 108
3.4.2 Identification des principaux mécanismes de dégradation . . . . . . . . . . . 110
3.4.3 Caractérisation du mécanisme de dégradation NBTI à partir du courant de
grille . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 111
3.4.4 Mesure non dégradante du courant de grille . . . . . . . . . . . . . . . . . . 113
3.5 Caractérisation des pièges dans l’oxyde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 114
3.5.1 Mesure du courant tunnel pendant un CVS positif . . . . . . . . . . . . . . 115
3.5.2 Mesure de capacité quasi-statique et mesure des états d’interface . . . . . . 116
3.5.3 Mesure de capacité dynamique avant et après CVS positif . . . . . . . . . . 117
3.5.4 Nature locale de charge positive piégée . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 120
3.6 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 130
4 Application aux mémoires non-volatiles 133
4.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133
4.1.1 Cas des mémoires EEPROM . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133
4.1.2 Opérations électriques réalisées sur la cellule EEPROM . . . . . . . . . . . 135
4.1.3 Enjeux de la modélisation des dispositifs mémoire . . . . . . . . . . . . . . 137
4.2 Calcul du potentiel de grille flottante . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 139
4.2.1 Modèle électrique équivalent de la cellule EEPROM . . . . . . . . . . . . . 139
4.2.2 Implémentation numérique du modèle . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141
4.2.3 Capacités parasites et calibration du modèle . . . . . . . . . . . . . . . . . . 146
4.3 Résultats de la simulation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 147
4.4 Validation du modèle . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 150
4.4.1 Mesure des tensions de seuil . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 150
4.4.2 Calibration et comparaison avec les mesures . . . . . . . . . . . . . . . . . . 150
4.5 Intérêt du modèle pour les mémoires non-volatiles et possibles applications . . . . 154
4.5.1 Apports du modèle . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 154
4.5.2 Application à l’exploitation des mesures de rétention sous polarisation . . . 155
4.6 Conclusion et perspectives . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 159
Bibliographie 172
A Annexes 173
A.1 Intégrales de Fermi-Dirac . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 173
A.2 Calcul de la position des niveaux de Fermi dans les électrodes . . . . . . . . . . . . 173
A.3 Résolution de l’équation de Poisson et calcul de la charge dans le semiconducteur . 175
A.4 Barrières de potentiel et coefficients de transmission . . . . . . . . . . . . . . . . . 177
Thèse P.CHIQUET