Effet Hall dans les Semi- Conducteurs

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MONNOYE Olivier
LE MOUEL Yannick
Effet Hall dans les SemiConducteurs
Ce tp a pour but d’introduire la notion de semi-conducteur avec l’analyse du germanium,
dopé ou non.
Les applications des semi-conducteurs ont explosé au début du siècle avec les premiers
ordinateurs et outils électroniques. Diodes, processeurs, puces électroniques, tous ces
composants s’appuient sur les particularité de certains matériaux entre le métal et
l’isolant.
L’analyse de l’effet Hall permet de toucher du doigt le comportement de ces matériaux lors
que l’ont applique un champ magnétique et un champ électrique.
On notera particulièrement la différence entre les éléments de type n et de type p, qui
sont des éléments purs dopés aux électrons où aux trous.
Montage réalisé:
Mesure de la tension de Hall
Uh
intensité de commande:
: à B =300 mT
constant en fonction de l'
La figure présente les axes suivant la disposition du module. Ha est la borne plus
raccordée à la borne + du voltmètre tandis que la borne Hb est reliée à la borne com du
voltmètre.

Le champ
B =B 
y est suivant l’axe y croissant avec B=300mT,
B I 
Si R H est négatif les porteurs de
d 
charge sont des électrons, sinon des trous (valable dans le métal).
Et ce pour n-Ge ainsi que pour p-Ge. U H =R H
Résultats des mesures:
I(mA) p U(mV) p
60,0
123,2
55,0
112,1
50,0
102,6
45,0
92,3
40,0
83,5
35,0
72
30,0
61,5
25,0
51,8
20,0
40,5
15,0
30,1
10,0
20
5,0
10,5
0,1
-5,0
-11,5
-10,0
-22,3
-16,0
-34,1
-21,0
-44,7
-27,0
-57,3
-36,0
-75,5
-44,0
-90,8
-52,0
-109
-62,0
-127,1
I(mA) n
60,0
55,0
50,0
45,0
40,0
35,0
30,0
25,0
20,0
15,0
10,0
5,0
-5,0
-10,0
-16,0
-21,0
-27,0
-36,0
-44,0
-52,0
-62,0
U(mV) n
-123,2
-112,1
-102,6
-92,3
-83,5
-72
-61,5
-51,8
-40,5
-30,1
-20
-10,5
-0,1
11,5
22,3
34,1
44,7
57,3
75,5
90,8
109
127,1
On obtient ainsi:
Uh en fontion de I
150
y = 2,0667x - 0,6321
Tension (en mV)
100
50
Série1
Série2
Linéaire (Série1)
Linéaire (Série2)
0
-50
-100
y = -2,0667x + 0,6321
-150
-80,0
-60,0
-40,0
-20,0
-
20,0
Intensité (en mI)
40,0
60,0
80,0
Champ magnétique constant, intensité variable :
Pour n-Ge
RH
Pour p-Ge
R H > 0 car la pente est positive donc ce sont des trous.
< 0 car la pente est négative donc ce sont des électrons.
Le silicium pur est un semi-conducteur intrinsèque. Les propriétés d'un semi-conducteur
(c'est-à-dire le nombre de porteurs, électrons ou trous) peuvent être contrôlées en le
dopant avec des impuretés. Un semi-conducteur présentant plus d'électrons que de trous
est alors dit de type N, tandis qu'un semi-conducteur présentant plus de trous que
d'électrons est dit de type P.
Il en va de même pour le Germanium qui est tout comme le silicium un semi-conducteur.
Mesure de la tension de Hall
U(mV)
p
-296
67,6
-278
62,5
-262
59,6
-246
55,7
-231
52,3
-215
48
-188
43,3
-165
37,1
-150
32,5
-130
27,7
-100
21,8
-70
15,5
-53
11,6
-20
5,4
-6
2,2
2
1,2
6
0,2
15
-2,2
27
-5,4
41
-9
62 -14,4
100 -24,2
114 -27,9
134 -32,7
152 -37,1
174 -42,3
200 -48,2
221
-53
240 -57,2
260 -61,6
285 -66,5
300 -69,7
B(mT) p
U H à I =30 mA enfonction du champ B:
U(mV)
n
-300 -36,1
-290
-35
-267 -32,2
-241
-29
-220 -26,4
-182 -21,7
-167 -19,8
-140 -16,5
-100 -11,4
-85
-9,6
-53
-6,4
-37
-5
-20
-2,4
-10
-1,3
B(mT) n
3
12
22
29
55
87
102
142
169
184
222
243
269
292
298
-0,93
0,37
1,57
3,67
5,67
9,77
11,57
16,67
19,97
21,87
26,57
29,17
32,37
35,17
36,27
U en fonction de B
80
60
40
y = 0,1198x - 0,1754
Tension (mV)
U en fonction de B p
20
U en fonction de B n
0
-400
-200
0
200
Linéaire (U en fonction de B
n)
400
-20
Linéaire (U en fonction de B
p)
-40
-60
y = -0,2313x - 0,7816
-80
Champ magnétique (mT)
Nous savons que la tension de l’effet Hall dépend des porteurs de charge, du champ B et
de l’intensité I.
U H =R H
B I 
d 
U h =f  B =
avec R h =
R H I B 
d
1
n q 
, nous considérons que les courbes passent quasiment par 0.
Nous avons donc pour n-Ge :
RH
I
=0 ,1198 ce qui donne
d
n=
1
et
R H ×−e 
donc n =
RH =
0,1198×1
=3,993.10−3
30
−3
3,99 .10
1
=
×1,602.10 −19
m.A−1 . s
1,56 .1021
m −1
Nous avons donc pour p-Ge :
RH
I
=−0,231 ce qui donne
d
n=
1
R H ×e 
et
donc n =
7,7
RH =
−0,231×1
=−7,7 .10−3
30
1
=
−19
×1,602.10

−3
m.A−1 . s
8,10 .1020
m −1
Mesure de la tension de Hall U H à I =30 mA et B =289 mT , en
faisant varier T.
T(°C)
U(en mV) p
p
35
-65
46
-64,1
54
-62,4
57
-61,9
61
-59,8
67
-56,6
70
-53,5
77
-46,7
80
-43,6
85
-36,3
88
-31,2
91
-23,8
103,4
-8
123,1
-0,3
149,2
1,7
T(°C) n
U(en mV) n
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
105
110
115
35,5
35,1
34,6
33,9
32,8
32
29,8
27,6
24,7
21,7
18,6
15,7
12,9
11
9,8
8
7,7
U_H en fontion de la température:
60
40
20
0
0
50
-20
100
150
200
U en fonction de la température
p-Ge
U en fonction de la température
n-Ge
-40
-60
-80
T en abscisse en °C.
U en ordonnée en mV.
Les deux courbent tendent vers 0, mais pour le p-Ge l’allure est différente, il y a
une inversion du courant au hautes températures.
Le phénomène aux hautes températures pour le p-Ge s’explique par le fait qu’arrive
à une certaine température les trous sont moins nombreux que les électrons qui sont par
ailleurs beaucoup plus mobile.
Les paires électrons trous créées directement par excitation thermique d’un électron
de la bande de valence dans la bande de conduction deviennent prépondérantes. Le
semi-conducteur devient intrinsèque. Les tensions tendent vers 0 car les impuretés
gouverne les échanges de charges. C’est en partie pourquoi les processeurs doivent être
refroidis pour ne pas perdre le contrôle des transistors dans le semi-conducteur dopé.
Aux basses températures, les donneurs libèrent leur électron dans la bande de
conduction et les accepteurs capturent un électron provenant de la bande de valence.
Lorsque toutes les impuretés sont ionisées, la densité de porteurs libres devient constante.
Les porteurs majoritaires sont els électrons de conduction si les donneurs sont
prépondérants (matériau de type n), et les trous de la bande de valence dans le cas
contraire (matériau de type p).C’est la propriété extrinsèque du semi-conducteur.
Détermination de l’énergie de gap d’un échantillon de germanium
pur E g :
T(°C)
U(mV) 1/T(°C)
ln(1/U)
43
9,18
0,02326 -2,2170272
52
6,43
0,01923 -1,86097454
65
4
0,01538 -1,38629436
70
3,29
0,01429 -1,19088756
79
2,38
0,01266 -0,86710049
75
2,76
0,01333 -1,01523068
85
2,01
0,01176 -0,69813472
90
1,63
0,01111 -0,48858001
98
1,3
0,01020 -0,26236426
95
1,41
0,01053 -0,3435897
Ln(1/U) en fonction de 1/T
0
0,00000 0,00500 0,01000 0,01500 0,02000 0,02500
-0,5
-1
Ln(1/U) en fonction de 1/T
-1,5
Linéaire (Ln(1/U) en
fonction de 1/T)
-2
y = -151,16x + 1,1098
-2,5
-3
Par régression linéaire on a bien une droite de proportionnalité

×e
σ =σ 0
et
−E g
2 k T 

E g =−2 k T ×ln
=>
 
U
U0

σ
=e
σ0
−E g
2 k T 

d' où
ln
 
−E g
U
=
U 0 2 k T 
On a kT_ambiant = 25 meV pour T_ambiant =300°K , on trouve normalement:
E_g=0,7 eV qui est l' énergie de gap pour le germanium pur.
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