Evolution de CEMOX

Franck Delmotte
Laboratoire Charles Fabry, Equipe Optique XUV
Responsable de la Plateforme CEMOX / LUMAT
Plateforme CeMOX
"Couches Minces pour l'Optique X"
Journée Scientifique LUMAT
Mardi 19 juin 2012

2
2
LoideBragg
MiroirsInterférentielsMulticouches
Indiceoptiquecomplexe
n=1-(δ+iβ)avec δ<<1 et β< δ
Hard x-rays Soft x-rays VUV
EUV UV Vis.
λ(nm)
0,01 0,1 10 1001 200 400 800
105104100 101036,2 3,1 1,5
E (eV)
IR
«Highreflectance multilayers » (R>50%)
Mo/Si1985,Barbee etal. λ=13nm
Mo/Be1995,Skulina etal. λ=11nm
Sc/Si1998,Uspenskii etal. λ=42nm
Mg/Sc/SiC 2009,Aquilaetal. λ=28nm
Al/Mo/SiC 2010,Meltchakov etal. λ=17nm
15 16 17 18 19 20
0,0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
0,6
Reflectivity
Wavelength, nm
θ = 10 deg
Al/Mo/B4C
Périoded
1à30nm
Substrat
θ

3
3
CEMOX:lanaissance
1999:CréationduPôled’OptiquedesRayonsXd’Orsay(PRaXO)
LIXAM–LCFIO‐ LURE
CEASaclay–CEABruyères–LOA–SynchrotronSOLEIL
=>ProjetCEMOX(M.Idir,P.Zeitoun,M‐F.Ravet,F.Delmotte)
2002‐04:InstallationdelacentraleCEMOX(LIXAM/LCFIO)
Fin2003:dernièresmesuressurSuperACO
2008:CEMOXintègrelafédération LUMAT entantquePlateforme
2010:Installationd’unnouveauréflectomètreX(ASTRE/ANR/RTRA)
Centraled’ElaborationetdeMétrologied’OptiqueXUV

4
4
CEMOX:c’estquoi?
PulvérisationcathodiquemagnétronRF/DC
(ResponsableEvgueniMeltchakov)
RéflectométrieEUVsursourceplasma‐laser
(ResponsableMarcRoulliay)
AuLCF(bat.503) Al’ISMO(bat.350)
Ensalleblanche(classe1000) Sousplafondsoufflant
RéflectomètreX(BrukerDiscoverD8)
2002 2004
2010
ASTRE
2008
‐
ANR
‐
RTRA

5
5
Controldel’uniformité
0.5%surφ190mm
Substrate
holder
Load
lock
Chimney
Target
Matériaux:Mo,W,Sc,Cr,C,Si,Al,Co,
B4C,SiC,Mo2C,SiOx,SiNx
Pressionrésiduelle:2×10‐8mbar
Pulvérisationcathodiquemagnétron
4ciblesRF/DC(Plassys MP800)
-60 -40 -20 0 20 40 6
CEMOX=élaboration
0
-6
-4
-2
0
2
4
6
8
10
12
Variation d'épaisseur (%)
rayon re (mm)
50 %
40 %
30 %
20 %
10 %
(V1-V2)/V1