Lithographie : techniques, résolution

Laboratoire de
Photonique et de
Nanostructures
1 - Les matériaux diélectriques, Élaboration,Structuration
2 - Lithographie : techniques, résolution
3 - Gravure sèche
4 - La non perfection de la fabrication, son impact sur les
performances des dispositifs
Octobre 2012
Nanophotonique des structures périodiques :
Techniques et méthodes de fabrication

2 - Lithographie : techniques, résolution
2D : définir un motif dans un plan
Diminuer la résolution en lithographie optique : techniques de la micro-électronique
• Utiliser la division du faisceau : masque de phase, stepper
• Utiliser la λ: deep UV, extreme UV
• Développer les performances des résines : Chemically Amplified Resists CAR
Diminuer la longueur d’onde : utiliser les électrons
• un seul faisceau d’électrons
Diminuer la longueur d’onde : utiliser les ions
Augmenter le throughput
• Machine e-beam multi-faisceaux
Baisser le prix, patterner des substrats souples: • NanoImprint Lithography NIL
Lithographie optique in-situ : positionnement déterministe d’un motif sur un émetteur de lumière
3D : définir un motif dans un plan et aussi verticalement
• Insolation successives de plusieurs motifs 2D
• Lithographie 3D par effets non-linéaires dans la résine

Les étapes
•Préparation du substrat
•Enduction d’une résine
•Définition de motifs: lithographie
•Développement
•Gravure
•Retrait du masque

Lithographie
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