Session : Nanophotonique et optique guidée

Session : Nanophotonique et optique guidée
17:30 - 18:00 : NOUVELLES APPLICATIONS PHOTONIQUES DES MICROFILS EN
CHALCOGENURE
Martin Rochette, Chams Baker et Raja Ahmad
Department of Electrical and Computer Engineering, McGill University, Montréal
Des microfils faits d’un coeur en verre de chalcogénure et enrobés d’une gaine de polymère ont été
fabriqués pour tirer avantage de leur non-linéarité élevée, leur transparence sur une grande largeur de
bande et leur robustesse mécanique. L’objectif du présent article est d’exposer les plus récents
progrès de cette technologie. Les résultats présentés traitent 1) du design de microfils hybrides
d’As2Se3/PMMA, 2) la fabrication d’un interrupteur tout-optique et 3) la mise en évidence de gain
paramétrique dans les microfils
18:00 - 18:15 : MICROSCOPIE MULTIPHOTONS EN CHAMP PROCHE OPTIQUE
Jean Dellinger, Loic Lalouat, Benoît Cluzel et Frédérique de Fornel
Nous reportons dans ce travail, les résultats obtenus par notre nouvelle plateforme de mesure. La
particularité de cette plateforme est de combiner un microscope en champ proche optique et une
détection multi longueur d’onde dans le but de contrôler et d’analyser à l’échelle sublongueur d’onde les
propriétés spectrales et spatiales de systèmes optiques miniaturisés tels que les cristaux photoniques
(CP) ou les dispositifs plasmoniques.
18:15 - 18:30 : CONTROLE DE L’EMISSION DANS DES ANTENNES PATCH
PLASMONIQUES
Agnes Maitre, Benjamin Habert, Florian Bigourdan, François Marquier, Laurent Coolen, Benoit Dubertret,
Jean-Jacques Greffet, Agnes Maitre et Pascale Senellart
Des antennes patch plasmoniques sont d’excellentes candidates pour contrôler et optimiser l’émission
spontanée de nanoémetteurs, positionnés de manière déterministe au centre de l’antenne. Des
nanocristaux semi-conducteurs colloïdaux (CdSe/CdS) groupés en « cluster » et au-dessus desquels par
lithographie optique in-situ sont centrées de manière déterministes des antennes patch, voient à la fois
leur émission accélérée ( facteur 15) et en même temps leur diagramme de rayonnement devenir
directif. Des facteurs de Purcell de 70 ont ainsi été mis en évidence. Grace a la lithographie in situ et à la
largeur des résonances plasmoniques permettant une large bande spectrale d’accord, ces antennes
bénéficient d’une forte robustesse dans leur fonctionnement. Les antennes Patch plasmoniques sont
ainsi d’excellentes candidates pour fabriquer des sources de photons uniques efficaces.