Composants passifs et Optique intégrée Ma1.2 FABRICATION DE MICRO-RESONATEURS PHOTONIQUES 2.5D SUR ORGANIQUES PAR COMBINAISON DE PROCESSUS COUCHES MINCES Daphné Duval1, Abdelkader Zebda1, Lionel Camberlein2, Christian Godet1, Etienne Gaviot2, Joseph Zyss3, Guy Jézéquel1, Anne Renault1, Franck Artzner1 et Bruno Bêche1 1 IPR UMR CNRS 6251, Institut de Physique, Université de Rennes 1, 35042 Rennes. 2 LAUM UMR CNRS 6613, Laboratoire d’Acoustique, 72000 Le Mans. 3 IFR d’Alembert, LPQM UMR CNRS 8537, ENS Cachan, 94235 Cachan. [email protected] RESUME Les polymères tels que le SU8 (biphénol A d’éther glycidyle), le PS233 (polysilane) et le matériau SOG (siloxane Spin On Glass) peuvent être utilisés conjointement dans la fabrication par processus couches minces de micro-résonateurs (MR) photoniques 2.5D. Cependant, ces matériaux n’étant pas toujours compatibles entre eux, il a été nécessaire d’inclure et d’optimiser des traitements plasmas au sein des processus couches minces de manière à augmenter l’adhérence et à permettre un développement sélectif de multicouches organiques en structures de type MR 2.5D disques et anneaux. MOTS-CLEFS :polymère SU8; traitement plasma; micro-résonateur; mode de galerie. 1. INTRODUCTION L’introduction des polymères dans la fabrication de microsystèmes opto-électro-mécaniques (MOEMS) présente des avantages, en particulier pour la fabrication en grande quantité et à bas coût. Dans ce contexte, le SU8 (MicroChem Corp.) est un polymère très intéressant pour sa grande transparence aux longueurs d’onde supérieures à 400 nm et pour ses faibles pertes en propagation [1]. Il a permis le développement de MOEMS planaires ou 2D sur des structures de type interféromètres Mach-Zehnder [2] et micro-résonateurs (MR) [3]. D’autres matériaux comme le SOG (Honeywell International Inc.) et le polymère PS233 (Ugarit-Chimie Ltd.) ont également une excellente transparence. Malheureusement, la mauvaise adhérence (particulièrement entre le SU8 et le PS233) est un verrou technologique pour la mise en forme de dispositifs 2,5D ou 3D. Une solution est d’inclure les traitements par plasma dans les processus afin de modifier les propriétés surfaciques des matériaux. Le but de cet article est de présenter les processus couches minces optimisés pour la fabrication de structures photoniques MR 2.5D sur multicouches SOG, PS233 et SU8 [4]. Dans un premier temps, une description des processus couches minces développés, en particulier, les traitements par plasma, sera réalisée. Dans un deuxième temps, une étude des énergies de surface par mesure des angles de contact permettra d’optimiser l’adhérence entre les multicouches. Enfin, la propagation et l’excitation de modes galeries dans un micro-disque en SU8 validera l’ensemble des processus de fabrication. 2. FABRICATION & PROCEDES COUCHES MINCES Le fonctionnement des structures photoniques MR est basé sur un couplage par onde évanescente entre, par exemple, un guide d’onde et un résonateur [3]. Les matériaux SU8 (n=1,56 à 980 nm), SOG et PS233 (n=1,41 et n=1,40 à 980 nm) peuvent être utilisés pour la fabrication de MR 2.5D moyennant l’optimisation de processus couches minces. Tout d’abord, la gaine inférieure (SOG ou PS233) est déposée par technique spin-coating sur un substrat de silicium. Ensuite, afin d’optimiser l’adhérence entre les couches de polymères, le SOG ou le PS233 est traité par un plasma d’oxygène ou d’argon [4]. Ce traitement sélectif permet de modifier les propriétés surfaciques et d’améliorer de manière significative l’adhésion entre le SU8 et le SOG ou le PS233. 55 JNOG, Lannion 2008 Composants passifs et Optique intégrée Ma1.2 Une couche cœur de SU8 de 800 nm d’épaisseur est ensuite déposée sur la gaine inférieure précédemment traitée, puis développée sélectivement par lithographie UV. Les paires de guides rubans présentent typiquement des espacements entre guides variant de 80 à 140 µm. La gaine supérieure (SOG ou PS233) est par la suite déposée par spin-coating puis retraitée par plasma. Ces couches ont des épaisseurs comprises entre 50 et 150 nm. Enfin, une couche de SU8 est déposée par spin-coating et les motifs, sous la forme de résonateurs disques et anneaux imprimés. L’ensemble de ces procédés et développements sélectifs s’accompagnent d’étapes de cuisson par palier en température. Différents types de structures MR 2.5D en architecture multicouche ont ainsi pu être fabriquées comme des micro-disques ou anneaux disposés judicieusement au dessus de guides rubans. 3. EXPERIENCES & RESULTATS Les différentes composantes des énergies de surface ont été évaluées par des mesures d’angle de contact (θ) au point triple avec plusieurs liquides polaires et non-polaires. L’équation d’Young relative aux tensions de surface (γ) par le modèle acide-base introduisant un comportement asymétrique de la composante non-dispersive de la tension interfaciale permet de définir le travail interfacial d’adhésion entre un solide (S) et un liquide (L) [1][4] : [ WSL = γ L (1 + cos θ ) = 2. γ S LW .γ L LW ] 1/ 2 [ + 2. γ S + . γ L − ] 1/ 2 [ + 2. γ S − . γ L + ] 1/ 2 . (1) Le terme ȖLW représente la contribution des forces apolaires (forces de Van der Waals), et le couple (Ȗ+,Ȗ-) les énergies polaires non-dispersives. Afin de caractériser les surfaces obtenues après traitement plasma, les inconnues ȖSLW, ȖS+ et ȖS- doivent être déterminées. En utilisant trois liquides déterminés (pour lesquels ȖLLW, ȖL+ et ȖL- sont connus), puis en mesurant l’angle de contact θ entre chacun des trois liquides et la surface à caractériser, nous avons alors déterminé les trois composantes de la tension de surface des polymères traités. FIG. 1 : Evolution des composantes de la tension de surface en fonction du temps d’exposition au plasma d’oxygène, sur PS233 et SOG. A titre d’exemple, la figure 1 présente les résultats obtenus pour le SOG et le PS233 en fonction du temps d’exposition au plasma d’oxygène, avec ȖAB=2.[Ȗ+.Ȗ-]1/2 et ȖT= ȖLW+ȖAB. Dans les deux cas, ȖT présente un maximum pour t(O2) compris entre 30 et 60 s, signe d’une amélioration en terme d’adhérence [4]. FIG. 2 : Images obtenues par microscopie optique de MR 2.5D en forme de disque plein et creux sur une multicouche de polymères : a) Si/PS233/SU8/PS233/SU8 (R=40 µm), b) Si/SOG/SU8/SOG/SU8 (R=70 µm). 56 JNOG, Lannion 2008 Composants passifs et Optique intégrée Ma1.2 Les processus couches minces globaux étant optimisés, les multicouches polymériques en MR 2.5D ont été fabriquées. Deux sortes de microstructures photoniques MR 2.5D ont été développées : Si/SOG/SU8/SOG/SU8 et Si/PS233/SU8/PS233/SU8 (figures 2 et 3). Une bonne homogénéité des surfaces de ces structures est obtenue. FIG. 3 : Images obtenues par microscopie électronique à balayage (MEB) de MR 2.5D en forme de disque plein et creux sur une multicouche de polymères : a) Si/PS233/SU8/PS233/SU8, b) Si/SOG/SU8/SOG/SU8 Les MR ont également été testés en injection avec une source laser (Ȝ=670 nm). Les modes TE00 et TM00 ont pu être excités, d’abord dans le guide ruban, puis dans le micro-disque en SU8 (modes de galerie) (figure 4). Les processus couches minces présentés ayant été validés, ceux-ci semblent être une solution appropriée pour la fabrication de MR multicouche 2.5D par une approche en procédés classiques et non à base de lithographie par faisceau d’électrons en planaire. FIG. 4 : Photographie de l’excitation du mode galerie TE00 dans un micro-disque (Ȝ = 670 nm). CONCLUSION Les processus pour le traitement des surfaces de SOG et PS233 ont pu être optimisés par détermination des énergies de surface à partir de mesures d’angle de contact, permettant ainsi de déposer par spin coating du SU8 sur ces surfaces. Nous avons pu fabriquer des microstructures photoniques 2.5D à base de matériaux SU8/SOG et SU8/PS233, formées par des micro-disques pleins et creux disposés au dessus de guides rubans. L’excitation et la propagation de modes de galerie ont pu être observées. La combinaison de tels processus couches minces (spin coating par paliers, traitement des surfaces par plasma, lithographie UV sélective et cuissons par paliers) permet de fabriquer des dispositifs 2.5D avec une bonne reproductibilité. REFERENCES [1] B. Bêche, N. Pelletier, E. Gaviot, R. Hierle, A. Goullet, J.P. Landesman, and J. Zyss, “Conception of Optical Integrated Circuits on Polymers”, Microelectron. J., vol. 37, p. 421, 2006. [2] N. Pelletier, B. Bêche, N. Tahani, J. Zyss, L. Camberlein, and E. Gaviot, “SU-8 waveguiding interferometric micro-sensor for gage pressure measurement”, Sens. Actuators A, vol. 135, p. 179, 2007. [3] J. Scheuer, A. Yariv, “Fabrication and characterization of low-loss polymeric waveguides and microresonators”, J. Eur. Opt. Soc., vol. 1, p. 06007, 2006. [4] A. Zebda, L. Camberlein, B. Bêche, E. Gaviot, E. Bêche, D. Duval, J. Zyss, G. Jézéquel, F. Solal, C. Godet, “Spin coating and plasma process for 2.5D integrated photonics on multilayer polymers”, Thin Solid Films, accepté, à être publié, 2008. 57 JNOG, Lannion 2008