ﺺﺨﻠﻤﻟا
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ﺚﺤﺒﻟا تﺎﻤﻠﻛHEMT : ،GaN،ﺪﯾﺪﺒﺗةراﺮﺤﻟا ،ةدوﺪﺤﻤﻟا ﺮﺻﺎﻨﻌﻟا.
Résumé
Récemment, les transistors à haute mobilité électronique (HEMTs) à base de nitrure de gallium (GaN)
sont capables de concurrencer les transistors LDMOS à base de silicium (Si) et les pHEMTs à base
d’arséniure de gallium (GaAs) sur le marché des stations de bases utilisées pour les
télécommunications (3G, 4G, WiMAX,...). Les progrès technologiques accomplis ces dernières années
permettent de disposer des transistors rapides ayant des caractéristiques intéressantes. La conception
des circuits pour les systèmes complexes nécessitent une grande densité d’intégration, ceci impose de
traiter les effets thermiques liés aux fortes dissipations de puissances et qui sont responsables de la
dégradation des performances de ces systèmes.
Le travail présenté dans ce mémoire porte sur l’étude de l’effet thermique sur le comportement DC du
transistor HEMT en technologie GaN. Dans ce cadre, un modèle physico-thermique issu d’un couplage
d’un modèle de dérive-diffusion et d’un modèle thermique est basé sur la méthode des éléments finis a
été développé pour ce transistor. Ce modèle prend en compte la température de réseau en tout point du
composant. Il permet l’étude et l’analyse détaillée de l’effet de la température sur l’ensemble des
paramètres de ce composant. Ce modèle a été exploité pour examiné l’influence de certains paramètres
technologiques qui impactent les performances du transistor tels que la longueur de la grille, l’épaisseur
de la barrière et du substrat.
Mots clés : HEMT, GaN, Dissipation thermique, Eléments finis.
Abstract
Recently, high electron mobility transistors (HEMTs) based on gallium nitride (GaN) are able to
compete the LDMOS transistors based on silicon (Si) and pHEMTs based on gallium arsenide (GaAs)
on market base stations used for telecommunications (3G, 4G, WiMAX, ...). Technological advances in
recent years have used to fast transistors with interesting features. Circuit design for complex systems
require high integration density, this requires treating the thermal effects associated with high power
dissipation and are responsible for the degradation of the performance of these systems.
The work presented in this thesis focuses on the study of the thermal effect on the DC behavior of GaN
HEMT technology. In this context, a physical model from a thermal coupling of a drift-diffusion model
and a thermal and based on the finite element model was developed for this transistor. This model takes
into account the temperature at any point of the network component. It allows the study and detailed
analysis of the effect of temperature on all the parameters of the component. This model was used to
examine the influence of some technological parameters that affect the performance of the transistor
such as gate length, the thickness of the gate and the substrate.
Keywords : HEMT, GaN, thermal dissipation, finite elements.