iv TABLE DES MATI `
ERES
3.2.2 Bandes d’´energie, gap. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
3.2.3 M´etal, isolant et semiconducteur. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
3.2.3.1 M´etaux................................ 25
3.2.3.2 Isolants et semiconducteurs `a temp´erature nulle. . . . . . . . . 26
3.2.3.3 Semiconducteurs ultra-pur `a temp´erature non nulle. . . . . . . 27
3.2.3.4 Gap des semiconducteurs. Isolants et semiconducteurs. . . . . 28
3.2.3.5 Dopage de types N et P. Electrons et Trous. Conductivit´e par
´electrons, par trous. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29
3.2.3.6 Diffusion .............................. 31
3.2.3.7 Interaction avec la lumi`ere, dur´ee de vie des porteurs. . . . . . 32
3.3 JonctionPN...................................... 34
3.3.1 G´en´eralit´es. Niveau de Fermi . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 34
3.3.2 D´efinition.................................... 35
3.3.3 La jonction PN `a l’´equilibre . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36
3.3.4 Jonction PN polaris´ee dans le sens direct . . . . . . . . . . . . . . . . . 38
3.3.5 Jonction PN polaris´ee en sens inverse. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 39
3.3.6 Capacit´e d’une jonction PN . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41
3.3.7 Claquage. Effet Zener, effet d’avalanche. . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41
3.3.8 Autresjonctions ............................... 41
3.4 DiodesPN....................................... 42
3.4.1 D´efinition, caract´eristique I(V). ...................... 42
3.4.2 Mod´elisations de la diode . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 44
3.4.2.1 Mod´elisation en grands signaux . . . . . . . . . . . . . . . . . 44
3.4.2.2 Point de fonctionnement. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45
3.4.2.3 Diode en petits signaux. Mod´elisation, point de repos, r´esistance
dynamique.............................. 46
3.5 DiodeZener ..................................... 47
3.5.0.4 D´efinition. ............................. 47
3.5.0.5 Polarisation. Mod´elisation. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 48
3.5.1 Exemplesdediodes ............................. 49
3.6 Diodes en opto´electronique . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 49
3.6.1 G´en´eralit´es .................................. 49
3.6.2 Photodiode, cellule solaire. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 49
3.6.2.1 D´efinition.............................. 49
3.6.2.2 Principe de fonctionnement. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 50
3.6.2.3 Mod´elisation............................. 51
3.6.2.4 Point de fonctionnement. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 52
3.6.3 Diode ´electroluminescente, diode laser. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 52
3.6.3.1 Diode ´electroluminescente (DEL) . . . . . . . . . . . . . . . . . 52
3.6.3.2 DiodeLaser ............................ 53
3.6.4 Exemples de diodes opto´electroniques . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 53
3.6.5 Applications des diodes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 53
3.7 Transistors `a effet de champ . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54
3.7.1 Histoire de transistors. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54
3.7.2 Transistor NMOS `a enrichissement. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54
3.7.2.1 Description qualitative . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54
3.7.2.2 Principe de fonctionnement du NMOS . . . . . . . . . . . . . . 56
3.7.3 Transistor PMOS, technologie CMOS . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 60
3.7.4 Mod´elisation ................................. 61