http://www.cadjds.org Journal des Sciences
M. L. Samb et al / J. Sci.Vol. 10, N° 4 (2010) 23 – 38 - 23 -
ETUDE EN MODELISATION A 3-D D’UNE PHOTOPILE AU SILICIUM EN REGIME STATIQUE
PLACEE DANS UN CHAMP MAGNETIQUE ET SOUS ECLAIREMENT MULTISPECTRAL :
DETERMINATION DES PARAMETRES ELECTRIQUES
M. L. SAMB1, M. ZOUNGRANA2, R. SAM3, M. M. DIONE4, M. M. DEME4, G. SISSOKO4
1 UFR-SET, Université de Thiès, Sénégal
2 Laboratoire de Matériaux et Environnement, Département de Physique,
UFR-SEA, Université de Ouagadougou, Burkina Faso
3Département de Physique, Institut des Sciences Exactes et Appliquées,
Université Polytechnique de Bobo Dioulasso, Burkina Faso
4 Laboratoire des Semiconducteurs et d’Energie Solaire,
Département de Physique, FST/UCAD, BP 5005, Sénégal
Abstract:
In this article we present a study in three-dimensional modeling
of solar silicon under a static placed in a magnetic field and
under illumination multispectral: determination of shunt and
series resistances. The influence of the magnetic field on the
density of minority charge carriers in excess, on the
photocurrent density, on the phototention, on recombination
velocities, on the characteristic Jph- Vph and the electrical
parameters corresponding to the shunt and series resistances
of solar polycrystalline silicon was analyzed.
Résumé:
Dans cet article, nous faisons une étude en modélisation à trois
dimensions d’une photopile au silicium en régime statique
placée dans un champ magnétique et sous éclairement
multispectral est présentée. L’influence du champ magnétique
sur la densité des porteurs de charges minoritaires en excès,
densité de photocourant et sur la phototension est analysée. Les
expressions des vitesses de recombinaison aux surfaces de la
jonction et en face arrière sont établies dépendamment du
champ magnétique B. De l’étude de la caractéristique
photocourant-phototension (Jph-Vph), nous déterminons les
paramètres électriques (résistances shunt et série) de la
photopile au silicium polycristallin et nous étudions l’influence
du champ magnétique sur eux.
Keywords: Silicon solar cell, magneto resistance, recombination
velocities.
Mots clés: Photopile au silicium, magnétorésistance, vitesses de
recombinaison
NOMENCLATURE
δ (cm-3) : Densité des porteurs minoritaires en excès dans la base de la photopile
D*(cm2/s) : Coefficient de diffusion des porteurs de charges dans la base de la photopile
g (cm) : Taille de grain
G(z) (N/cm3.s) : Taux de génération des porteurs minoritaires de charge à la profondeur z de la base
H (cm) : Epaisseur de la base de la photopile
L* (cm): Longueur de diffusion des porteurs minoritaires dans la base de la photopile
VT (V) : Tension thermique
NB (cm-3) : Taux de dopage de la base en atomes d'impureté
ni (cm-3) : Concentration intrinsèque des porteurs dans la base
k (J/K) : Constante de Boltzmann
T(K) : Température
q (C) : Charge électrique élémentaire
Sb (cm/s) : Vitesse de recombinaison des porteurs minoritaires à la face arrière
Sf (cm/s) : Vitesse de recombinaison des porteurs minoritaires à la jonction
Sg (cm/s) : Vitesse de recombinaison des porteurs minoritaires aux joints de grain
Vph (V) : Phototension
z (cm) : Profondeur dans la base
Rs (Ω.cm-²) : Résistance série
Rsh (Ω.cm-²) : Résistance shunt