poly-2-consommation de puissance Fichier

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3A EMS
Consommation de puissance
(cours énergie pour les systèmes nomades)
Matthieu Denoual
ENSICAEN
1
Préalable : rappel transistor MOS
grille
polysilicium de grille
drain
source
substrat
(bulk)
substrat
Transistor NMOS
Energie pour les systèmes nomades
oxyde de grille
2
1
3A EMS
Préalable : rappel transistor MOS
VGS0V
VDS=0.1V
formation d’une région appauvrie
(depletion region)
pas de courant, car pas de porteurs de charge
transistor bloqué
3
Préalable : rappel transistor MOS
VGS0V
VDS=0.1V
formation d’une couche d’inversion
(inversion layer)
le transistor devient passant
la valeur de VGS pour laquelle cela
a lieu est la tension de seuil VTH0
VTH 0  MS  2 F 
Energie pour les systèmes nomades
Qdep
Cox
4
2
3A EMS
Préalable : rappel transistor MOS
VGS0V
VSB=0V
VDS=0.1V
VGS0V
VB<0V
VDS=0.1V
VSB=0V
effet de polarisation du substrat
VTH  VTH 0  γ

2F  VSB  2 F

VSB>0V
γ coefficient d’effet de polarisation du
substrat (0.3 à 0.4 V0.5)
5
Préalable : rappel transistor MOS
modèle électrique
modèle logique
NMOS
PMOS
6
Energie pour les systèmes nomades
3
3A EMS
Préalable : flot de conception de circuit intégré
PMOS
NMOS
…
…
…
transistors
MOS
portes
logique
(CMOS)
composants
élémentaires
7
Préalable : flot de conception de circuit intégré
librairie de
composants
raffinement de la spécification
synthèse architecturale
niveau architectural
+
librairie
de portes
synthèse logique
niveau logique
librairie de
transistors
synthèse physique
niveau physique
librairie de
masques
abstraction des paramètres physiques
Z=X+Y
niveau algorithmique
synthèse des masques
niveau topologique
8
Energie pour les systèmes nomades
4
3A EMS
La problématique de la dissipation de puissance
Pourquoi doit-on considérer la dissipation de puissance ?
Puissance moyenne et pic
Poids/volume des batteries pour les applications portables
Défaillances dues à la température
Label faible-consommation, aspect écologique
Coût du packaging et système de refroidissement
Pentium III power density (W/cm²)> hotplate
Core i7 quad 110 W pleine charge
ARM Cortex A8 (iphone) 300 MHz, 1,25 W
Répartition de la puissance
dans un PC de bureau
9
La problématique de la dissipation de puissance

Pourquoi est-ce un enjeu réel aujourd’hui ?
P  f freq, nbtr ,  , leakage
Intégration : milliards de transistors
Vitesse, fréquence : GHz
Limites du Deep-submicron : la réduction de la tension d’alimentation n’est
plus une solution
Applications portables : tablette, 3/4G communications...

Besoin de plus de puissance
Plus de puissance dissipée
Réduire la dissipation de
puissance lors de la conception
Techniques de réduction de la
consommation
Nécessaire de connaître les sources de
dissipation de puissance
Energie pour les systèmes nomades
Traiter les conséquences de
la dissipation de puissance
Refroidissement
Récupération d’énergie
10
5
3A EMS
La problèmatique de la
dissipation de puissance
Pourquoi est-ce un enjeu réel aujourd’hui ?
Pour les applications portables
Les innovations technologiques
dans le domaine des batteries ne
suivent pas le rythme de croissance
de la dissipation de puissance
Pour les applications de bureau
La capacité des systèmes de
refroidissement ne suit pas le
rythme de croissance de la
dissipation de puissance
11
Vdd
Sources de dissipation de puissance
Pour les circuits numériques
Deux aspects différents : Pcell  Pstatic  Pdynamic ( )
Puissance dynamique : activité
Vent
Vsort
P  CVdd2 F
Puissance de fuite (leakage power)
Impacts différents
Q
Vss
V
dd
1
E stockée   V (t )dq   V (t )CdV  CVdd2
2
0
0
Différentes techniques de réduction
Psub  Cox
 V  Vth  VDS
W
exp GS
L
Vt


  Vdd

2
V 
  aTox 
  Vdd
PIg   dd  exp
 Tox 
 Vdd 
Isub : courant de fuite sous le seuil (subthreshold off state leakage current )
Ig : courant de fuite par effet tunnel (gate tunnelling leakage current)
Id : courant de fuite de jonction inverse (reverse junction leakage current)
Igidl : courant de fuite induit par la grille (Gate Induced Drain Leakage)
Ipt : courant de fuite transistor à canal court (Drain Source Punch Through)
12
Energie pour les systèmes nomades
6
3A EMS
Source de dissipation de
puissance
Puissance statique VS puissance active
Technologie sub-micron  50/50
Application portable
Emballement thermique
Data [XIILINX]
13
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau physique/transistor
Diminution de la tension
» (voltage scaling)
Vdd 
P  CVdd2 F
Pactif 
délai 
Vth 
delay 
Pactif
délai 
Vdd
Vdd  Vth 2
Pfuite 
•
Marge de bruit
Limites
Performances, délai varie en 1/Vdd , et croit quand Vdd proche de Vth
Matériaux, structures :
– Silicium contraint
– Diélectriques grand ou faible permittivité (High-K, low-K)
– Interconnections
– Transistors 3D Tri-gate [INTEL]
14
Energie pour les systèmes nomades
7
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
W
I D  µCox
Niveau physique/transistor
L
Silicium contraint
Cible la puissance statique  plus grande mobilité des porteurs
–  permet un grand ID tout en ayant un grand Vth
Vdd  Vth 2
PMOS : déformation en compression uniaxiale du canal par du SiGe : > %40 Idsat
NMOS : déformation en traction uniaxiale du canal par du Si3N4 fortement contraint : > %17 Idsat
PMOS
NMOS
Augmente Ion (actif) à Ioff (statique) constant
[INTEL]
15
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau physique/transistor
Interconnexion
Oxyde de carbone dopé Low-k, interconnexions en cuivre
Cu : 1,69 µOhm.cm, Al 2,67 µOhm.cm
[INTEL]
16
Energie pour les systèmes nomades
8
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau physique/transistor
Diélectriques faible permittivité (low-K)
Compatibilité de process (adhésion; expansion thermique)
Qualité de la couche “floconneux”
[MAEX]
17
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau physique/transistor
Fuite du courant de grille (gate current leakage)
Réduite en augmentant l’épaisseur d’oxyde Tox
Fuite du courant de jonction (junction current leakage)
Minimisé par une implantation moins endommageante (implantation engineering)
Fuite de courant sous le seuil (subthreshold)
Réduite par l’augmentation de la tension de seuil Vth
18
Energie pour les systèmes nomades
9
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau physique/transistor
Courant de fuite d’oxyde de grille
High K (20-50) diélectrique (HfO2)
2
V 
  aTox 
  Vdd
PIg   dd  exp
 Tox 
 Vdd 
Faible champs de claquage diélectrique, interface médiocre avec Si
Faible mobilité des électrons/trous
[KIM]
19
Techniques de réduction de la
dissipation de puissance
Grille 3D Tri gate [INTEL]
Transistor 3D sur un substrat fortement appauvri
Courant de drain amélioré (45% vitesse de commutation)
Courant de fuite réduit dans l’état bloqué (“off” state) (50x)
High-K, Silicium contraint
[INTEL]
Améliore à la fois les performances et l’efficacité énergétique
Energie pour les systèmes nomades
20
10
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Polarisation active du substrat (active well bias)
La tension de seuil dépend de la polarisation du substrat (bulk).
VTH  VTH 0  γ

2 F
2 q s N a
Cox

2F  VSB  2 F

100mV   réduction fuite x10
mais temps de commutation +15%
surface potential

body effect
V SB source-bulk voltage
Faible Vth
Fort Vth
PMOS
Polarisation de substrat
réduite
Polarisation de substrat
augmentée
NMOS
Polarisation directe du
substrat
Polarisation inverse du substrat
Grande vitesse
Faible fuites
Vth dépend du design et du process
technologique
Typiquement :
450 mV en process 180 nm
350 mV en process 130 nm
21
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Blocage de la puissance (power gating) (MTCMOS Multi-threshold CMOS)
Cible la puissance de fuite
Principe : déconnecter les blocs logique de l’alimentation ou de la masse
Interrupteur MOS à fort Vth MOS en haut ou en bas du bloc
Granularité fine ou grossière
Vdd
Permet jusqu’à 90% de réduction des fuite en mode inactif
Réduction de la tension active (chute de tension)
Alimentation plus élevée
►puissance dynamique
Leakage
control sleep
mode
Dimensions plus larges
►surface,
temps power-up/down ↑
header
low Vth
device
Leakage
control sleep
mode
footer
Vss
22
Energie pour les systèmes nomades
11
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Niveau architectural
P  Ceff Vdd2 F
Parallélisme / pipeline
Exemple : résultats de simulation
Fclk = 25 MHz
Vdd = 5 V
P = 14,7 mW
Cref = 31 pF
Vref = 5 V
Fref = 1/40 ns
Area : 0,44 mm²
3823 transistors
23
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Parallélisme
P  Ceff Vdd2 F
Area : 0,87 mm²
7638 transistors
Cpar = 2.15 Cref
Vpar = 2.9 V
Fref = 1/80 ns
Fclk = 12,5 MHz
Vdd = 2,9 V
P = 5,3 mW
Ceff ↑
Vdd ↓
F↓
24
Energie pour les systèmes nomades
12
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Pipeline
P  Ceff Vdd2 F
Cpip = 1.15 Cref
Vpar = 2.9 V
Fref = 1/40 ns
Fclk = 25 MHz
Vdd = 2,9 V
P = 5,7 mW
Area = 0,48 mm²
Architecture
Ceff ~
Vdd ↓
F=
Vdd
Surface
Puissance
standard
5V
1
1
parallèle
2.9 V
1.98
0.36
pipeline
2.9 V
1.1
0.39
25
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Multi-coeur
Partition de l’application
“Multiple slower processors can run at lower voltage for significant overall
power savings”. Chris Rowen, Tensilica [ROWEN]
Les éléments inactifs sont mis en veille
Tension, fréquence ajustées au besoin de performance
f clk ⇒
P=
f clk
⇒V th ; V dd
N
2
C eff V dd F
P leakage
gated power blocks
26
Energie pour les systèmes nomades
13
3A EMS
Techniques de réduction de la dissipation de puissance
Modes de veille
Analyse de l’utilisation des dispositifs
Intel StrongARM SA1110 operating modes
Algorithme d’apprentissage
Diminution du nombre d’interruption
Règle :
Le temps de re-mise en route est
inversement proportionnel à la
puissance dissipée dans le mode
de veille
[XILINX]
27
Technique de traitement de la puissance/température
Packaging
Supprimer les soudure pour réduire le packaging  réduire la tension
Matériaux
Matériaux à grande conductivité thermique pour extraire la chaleur
efficacement
Refroidissement fluide : gaz/liquide
Canaux enterrés : refroidissement liquide
Tj
Rj
p
Tp
Rp
a
Ta
Intel Xeon into Dual
Retention Mechanism
28
Energie pour les systèmes nomades
14
3A EMS
Technique de traitement de la puissance/température
Thermal Interface Material
•
•
•
polymères : HLK5, PEMA
nanotubes (+polymère)
pression Mpa, Gpa pour favoriser le contact
[NI2011]
29
Conclusion
Puissance dissipée enjeu actuel
Puissance dissipée contrainte de conception
Puissance statique part plus importante avec la diminution technologique
Techniques de réduction de puissance existent
Concepteur doit connaître les sources de dissipation et les paramètres clefs les
faisant évoluer
Concepteur de processeur et les fabs semiconducteurs ont intégré la puissance
dans leur travail
Vdd ↓
activity ↓
30
Energie pour les systèmes nomades
15
3A EMS
References
“Low-power circuits and technology for wireless digital systems”, S. V. Kosonocky, A. J. Bhavnagarwala, K. Chin, G. D.
Gristede, A-M Haen, W. Hwang, M. B. Ketchen, S. Kim, D. R. Knebel, K. W., and V. Zyuban, Communication
technologies, (47), 2/3, 2003, [IBM]
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“Estimation et réduction au niveau architectural de la consommation des circuits VLSI dédiés au traitement numérique
du signal”, M. Denoual, thèse de l'université de Rennes 1, oct 2001, [DENOUAL]
“A 65nm Ultra Low Power Logic Platform Technology Using Uniaxial Strained Silicon Transistors”, C-H Jan and all, Intel,
IEDM'05 Washington DC, [INTEL]
“Low-power Digital Systems Based on Adiabatic-Switching Principles”, W. Athas, L. Svensson and J. Koller, IEEE
Trans. On VLSI Systems, 2(4), 1994, [ATHAS]
“Design of High-performance Microprocessor Circuits”, A. Chandrakasan, W. Bowhill and F. Fox, IEEE press, 2001,
[CHANDRAKASAN]
“Leakage current: Moore's Law Meets Static Power”, N. S. Kim and all, IEEE Computer Society, 2003, [KIM]
“Low Dielectric Constant Materials for Microelectronics”, K. Maex and al., J. Appl. Phys. 93, 2003, [MAEX]
“Design and Optimization of Multi-Threshold CMOS (MTCMOS) Circuits”, M. Anis, S. Areibi, M. Elmasry, IEEE Trans.
On Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, 2003, [ANIS]
“Technology Mapping for Low Leakage Power and High Speed with Hot-Carrier Effect Consideration”, C. W. Kang, M.
Pedram, Asia South Pacific – Design Automation Conference 2003, [PEDRAM]
“Activity-sensitive architectural power analysis”, P. Landman, J. Rabaey, IEEE trans. On Computer-Aided Design of
Integrated Circuits and Systems, 15(6):571, 1996, [LANDMAN]
“More cores, less power”, C. Rowen, Tensilica, New Electronics, 2006, [ROWEN]
“Decrease Processor Power Consumption using a CoolRunner CPLD”, xilinx XAPP347 (v1,0), 2001, [XILINX]
“Selective Epitaxial Growth for Buried Microchannels in Monocrystalline Silicon”, M. Denoual, O. De Sagazan and D.
Gaudin, Jpn. J. Appl. Phys. 44(7A), 2005, [DENOUALDESAGAZAN]
“An Analysis of Power Consumption in a Smartphone”, A. Carroll, G. Heiser, ¨Proc. of the 2010 USENIX Annual
Technical Conference, [CARROLL]
TIM nanotubes, http://leia2.univ-poitiers.fr/files/ps099092438.pdf [NI2011]
31
Ecrans, afficheurs
Ecran blanc/ écran noir
technologie LCD
Google
Nexus
Samsung
Galaxy S
Motorola
Droid
Apple
iPhone 4
Puissance dissipée pour un écran
blanc à luminosité maximum
0.91 W
1.13 W
0.87 W
0.42 W
Puissance dissipée pour un écran
blanc à luminosité 229 cd/m2,
écran 3.7 inch
0.91 W
0.72 W
0.46 W
0.19 W
Puissance dissipée pour une
image de Mars à luminosité 229
cd/m2, écran 3.7 inch
0.25 W
0.20 W
0.45 W
0.19 W
0W
0W
0.46 W
0.42 W
Puissance dissipée pour un écran
noir à luminosité maximum
technologie OLED
http://www.displaymate.com/
Energie pour les systèmes nomades
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16
3A EMS
Répartition de la consommation pour un ordinateur
< 5W
mW
< 5W
veille <10 W
pleine charge ~100W
~40 W
~20 W
veille ~0 W
fonctionnement 20W
5-10 W
Energie pour les systèmes nomades
0.1-1 W
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17
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