ELE004 2007-2008
Conservatoire National des Arts et Metiers
4. En déduire la valeur minimale de
N
ni
pour que l'erreur introduite en utilisant la formule
approchée de n
0
= N soit inférieure à 5 %.
exercice 2.6
On considère un barreau de silicium intrinsèque. On donne :
e = 1,6.10
-19
C, k = 1,38.10
-23
J/K, nombre d’Avogadro = 6,02.10
23
, h = 6,6.10
-34
J.s.
Masse atomique = 28,08 g.
Masse volumique = 2,33.10
3
kg.m
-3
.
Largeur de la bande interdite Eg = 1,1 eV (supposée indépendante de la température).
Concentration effective des porteurs dans la bande de conduction,
Nc T
=
310 300
19
3
2
.
atomes/cm
-3
,
Nv T
=
10 300
19
3
2
atomes/cm
-3
1. Calculer la concentration n
i
des porteurs à 300 K.
2. Le barreau est maintenant dopé à raison d’un atome d’antimoine (Sb) pour 5.10
12
atomes
de silicium. Déterminer la concentrations des impuretés introduites. Quel type de semi-
conducteur obtient-on ? (dans quelle colonne de la classification périodique se situe cet
atome?)
3. Après avoir rappelé comment on établit les expressions générales donnant les
concentrations des porteurs n et p en fonction de n
i
et des concentration des impuretés
acceptrices et donatrices, déterminer ces concentrations à 300 K.
4. On admet que le barreau de silicium redevient pratiquement intrinsèque lorsque n
i
dépasse
de 10 fois la valeur de la concentration des impuretés introduites. A quelle température
minimum doit-on chauffer le barreau pour se trouver dans un tel cas ?
exercice 2.7
On considère l'élément de semi-conducteur suivant réalisé à partir d'une plaquette de silicium
dopée avec une concentration d'atomes accepteurs Na = 10
13
cm
-3
. Par des diffusions
successives d'impuretés dans la plaquette primitive, on a introduit Nd = 10
15
cm
-3
atomes
donneurs dans la zone 2 et Na = 10
17
cm
-3
atomes accepteurs dans les zones 3 et 4. On se
place à la température de 300 K avec n
i
= 8,3.10
9
cm
-3
.