
II.2.
Chapitre 2 : Impact des techniques de contraintes sur le comportement en bruit basse
fréquence des FinFETs............................................................................................................................................ 32
II.2.1
FinFETs ayant un diélectrique à haute permittivité diélectrique de type HfO
2
.................... 32
I1.2.1.1
Spectres de puissance de bruit. Bruit inhabituel observé. Modélisation empirique du bruit
inhabituel. ............................................................................................................................................. 32
I1.2.1.2
Analyse du bruit inhabituel ................................................................................................... 34
I1.2.1.3
Origine du bruit inhabituel ................................................................................................... 38
I1.2.1.4
Origine du bruit en
dans le FinFET à HfO
2
................................................................ 39
II.2.2
FinFETs ayant un diélectrique à haute permittivité diélectrique de type HfSiON .............. 40
I1.2.2.1
Spectres de puissance de bruit. ............................................................................................. 40
I1.2.2.2
Origine du bruit en
dans les FinFETs à HfSiON ........................................................ 40
I.2.2.2.1
Fonctionnement à température ambiante. ..................................................................... 40
I.2.2.2.2
Fonctionnement à basse température. ........................................................................... 42
II.3.
Chapitre 3 : Etude du bruit dans des transistor UTBOX sur substrat SOI ........................... 45
II.3.1
Spectres de puissance de bruit. .............................................................................................. 45
II.3.2
Couplage entre les interfaces avant et arrière ........................................................................ 45
II.3.3
Origine du bruit en
dans des transistors UTBOX avec une épaisseur de l’oxyde
enterré de 8 nm et une épaisseur de film de silicium de 16 nm. ........................................................................... 47
II.3.4
Origine du bruit en
dans des transistors UTBOX avec une épaisseur de l’oxyde
enterré de 8 nm et une épaisseur du film de silicium de 6 nm. ............................................................................ 48
II.4.
Conclusion sur le bruit en
.................................................................................................... 51
PARTIE III : ETUDE DU BRUIT LORENTZIEN .........................................................
III.1.
Chapitre 1 : Bruit Lorentzien lié à l’effet kink lineaire dans des transistors PD SOI ........... 57
III.1.1
Modélisation du bruit lorentzien dû au bruit filtré par un réseau
.................................. 57
III.1.1.1
Description succincte de modèle proposé par Lukyanchikova ............................................ 58
III.1.1.2
Spectres de puissance de bruit lié à l’effet kink à différentes températures (80 K – 300 K) ..
............................................................................................................................................. 60
III.1.1.3
Modélisation du bruit associé au bruit blanc et au bruit lorentzien dû aux pièges filtrés par
le même réseau
. ...................................................................................................................................... 61
III.1.1.4
Validation du modèle de bruit associé au bruit blanc et au bruit lorentzien dû aux pièges
filtrés par le même réseau
...................................................................................................................... 65