Micro-électronique CMOS 1
INTRODUCTION
Micro-électronique CMOS 2
INTRODUCTION
ITRS : International Technology Roadmap for Semiconductor
0
2000
4000
6000
8000
10000
12000
14000
16000
18000
20000
1997
1999
2002
2005
2008
2011
2014
0
100
200
300
400
500
600
700
800
900
1000
nombre de pads par chip
longueur totale des inter-
connexions par chip (m)
paramètre métrique (nm)
wire pitch (nm)
puissance totale (W)
Micro-électronique CMOS 3
l
1995 0.5 µm
3 layers 7 layers 8 layers
120MHz 500MHz 1200 MHz
Devices
Interconnects
Frequency
2000 0.18 µm 2001 0.12 µm
INTRODUCTION
Micro-électronique CMOS 4
INTRODUCTION
Year
Bits
83 86 89 92 95 98 01 04
100K
1
MEG
10
MEG
100
MEG
1
GIGA
10
GIGA
256K
4M
64M
256
M
1G
1M
16M
4G
DRAM
Loi de Moore : Densité double tous les 18 mois
Micro-électronique CMOS 5
83 86 89 92 95 98 01 04
0.1
80286 80386
486
pentium
pentium II
1.0
0.2
0.3
2.0
0.05
Research
Channel
(µm)
Year
Pentium IV
0.03
Production
INTRODUCTION
1 / 169 100%
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