Résumé
Ce travail propose, dans le cadre de l'étude d'interfaces en analyse SIMS
(Secondary Ions Mass Spectrometry), une approche basée sur l'étude de la diffusion
assistée par l'irradiation du faisceau d'ions primaires. Le SIMS utilisé est un
IMS300 fonctionnant avec un duoplasmatron à cathode chaude et un faisceau d'ions
primaires (ou de neutres) xénon.
Au cours de cette étude, une régulation en température a été mise au point.
Elle permet de contrôler la température de l'échantillon lors des analyses, sur une
plage comprise entre -196°C et +500°C. L'étude de multicouches de
niobium/aluminium et de structures laser d'AlGaAs, à basse température, a permis
d'observer une nette amélioration de la résolution en profondeur. Une comparaison
systématique des vitesses de pulvérisation a fait apparaître que le facteur
responsable de cette amélioration était le temps d'analyse, mettant ainsi en évidence
les phénomènes de diffusion assistée par l'irradiation.
Un modèle a donc été développé autour de cette hypothèse pour rendre
compte de la diffusion et a abouti à la simulation d'analyses SIMS pour des
composés d'AlGaAs. La simulation donne des résultats, directement comparables à
ceux de l'analyse. Elle a permis de montrer, par comparaison de profils simulés et
expérimentaux, que le phénomène prépondérant, responsable de la dégradation de
profils sous faisceaux de faible énergie, est bien la diffusion assistée par
l'irradiation. La simulation a pour autre avantage, de retourner les dimensions
exactes de la structure de l'échantillon telles qu'elles étaient avant l'irradiation.
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