Diffusion Raman-Brillouin - Université Paul Sabatier
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Délivré par l'Université Toulouse III - Paul Sabatier
Discipline ou spécialité : Nanophysique
JURY
M. Adnen Mlayah
M. Daniel Alquier
M. Michel Mermoux
Mme Amal Chabli
M. Arnaud Devos
Mme Monique Dilhan
M. Gérard BenAssayag
M. Jesse Groenen
Président
Rapporteur
Rapporteur
Membre
Membre
Membre
Directeur de thèse
Directeur de thèse
Ecole doctorale : Science de la Matière
Unité de recherche : Centre d'Elaboration des Matériaux et d'Etudes strucurales (CEMES)
Directeur(s) de Thèse : Jesse Groenen et Gérard BenAssayag
Présentée et soutenue par
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LOU
Le 10 Juillet 2009
Titre : Couches supportées et membranes ultraminces à base de Silicium:
Fabrication et Spectrométrie Raman-Brillouin
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Table des Matières
Introduction...............................................................................1
Chapitre 2.: Spectrométrie Raman-Brillouin, application à
une membrane..........................................................................5
1. Diffusion inélastique de la lumière......................................................................... 5
2. Diffusion Raman-Brillouin d’une membrane simple ............................................. 6
3. Approche classique................................................................................................. 7
a. Les modes acoustiques ......................................................................................... 8
b. Le profil photo élastique........................................................................................10
c. Les cavités optiques. ............................................................................................13
d. Simulation :...........................................................................................................14
e. Du système simple aux multicouches ...................................................................16
4. Dispositif expérimental : spectromètre Raman....................................................17
a. Spectrométrie Raman...........................................................................................17
b. Spectromètres Raman..........................................................................................17
c. Bilan......................................................................................................................21
Chapitre 3.: Technologies et Méthodes de fabrication des
multicouches ..........................................................................23
1. Les différents types d’échantillons.......................................................................23
2. Le Silicium sur isolant (SOI : Silicon On Insulator)..............................................24
a. Fabrication des substrats SOI...............................................................................25
b. Variation de l’épaisseur de la couche de Si par la méthode « Piranha »...............27
3. Les membranes libres............................................................................................28
4. Nanostructuration : fabrication de réseaux nanométriques................................34
a. Lithographie par Faisceau d’électrons EBL (Electron Beam Lithography).............34
b. Par Faisceau d’Ions Focalisé ou FIB (Focused Ions Beam)..................................37
5. Bilan.........................................................................................................................40
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