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La présence du champ électrique E
i
 traduit : 
- un ralentissement de diffusion à cause des forces de répulsion 
EqF =où q représente la charge 
des électrons et des trous libres. 
-  une  différence  de  potentiel  de  jonction,  aussi  appelé  potentiel  de  contact 
timoyt
x.EU
  où 
imoy
E  représente le champ électrique moyen et x
t
 la largeur de la zone de transition. Cette largeur 
est d'autant plus faible que le dopage est important. (Présence d'ions fixes de plus en plus nombreux 
repoussant fortement les charges mobiles.) 
Remarques 
- Le diagramme des charges fixes de la zone de transition, représenté approximativement ici, en 
réalité  dépend  de  la  répartition  du  dopage,  ce  qui  permet  de  définir  des  jonctions  abruptes  ou 
progressives (dopage par diffusion, par implantation ionique, par épitaxie, par alliage, etc.). 
- La différence de potentiel appelée aussi barrière de potentiel U
t
, se situe autour de 0,7 V pour le 
silicium et autour de 0,3 V pour le germanium. 
 
2.2. Courant de diffusion et courant de saturation 
La figure suivante présente une jonction ‘rebouclée’ sur elle-même. Deux courants circulent dans le 
matériau semi-conducteur (et non dans le fil de connexion extérieur) :