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La présence du champ électrique E
i
traduit :
- un ralentissement de diffusion à cause des forces de répulsion
EqF =où q représente la charge
des électrons et des trous libres.
- une différence de potentiel de jonction, aussi appelé potentiel de contact
timoyt
x.EU
où
imoy
E représente le champ électrique moyen et x
t
la largeur de la zone de transition. Cette largeur
est d'autant plus faible que le dopage est important. (Présence d'ions fixes de plus en plus nombreux
repoussant fortement les charges mobiles.)
Remarques
- Le diagramme des charges fixes de la zone de transition, représenté approximativement ici, en
réalité dépend de la répartition du dopage, ce qui permet de définir des jonctions abruptes ou
progressives (dopage par diffusion, par implantation ionique, par épitaxie, par alliage, etc.).
- La différence de potentiel appelée aussi barrière de potentiel U
t
, se situe autour de 0,7 V pour le
silicium et autour de 0,3 V pour le germanium.
2.2. Courant de diffusion et courant de saturation
La figure suivante présente une jonction ‘rebouclée’ sur elle-même. Deux courants circulent dans le
matériau semi-conducteur (et non dans le fil de connexion extérieur) :