stage_nanosciences_16_mars [Mode de compatibilité]

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Nanoélectronique : une introduction
Abdelkader SOUIFI
INSA de Lyon
Institut des Nanotechnologies de Lyon
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
Plan
Les débuts de l’électronique : l’électron dans le vide.
L’ère de la microélectronique : la course à la
miniaturisation.
Demain: la Nanoélectronique.
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
Au début du 20ème siècle, on utilise des « tubes
électroniques » dans lesquels les électrons se déplacent dans
le vide. Les triodes et autres pentodes permettent de réaliser
les premiers amplificateurs pour la TSF (transmission sans
fil), ancêtre de la radio.
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L’électron dans le vide
Redressement des signaux:
En 1905 la diode à vide est
inventée par l'anglais John Ambrose
Fleming
Amplification des signaux:
En 1906 l'américain Lee De
Forest
invente l'audion
(triode),ancêtre du transistor.
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Les tubes électroniques
Information
amplifiée
Années 1900-1950
-
C
A
+
Grille
Information
électrique
Une dépense d'énergie importante pour chauffer la cathode
afin de libérer les électrons
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Les composants à semiconducteurs
Années 20 à 50
Cristaux de
Galène
Redressement des signaux:
La galène: PbS
- Des diodes métal / semiconducteur dans
les années 20
Le germanium:Ge
- Les premières diodes à jonction en 1942
Amplification des signaux:
En 1948, le premier transistor en Ge est
réalisé par Bardeen, Brattain et Shockley.
Prix Nobel de physique en 1956.
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Electrons dans un cristal
Emetteur
Collecteur
-
Base
+
Information
amplifiée
Information
électrique
Une économie d'énergie:
on ne chauffe plus pour libérer les électrons
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Premiers transistors bipolaires
Années 50
La base: Un barrage à électrons
Collecteur
Transistor
"Bloqué"
Collecteur
Transistor
"Passant"
Emetteur
Emetteur
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Transistors à effet de champ
Années 60
La Grille: un robinet à électrons
Source
Drain
Transistor
"Bloqué"
Source
Drain
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Transistor
"Passant"
De l’électronique à la microélectronique
Pourquoi la miniaturisation ?
Traiter l'information
Mise en forme
Transmission
Détection
Stockage
En limitant la dépense d'énergie !!
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1925 et 1930 que JULIUS E. LILIENFELD propose sa réponse aux problèmes de
consommation des tubes triodes ; dans ses différents brevets, il jette les bases des transistors à
effet de champ).
1960 : D. KAHNG et M. ATTALA réalisent le premier MOSFET
(Metal-Oxyde-Semiconductor Field Effect Transistor) grâce à l’utilisation
d’oxyde de silicium thermique.
1963 : Invention de la technologie CMOS par F. WANLASS, chez
Fairchild, technologie se distinguant par sa faible consommation.
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Premier inverseur CMOS
1961
1961 : Invention de la technologie Planar par BOB NOYCE à la
société Fairchild, il ne fallut alors que 10 ans avant de voir apparaître sur
le marché les premiers circuits intégrés.
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Microélectronique Silicium
Silicium + SiO2
Transport des électrons
Isolation électrique
Composants actifs
Composants passifs
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Technologie planar
capacité
résistance
1
1
2
n
C
A
2
n
p
diode
p+
p
n
A
p+
C
p+
Transistor MOS
S
G
p+
Transistor bipolaire
D
C
p+
p+
p
p
n
p+
p+
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B
E
n
p+
p
p+
Technologie Silicium
Plaquettes
Lingot de
silicium
Plaquettes
Silicium en
Fusion
Procédés
Photolithographie
Oxydation
Diffusion
Implantation
Dépôt
Evaporation
Tests & montages
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Masque
Report du circuit sur Si
Histoire de la Miniaturisation :
1965 : Gordon MOORE prédit que le nombre de
transistors par unité de surface doublerait tous les ans ; en fait,
les progrès technologiques ne permettront un doublement de
la densité d’intégration « que » tous les 18 mois.
Tous les 3 ans:
- Surface de puce:
x 3
- Longueur minimale:
réduction de 30 %
- Nombre de composants par puce:
x 4
- Fréquence d’horloge:
x 1,5
- Coût par transistor:
réduction d’au moins 50 %
- Coût d’une unité de production:
x 2
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POLARISATION DU TRANSISTOR MOS
VD > 0
VG > 0
+
VS = 0
G
S
D
L
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+
EXPRESSION DU COURANT
I
D
=
W
L
µ
n
C
ox
(V G
− VT
)
V
Quantité d’électrons libres
µn: mobilité des électrons
Rapport largeur (W) sur longueur de grille (L)
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D
Longueurs de grille: Les projections des industriels
(SIA Roadmap 1997)
180 nm
150 nm
50 nm
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Premier µprocesseur: des milliers de transistors
1971
1971 : Premier microprocesseur
Intel 4004, constitué de 2 300
transistors NMOS.
Transistors MOS à canal d’électrons
de 10 µm de longueur de grille et
fonctionnant à 0.1 MHz, créé par
TED HOFF, en réponse à une
commande d’un fabricant japonais de
calculatrices de bureau (Busicom).
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PENTIUM 4: 42 millions de transistors
2000
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Des transistors MOS aux dispositifs
Nanoélectroniques
1960
Transistor MOS (Atalla & Kahng)
2004
Nanotransistor MOS (ex : ST Micro)
[Boeuf, 2004]
[Kahng, 1960]
~ 45ans
1960
2004
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Evolution récente des dispositifs
2001
ST-16nm
2002
ST-38nm
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2002
IBM-6nm !!!!
En résumé
Des années 80 aux années 2000 : une succession de records du monde de la
miniaturisation en R&D industrielle :
- 1983: 140 nanomètres (Bell Labs)
- 1987: 100 nanomètres (IBM)
- 1994: 40 nanomètres (Toshiba)
- 1997: 30 nanomètres (NEC)
- 1999: 19 nanomètres (CEA-LETI)
- 2001: 16 nanomètres (ST-Micro)
-2002: 6 nanomètres (IBM)……
Des années 70 aux années 2000 : miniaturisation des transistors utilisés
dans les microprocesseurs commercialisés :
- 70-80: quelques dizaines de microns
- 80-90: quelques microns
- 90-00: dixièmes de microns
- 2000-2010: on passe en dessous de 0,1 micron (100 nm) : les débuts de la
nanoélectronique !!
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Evolution de la complexité des circuits
Premier transistor
Premier circuit
Premier
µProcesseur
Pentium 4
1948
1959
Complexité
1971
2000
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Evolution des composants CMOS
Nœ ud
Lgrille (nm)
T ox (Å)
V dd (V)
Lgrille (nm)
T ox (Å)
V dd (V)
130
90
65
45
Trans is tors Hautes Perform ances (H P)
65
45
25
18
14.5
12.5
8.5
6.5
1.2
1
0,7
0,6
Trans is tors Bas s e Cons om m ation (LP)
90
53
32
22
22
16
10
8
1.2
1.1
0,9
0,8
Tab leau 7-I : IT RS roadmap 2001
SON – 30 nm
ST
GAA – 15
nm
ST
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
32
22
13
5
0,5
9
4.5
0,4
16
7
0,7
11
6
0,6
SOI – 6 nm
IBM - 2002
La technologie CMOS dans 5 ans
Longueurs de grille : environ 10 nm
Plusieurs milliards de transistors dans les µProcesseurs
Plus de 100 milliards de transistors dans les circuits mémoires.
Une puissance dissipée de quelques centaines de watts par
microprocesseur !
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
Les limitations
1- Energétiques
2- Technologiques
Lithographie en dessous de 0.1 micron ?
Isolation de composants très rapprochés?
Interconnections des composants?
3- Physiques
Les électrons ont un caractère ondulatoire qui se
manifeste à l’échelle nanométrique.
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
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Les 2 applications du transistor MOS
Un Interrupteur
S
G
D
Une Mémoire
Grille flottante
Flux "continu"
Electrons
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Electrons
Les problèmes au dessous de 1010-20 nm
S
G
D
Les électrons ne sont
plus contrôlables !!
Le courant ne devra plus être considéré comme un flux "continu"
de particules car les électrons ont un comportement ondulatoire.
Les phénomènes quantiques deviennent
prépondérants à l'échelle nanométrique
Stage Nanosciences – 16 Mars 2010 - A. SOUIFI
Les composants nanoélectroniques
Des conducteurs, des isolants
Le caractère ondulatoire des électrons: l'effet tunnel
Le blocage de Coulomb
Maîtrise des électrons "à l'unité":
Les composants mono-électroniques
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Caractère ondulatoire des électrons
Des électrons
sur du cuivre
influencés par
des atomes de
fer
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L'effet Tunnel
Conducteur
I
s
o
l
a
n
t
Isolant épais
Conducteur
Isolant nanométrique: l'électron
est un passe muraille
Conducteur
Conducteur
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Blocage de Coulomb
Un électron passe
par effet tunnel
Conducteur
Et reste piégé
Îlot
Conducteur
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Blocage de Coulomb
Le niveau d'énergie
de la boîte à
électron monte par
effet Coulombien
Les autres électrons
sont bloqués
Îlot
Conducteur
Conducteur
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Blocage de Coulomb
Lorsque l'électron est libéré, le niveau peut
redescendre et autoriser le passage d'un 2° électron..
Îlot
Conducteur
Conducteur
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Blocage de Coulomb
Un électron passe
par effet tunnel
Conducteur
Îlot
Conducteur
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Le Transistor à Un Electron
Contrôle du niveau de l’îlot
On peut contrôler le courant électron par électron
On peut stocker un seul électron
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Les mémoires à Un Electron
10 Millions
1M
1 Million
Electrons
par
Cellule
Mémoire
DRAM
100 Mille
64G
Flash
10 Mille
64 M
Mille
256 M
FASEM
(L-SEM)
Cent
Dix
IBM
(MNV)
Hitachi (SEM)
Un
Mémoires à
boîtes quantiques
10
100
Taille (nm)
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1000
Mémoires à
quelques électrons
Conclusion
En 40 années, la microélectronique à permis à l'électronique de
devenir un grand secteur industriel ( > 1000 Milliards de dollars) avec
une croissance moyenne de 16% par an.
de nouveaux challenges technologiques apparaissent encore pour le
développement de la nanoélectronique.
les enjeux demeurent très importants car on prévoit encore une
croissance de l'électronique dans les prochaines décennies .
Les MOSFETs sont encore pour de nombreuses années les
composants incontournables avant l’arrivée des SET et SEM.
La rapidité des circuits sera limitée par les interconnexions: c'est
là que l'électronique aura besoin des photons !!!
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