Sommaire
R´esum´e v
Abstract vii
Introduction ix
1 Cristaux photoniques: principe et concept 1
1.1 Le cristal photonique `aunedimension .................. 1
1.2 Ouverture d’une bande interdite omnidirectionnelle . . . . . . . . . . . 3
1.3 Cristaux photoniques tridimensionnels . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
1.4 Cristauxphotoniquesbidimensionnels................... 6
1.4.1 Pertesoptiques ........................... 8
1.4.2 Param`etres du r´eseau........................ 10
1.4.3 Techniques de mod´elisation .................... 10
1.4.4 Diagrammedebandes ....................... 14
1.4.5 Cartesdesbandesinterdites .................... 15
2 Fabrication des cristaux photoniques 17
2.1 H´et´erostructureverticale.......................... 18
2.2 Cristauxphotoniques............................ 18
2.3 Etapesduprocessusdefabrication .................... 19
2.4 Masque de silice . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20
2.5 Lithographie ´electronique.......................... 20
2.6 Techniques de la gravure s`eche....................... 22
2.7 Conclusion.................................. 25
3 Descriptions de la structure verticale des ´echantillons 27
3.1 H´et´erostructuresursubtratInP...................... 27
3.2 H´et´erostructuresursubstratGaAs .................... 29
4M´ethodes de caract´erisation optique 31
4.1 Principedelasourceinterne........................ 31
4.1.1 Nature des signaux collect´es.................... 32
4.1.2 Montageoptique .......................... 35
4.2 Exp´eriencedetype”endfire”........................ 37
4.2.1 Montageoptique .......................... 38
4.2.2 Caract´erisation optique du dispositif exp´erimental........ 39
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