Le carbure de silicium SiC est un semiconducteur présentant de nombreuses propriétés physiques intéressantes pour des applications en optoélectronique (gap direct de 2.4 à 3.3 eV selon les polytypes), à haute fréquence (grande mobilité de porteurs), en milieu extrême (grande stabilité thermique, résistance chimique, et conductivité thermique), et à champ électrique élevé (champ de claquage élevé). Des diodes Schottky fonctionnant à 500°C ont déjà été réalisées avec succès. L'oxyde thermique de SiC est le SiO2 comme pour le silicium, et dans tous les dispositifs envisagés jusqu'à aujourd'hui, c'est le SiO2 thermique qui sert d'isolant (par exemple c’est le diélectrique de grille pour les transistors MOSFET en SiC), sans doute à cause de la formation aisée de cet oxyde. Néanmoins, dans les applications futures sous grand champ électrique, ce qui est possible avec SiC, le champ local atteint dans l'oxyde, peut excéder le champ de claquage du ε 9.66 SiO 2 E SiO = E SiC SiC = E SiC 3.9 ε SiO 2 2 Un isolant de plus grande constante diélectrique permettrait de re-pousser cette limite en réduisant le champ local dans l'isolant pour un même champ macroscopique appliqué. Au sein du groupe « Physique des films minces » du LPGP un thème de recherche consacré à l’étude de films minces isolants et amorphes (tels que SiO2, Si3N4, La2O3 ou LaAlO3) dédiés à la réalisation de diélectriques de grille a été développé au cours de ces dernières années. Ce groupe possède la maîtrise des dépôts par pulvérisation cathodique magnétron, ainsi que de la préparation de structures MOS et des mesures électriques associées [caractéristiques C(V,T) et I(V,T)]. Dans ce contexte, nous proposons un sujet de stage concernant le matériau HfO2 à forte permittivité (å environ 20) déposé par pulvérisation cathodique magnétron d’abord sur Si (pour optimiser les conditions de dépôt), puis sur SiC, avec éventuellement une couche mince intermédiaire de SiO2. Dans le cadre de ce stage, l’étudiant devra corréler les différentes propriétés du film (composition du film déterminée par microanalyse nucléaire, permittivité déduite des courbes C(V)…. aux espèces présentes dans le plasma détectées par spectroscopie d’émission optique.