Physique des composants à semiconducteurs (puissance, T)

publicité
Intégration des composants de puissance
Physique des composants à
semiconducteurs
(puissance, T)
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
40
Physique des composants à semiconducteur
Reférences
B. J. BALIGA, Modern Power Devices, Krieger, Florida
H. Mathieu, Physique des semiconducteurs et des composants
électroniques, Masson, Paris
Martin Lades, Modeling and Simulation of Wide Bandgap
Semiconductor Devices: 4H/6H-SiC, PhD, Munich
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
41
Physique des composants de
puissance à semiconducteur
IV
Classification périodique,
B
C
N
O
F
Ne
Al
Si
P
S
Cl
Ar
Cu Zn Ga Ge As Se Br
Kr
chimie
(le russe Dimitri Mendeleïev)
Ni
Pd Ag Cd In
Pt
Sn Sb Te I
Au Hg Th Pb Bi
Conducteur
Po At
Xe
Rn
Semiconducteur
Isolant
Cu, Ag, Al, Si, SiC, GaN, Diamant, AlN, Si 3N4, SiO2
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
42
électron libre
Les forces de Coulomb deviennent
très faibles.
C'est un électron libre !
Il ne tourne plus autour d'un
atome ou de 2 atomes.
Excitation
= apport d'énergie
Un électron = une
charge Il reste une
charge + !
Un trou !
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
43
Semiconducteur ?
Effet de moyenne sur un nombre important de maille
e-
Donc un semiconducteur
= de nombreuses mailles !
Si la structure est trop petite: fin de la loi de Moore !
Électronique moléculaire
Moyenne => équations des semiconducteurs
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
44
Interface d'un semiconducteur
e-
Force de repulsion !
Affinité électrochimique = Evide - Eréseau
Diode schottky, contact ohmique
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
45
Bande interdite
E
Bande de conduction
(électrons libres)
Bande
interdite
Ec =Ec p 
Eg
E G =q U G

p =h 
k
Bande de
valence
(trous)
n i =2

2  m e m cv k B T
h2
3
2
  
−U G
exp
2 uT
sc
Si
SiC-4H
GaN
Diamond
2

T
U G =U G0 −
T 
U 0 (V)
α
β (°K)
-4
1,17 4,73 x 10
636
3,26 3,3 x 10-4
0
3,613 x 10-4
0
G
5,46
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
46
Impuretés dopantes
III
IV
V
B
C
N
Al
Si
P
Ga Ge As
In
Type
P
Type
N
B,
Al
N
P,
As
Sn Sb
Type P =
accepteur,
Type N =
donneur
Activation = f(T)
a
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
47
Génération recombinaison
Mécanismes de générationrecombinaison de paires électron-trou
SRH (Shockley-Read-Hall), un piège
intermédiaire.
Auger (électron + trou), surtout à forte
densité de porteurs
U=USRHU auger U avalanche
Avalanche ...
USRH =
pn−n 2i
 p n n p0 n i
n = concentration en électrons,
p = concentration en trous,
ni = concentration intrinsèque ,
τn = durée de vie des électrons,
τp = durée de vie des trous,
τ0 = constante de temps de
génération dans une zone désertée,
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
48
mobilité
1
1
=∑

i
n =
q nm
mn
La mobilité résulte de plusieurs phénomènes
de frottement (collisions). Les fréquences
s'ajoutent ...

un = n E
(Modèle de Caughey-Thomas)
=
 LF
 1

  
 LF E
1
v SAT
0300
 LF =

 
T
300
 
ND 
1
T
CR
mat (cm2/V/s) Si SiC-4H GaN
µ300n0
1400 1000 900
µ300p0
471
115
850

un
vSAT
Diamant
1900
1600
E
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
49
Équations des semiconducteurs
électrique


div E=

conservation
du nombre
dérive-diffusion


E=−
grad 
=q p−n
∂n
−q
div 
J n =q U
∂t
Medici,
∂p
q
div 
J p =−q U Dessis,
∂t
Sentaurus



J n =q  n n Eu
T grad n

J p =q  p p 
E−u T
grad p
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
50
Dérive-Diffusion
 n
 u T grad
Jn =q n n E
dérive
diffusion
R. U.
R. U.
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
51
Solution exacte = résistivité
équilibre thermodynamique
État statique, sans déplacement de porteurs
la neutralité électrique,
L'équilibre des concentrations,
=q p−n=0
pn=ni2
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
52
Résistivité d'une couche
A l'équilibre
p 0 n 0=n 2i
n 0≃N D
n 2i
p0 ≃
ND
neutre
=0=q p 0−n 0 
p0 ≃N A
n 2i
n 0≃
NA
minoritaire
majoritaire
R N=
1
L
q n N D S
R P=
1
L
q p N A S
1013 cm-3 < NA, ND < 1020 cm-3
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
53
Intégration des composants de
puissance
La jonction PN et la diode
PiN
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
54
Jonction PN - biblio
références
B. J. BALIGA, Modern Power Devices, Krieger, Florida
H. Mathieu, Physique des semiconducteurs et des composants
électroniques, Masson, Paris
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
55
La diode PiN (P+NN+)
P+
N
N+
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
56
La jonction PN
P
Zone de
Charge
d'Espace
P
N
- +
-
+
N
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
57
Modèle de Shockley
Cathode
anode
i
Approximation:
désertion complète
(Shockley modèle)
v
-xA
E
xD
Hypothèse de désertion: n,p << |Γ|
hauteur de barrière de potentiel
d'une ZCE.
-EM
ξA
v
ψ
ξA
uB
vA
u B =  x D −  x A 
vD
N A x A =N D xD
u B=
w=x Ax D
q N A x 2A N D x 2D 
2
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
58
Modèle jonction P+N
si la jonction est asymétrique, NA >> ND.
u B=
q ND w2
Em =
2
q ND w

La jonction pn est faiblement déséquilibrée !
v BI =u T log
v= v BI − u B
Dans la ZCE pn=n 2i exp 
N A ND
n
2
i

v

uT
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
59
Jonction PN : rôle de T
v BI =uT ln

Na Nd
n 2i

ni =n
300K
i
3
2
   
uT
uT300K
−U G
exp
2uT
    
uT
Na Nd
v BI =uG uT ln
−3 ln 300K
300K
ni
uT
v BI ≈uG
VBI ~ 1V pour le silicium, 3V pour le SiC
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
60
La diode PIN
Simulation : le profile de dopage Γ(x)
couche diffusée P+
couche épitaxiée N
substrat N+
 x 
la jonction PN
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
61
La diode PIN
Simulation : la ZCE à l'équilibre
(x)
p(x)
n(x)
ZCE
désertion ?
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
62
Simulation : la ZCE et le champ
Champ électrique
triangulaire
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
63
Simulation : la ZCE et uB
uB
w
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
64
La diode PIN
Simulation : la ZCE et v = vBI - uB

n=n i exp
uT
v=v BI −u B
n=N D
M2
vA
ND
=u T ln 

ni
uB
M1
vc
NA
=−ln 

ni
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
65
La diode PIN
en polarisation inverse
vc
v = vBI – uB = -10 V
uB
vA
M1
M2
Courants de fuite
En polarisation inverse ...
Courant de diffusion
q D p S n 2i
is=
LDp N D
courant de génération:
q n i S 2  u T v BI−v
iG=
0
q ND
uT
soit
iR ∝  v R
Qp
v
i= =iS exp −1
p
uT
 
i
v
Rôle de la température !
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
67
tenue en tension
Avalanche par ionisation
U ion = p p∥vp∥ n n∥vn∥
vitesse d'ionisation
porteurs chauds ? (!)
tenue en tension de la diode PIN
WB
ND
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
69
en direct
La diode PIN en polarisation directe
v = vBI – uB ~0,5 V
ZCE
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
70
La diode PIN
La diode PIN en forte injection
en forte injection
ZCE
v = vBI – uB ~1 V
p=n > ND
ND
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
71
la diode PIN en forte injection
(zone neutre !)
n=p >> ND
USRH =
=n  p
2
p n−n i
n p p n 0 n i
D=
2 n  p
n p
uT
équation de diffusion
∂p
p

ambipolaire
=div D grad p−
∂t

Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
72
la diode PIN en forte injection
équation de diffusion
ambipolaire
∂p
p

=div D grad p−
∂t

chute de tension
u FI=r FI iu D
très faible: qq 10mV
une diode PIN a une chute de tension proche de Ug !
quelque soit le calibre en tension !
mais ... lent = recouvrement de la charge
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
73
Conclusion sur la diode PIN
tenue en tension
v BR T , N D , W B 
chute de tension à l'état passant
d
v ON T ,S , W B ,  ,
~EG T
dx
rapidité
t RR T ,  , S , N D , W B 
Hervé Morel, http://hmorel.ampereforge.org
74
IGBTs & Superjunction MOSFETs
 IGBTs

They are very near the silicon limits

Trench IGBTs have clearly reduced the OnLosses

Low cost 1200 V applications

Low Short-Circuit Robustness (175 °C)
Field Stop Trench IGBT
Fairchild 2008
 Superjunction MOSFETs
– Low RON
– Some improvements are still possible
– Fine pitch technologies required (Cost)
– Low Short-Circuit Robustness (175 °C)
2009
75
75
Ampère Lab
CNRS Associated Lab 5005
Electrical Engineering, Electromagnetism, Control, Environmental Microbiology and Applications
Le carbure de silicium, SiC
et les matériaux à grands gaps
WBG1
WBG1 = Wide Band Gap
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
76
Pourquoi un intérêt pour le SiC ?
Matériaux « grand gap » (meilleur isolant)
Si-diamant (1,12 eV), SiC-4H (3,26 eV),
GaN (3,36 eV), C-diamant (5,47 eV)
Diamant: le matériau ultime!
Photo-switch, diode schottky.
GaN
SiC
Croissance sur Si, SiC, Saphir
composants unipolaires 600V à 1200 V
( Intégration de surface !)
Phase de commercialisation
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
77
La bataille des technologies
 Grand gap ou silicium ?

silicuim : superjunction ou trench IGBT
SiC : faibles pertes, haute température, haute tension
– GaN : faibles pertes, faibles coût

600V
1200V
> 2000V
Si-Superunction
SiC
GaN
Si-IGBT
SiC
GaN
SiC
L. Lorentz, INFINEON, SiC & GaN Forum, Birmingham, 2011
78
78
Tenue en tension: jonction PiN
WB
ND
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
79
Tenue en tension: jonction PiN
WB
ND
Compromis Von (Ron) VBR !
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
80
Résistance spécifique
Si M
W BM V BR 
 N=
q n N DM V BR 
ET
F
S
O
COOLMOS
INFINEON JFET
CREE
MOSFET
FAIRCHILD
BJT
SEMISOUTH
JFET
1200 V
600 V
IR GaN HEMT
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
81
Unipolaire ou bipolaire ?
On-current, i
Device
R-like
Slow
Diodelike
Fast
Diodelike
V ON (T)
Schottky
EB (T)
r EPI (T)+...
#
jun
c.
switchin
g
0
Unipolar
Bipolar
PIN
UG (T)−... r N  , i , T 
1
IGBT
UG (T)−... r N  , i , T 
1 or mixte
3
BJT
0
r N  , i , T 
2
Bipolar
JFET
0
r EPI (T)+...
0
Unipolar
MOSFE
T
0
r EPI T...
2
Unipolar
On-voltage,v
v=V ON ( T)+R ON (T , i) i
R ON (T , i)
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
82
Pertes à l'état passant

Diodes, IGBT …

Parallélisation peu
intéressante
 Composants sans seuil

Densité de pertes QON
QON ≃

2
G
U
ON  VBR 
Limite d'intérêt unipolaire /
bipolaire
Power Density QON (W/cm²)
 Composants à seuil
GaN
SiC
Si
IGBT
INFINEON
JFET
INFINEON
HEMT
IR
CoolMOS
600
1200
Voltage VBR (V)
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
83
Emballement thermique de la
jonction PN
Tenue en Temperature
n i  T  N D  V BR 
 Emballement thermique
du semiconducteur
 Emballement thermique
du composant (RTH)
 Circuits intégrés SOI
Haute température
(drivers)
 Circuits intégrés GaN &
SiC Haute température
(drivers)
 Robustesse en courtcircuit des composants
SiC
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
84
Emballement thermique
jonction PN
Les composants
en silicium
Tenue aux
surcharges
SOI – 80V
220°C
COOLMOS 600V
VDMOS 600VIGBT 1.2kV
->200°C
175°C
IGBT 6kV
125°C
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
85
Applications hautes
températures
T =T J −T A =RTH P
Ambiance à haute température
Avionique
Forage
...
T A  ⇒T J ⇒ 
Augmentation de la densité de pertes
P ⇒TJ 
ISP
Diminution du système de refroidissement
embarqué
RTH  ⇒ T J 
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
86
Etat de l'art
des composants de puissance en SiC
composant
IMAX
VMAX
Schottky
20 A
1,2 kV – 10 kV
Diode PiN
100 A
20 kV
MOSFET
10 A
1,2 kV – 10 kV
JFET
20 A
1,2 kV - 9kV
BJT
20 A
1,2 kV – 5 kV
Th/GTO
50 A
6,5 kV – 13 kV
IGBT
10 A
13 kV
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
87
Mesures en mode onduleur
Electronique de puissance haute
température
Four à air pulsé
SMI
Plaque à eau
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
88
Electronique de puissance haute
température
Vout
Iout
Tj ≥ 300°C
365V
1A
FMLI = 100kHz,
Fs = 10kHz
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
89
Vers l'onduleur HT
Fiabilité: assemblage + packaging !
Condensateurs: 200°C (film, céramique)
Composants magnétiques:
300°C -> 500°C (composant nano)
Drivers: -40V, normalement passant
Sécurité: normalement passant !
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
90
Électronique de puissance
très haute tension
Composants 15kV -> 30kV
Bipolaire (BJT), diode PIN, Thyristor ...
USA: IGBT 15 kV
Applications:
Traction ferroviaire
distribution de l'électricité
100 à 300 G€/an
Enjeu: ISP-HV, isolation, drivers, refroidissement
PV, distribution CC ...
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
91
Resistive-like Devices
Si
Graph not convenient
for IGBTs !
Die parallelization
enables a reduction of
the on-losses.
CoolMOS
INFINEON
G
aN
VJFET
INFINEON
4H
-S
iC
SF
ET
M
O
Si-MOSFETs are very
near the theoretical
limit
Specific On-Resistance, ρON (Ωcm²)
Commercial devices:
MOSFET
CREE
BJT
Fairchild
VJFET
SEMISOUTH
HEMT
IR
100
200
600
1200
Breakdown Voltage, VBR (V)
92
Les Composants de puissance
à haute tension
Resistive & Diode-like limits of interest
VDMOS CoolMOS
VJFET
IGBT
thyris.
BJT
Th.
1
100
Ga
N
0.01
 100 W/cm² à 300 W/cm²
Power Density, QON (W/cm²)
4H
-Si
C
Si
Breakdown Voltage VBR (V)
93
Tenue en température
1000
300
COOLMOS 600 V
200
 Meilleures robustesses
pour les composants en
SiC
GaN
SiC-JFET 1.2 kV
IGBT 1.2 kV
IGBT 6.5 kV
SOI IC
Thyristor 12 kV
MOSFET 600 V
Si
100
 Les composants
commerciaux sont
proches des limites
Semiconductor Runaway Temperature (° C)
4H-SiC
94
Breakdown Voltage, VBR (V)
94
Questions ouvertes
VN(IF)
BJT
VBI
 Architecture
GTO,
PIN,
IGBT
Multiniveaux ou mise en série?
 Vitesse de commutation
– Durée de vie ambipolaire 1 µs →
10 µs
 Switching Frequency up to 30
kHz
ICSCRM 2009 9 kV, 1 cm²
SiC Gate Turn-Off Thyristors, CREE
95
95
Questions ouvertes (2)
 Composants SiC bipolaires de puissance (15 kV) va impacter la
distribution et le transport de l'électricité
 Rendement théorique > 99.x %
 L'électronique de puissance peut être le système de sécurité (courtcircuit, foudre ...).
 Des composants spécifiques pourront être développés: limiteur de
courant and limiteurs de tension ...
96
96
Conception d'un convertisseur
100 MW, 300kV
 100 MW, 300 kV < 1 cm³ (SiC)
 Et la thermique ?
 Et l'isolation ?
 Il faudra faire plus que de simple module hybride
 Conclusion : 100 MW, 300 kV < quelques litres
(refroidissement + isolation)
97
97
ISP : conclusion
SiC
ISP HT
Moteur actuel (pas faisable en silicium)
ISP HV
Fort enjeu de société
ISP EE
Efficacité Energétique
Multidiciplinaire ...
Si,
SiC
...
Intégration actionneur
fiabilité
Expertise ISP (conception, modélisation,
analyse)
Hervé MOREL, http://hmorel.ampereforge.org
98
SiC Devices: SiC-MOSFET
– RON is limited by channel mobility
– Commercially available from 2011
• CREE, ROHM ...
– Carrier injections in the oxide
– Some degradations at high temperature
A. J. Lelis at al. 2011
US Army Research Laboratory
99
99
SiC Devices: SiC JFETs
V T0 T=V BI T−V P
Blocking GS voltage
V BI
0 =
VP
N N
Building potential V BI=U G T−U T ln AA DD ≃2.8 V
NA ND
q ND a2
Pinch-off voltage V P=
2
Channel resistance R CH =

L
2 q N D n ND a Z

3
VP
1−3 0 2 02
Saturation current I =
R CH
SS
D
Normally Off :

V T00⇒ V P V BI

Morel at al. EPE 2011
So, the pinch-off voltage is small
So, the saturation current is small !
100
SiC Devices: JFETs
 SEMISOUTH JFETs
 All JFETs
No oxide/channel mobility
reduction
– RON improvement are expected
– vertical channel structure

80 mΩ - 1200 V – Tch < 150 °C
K. Matocha, ECPE, SiC & GaN User Forum, 2011
80 mΩ - 1200 V – Tch < 150 °C
Normally Off
Normally On
V T0≃1 V
V T0 ≃−5 V
SS
D
I ≃30 A
I SS
D ≃55 A
101
SiC Devices
 INFINEON JFETs

2 channel structures

Normally-on
70
60
V
50
I D S [A ]
40
GS
=-2 V
V
GS
=-4 V
V
V
20
V
V
10
=0 V
V
V
30
GS
GS
GS
=-6 V
100 mΩ - 1200 V – Tch < 300 °C
=-8 V
=-1 0 V
GS
GS
=-1 2 V
V T0≃−15 V
=-1 4 V
GS
Extensively tested at high temperature !
0
0
5
10
15
V
DS
20
I SS
D ≃65 A
25
[V ]
18
102
SiC Devices
 (Fairchild) BJTs
– Low injection ?
– Weak dependence on the temperature
103
103
Téléchargement