FABRICATION DE MIROIRS DE BRAGG PAR FAISCEAUX DIONS FOCALIS ´
ES
DANS DES GUIDES Ti :LiNbO3
K. GHOUMID1, R. FERRIERE1, B.-E BENKELFAT2, G. ULLIAC1,
R. SALUT1et N. BEN SEDRINE1
1Femto-St/Laboratoire D’optique P.M. Duffieux -UMR, 6174, 16 route de Gray, 25030 Besanc¸on
Cedex (France).
2Institut Telecom; Telecom & Management Sud-Paris; Samovar UMR CNRS 5157, D´
epartement
´
Electronique et Physique, 9 rue Charles Fourier 91011 Evry Cedex (France).
R´
ESUM ´
E
Nous pr´
esentons ici une m´
ethode de nanostructuration de r´
eseaux de Bragg bas´
ee sur une
technique de gravure par faisceaux d’ions focalis´
es. Les r´
eseaux sont fabriqu´
es sur des guides
d’ondes diffus´
es Ti :LiNbO3.Lam
´
ethode utilis´
ee est simple dans son principe compar´
ee
aux m´
ethodes holographiques puisque l’´
ecriture de r´
eseaux se fait directement. Cette tech-
nique nous a permis d’inscrire des r´
eseaux de Bragg dont les performances au niveau de
la r´
eflectivit´
e et de la bande passante sont int´
eressantes pour des applications futures qui
concernent la fabrication de cavit´
es fabry-P´
erot int´
egr´
ees en particuliers.
MOTS-CLEFS :R´
eseau de Bragg ; Faisceau d’ion focalis´
e ; Transmittance.
1. INTRODUCTION
Parmi les m´
ethodes les plus utilis´
ees pour la fabrication des r´
eseaux de Bragg on trouve La m´
ethode
photor´
efractive [2], la gravure s`
eche RIE (Reactive Ion Etching) ou profonde ’Depth’ (DRIE) [3], l’abla-
tion laser [4], l’´
echange protonique [5].
La majorit´
e des ces m´
ethodes demandent de nombreuses ´
etapes de fabrication (pr´
eparation du masque,
lithographie, d´
eveloppement du r´
esine, gravure ...). La technique utilis´
ee pour la fabrication des r´
eseaux
de Bragg par FIB (focused ions beam) r´
eduit drastiquement le nombre de ces ´
etapes puisque la gravure
est faite directement et sans l’interm´
ediaire d’un masque. L’avantage principal de cette technique est
l’obtention de r´
eseaux de Bragg dont les dimensions peuvent ˆ
etre inf´
erieures `
a 100nm, ce qui est presque
impossible avec les autres m´
ethodes cit´
ees pr´
ec´
edemment.
2. M´
ETHODE DE FABRICATION
Le faisceau d’ion focalis´
e est une technique utilis´
ee en particulier dans les domaines des semi-
conducteurs et des sciences des mat´
eriaux pour l’analyse et le d´
epˆ
ot. Le FIB utilise un faisceau d’ions
de gallium Ga+qui apr`
es acc´
el´
eration entre en collisions avec la surface de l’´
echantillon `
a graver. Le
concept le plus largement admis pour des interactions ion-solide est le mod`
ele de cascade de collision
[1]. Si l’´
energie de translation transf´
er´
ee `
a un atome cible pendant une collision d´
epasse une valeur cri-
tique appel´
ee ´
energie de d´
eplacement, l’atome sera ´
eject´
e hors de son emplacement original et peut ˆ
etre
´
emis hors du solide. Ainsi les ions Ga+sont concentr´
es sur l’´
echantillon en suivant le mod`
ele d´
esir´
e. La
quantit´
edemat
´
eriau enlev´
ee d´
epend du dosage. L´
energie de d´
eplacement (typiquement sur l’ordre de
20eV ) est beaucoup plus grande que l’´
energie de liaison des atomes (de l’ordre de 1eV ). Apr`
es un certain
nombre de collisions au cours de la gravure du mat´
eriau, une grande quantit´
e de mati`
ere enlev´
ee vient
se red´
eposer dans le trou grav´
e. Cette red´
eposition explique l’inclinaison (86opar rapport `
a la normale)
des profils des trous obtenus apr`
es gravure, ce ph´
enom`
ene est illustr´
e sur la figure 1. Lorsque les ´
energies
de toutes les particules participant `
a la cascade descendent au-dessous de l’´
energie de d´
eplacement, la
gravure ne peut plus continuer.
m
Ti:LiNbO
3
Croix
d’alignement
LiNbO
3
LiNbO
3
FIG.1:Une vue de cˆ
ot´
e(
`
a gauche) o`
u on voit l’inclinaison des flans, et une vue dessus (`
a droite) d’un r´
eseau apr`
es gravure
par FIB.
3. R´
ESULTATS EXP ´
ERIMENTAUX
Le r´
esultat de la gravure par FIB d’un r´
eseau de Bragg dans un guide d’onde Ti :LiNbO3est
montr´
e sur la figure 1. Les performance d’un tel r´
eseau de Bragg sont ´
evalu´
ees `
a partir de la variation de
transmittance optique du guide en fonction de la longueur d’onde. Le montage exp´
erimental utilis´
e pour
mesurer cette transmittance T(
λ
)est donn´
e dans la figure 2, il est compos´
e d’une source laser Tunics
dont la longueur d’onde est accordable entre 1500 et 1640nm. Le faisceau laser est focalis´
e sur la face
d’entr´
ee du guide d’onde au moyen d’un objectif de microscope. La lumi`
ere sortant du guide est colli-
mat´
ee grˆ
ace `
a un objectif de microscope et inject´
ee dans une fibre optique connect´
ee `
a un analyseur de
spectre optique. La courbe de transmission obtenue est repr´
esent´
ee sur la figure 3, elle centr´
ee autour de
1552nm, et elle a une largueur de bande de 12nm `
a mi hauteur.
L1L2L3L4
P
OSA
Tinusc
FIG.2:Sch´
ema du montage exp´
erimental de la mesure de la transmittance.
4. CONCLUSION
Nous avons montr´
e la faisabilit´
e de notre m´
ethode en r´
ealisant des r´
eseaux de Bragg sur des guides
d’onde Ti :LiNbO3`
a l’aide d’un faisceau d’ions focalis´
e, nous avons obtenu une r´
eflectivit´
e de l’ordre
de 95%. L’originalit´
e de notre travail r´
eside dans l’obtention d’une r´
eflectivit´
e associ´
ee `
a une largeur `
a
mi-hauteur du pic de r´
eflexion plus grandes. Au deumerant cette technique de nanostructuration permet
d’ores et d´
ej`
a d’envisager a court terme la fabrication de composants opto´
electroniques int´
egr´
es com-
portant une ou plusieurs cavit´
es Fabry-P´
erot dispos´
ees en cascade. Un tel composant mettant `
a profil un
effet Vernier sur les fonctions de transfert des cavit´
es, devrait permettre de r´
ealiser un filtre de fr´
equence
optique tr`
es s´
electif et accordable ´
electriquement.
1500 1520 1540 1560 1580 1600 1620 1640
-34
-32
-30
-28
-26
-24
-22
-20
-18
-16
-14
Largeur à mi-hauteur = 12 nm
T (dBm)
(nm)
FIG.3:Courbe de la transmittance en fonction de la longueur d’onde pr´
esentant un pic autour de 1552 nm.
R´
EF ´
ERENCES
[1] C.A.Volkert, A.M. Minor, ” Focused Ion Beam Microscopy and Micromachining. ” MRS Bulletin, Vol 32,
MAY 2007.
[2] Ch. Becker, A. Greiner, Th. Oesselke, A. Pape, W. Sohler, H. Suche. ” Integrated optical Ti :Er :LiNbO3
distributed Bragg reflector laser with a fixed photorefractive grating. ” Opt. Let, Vol. 23, No. 15, pp. 1194-
1196, 1998.
[3] C. Cremer, M. Schienle, ” RIE etching of deep Bragg grating filters in GaInAsP/InP. ” Vol. 25, No. 17, pp.
1177-1178, 1989.
[4] Y. Sidorin, A. Cheng, ” Integration of Bragg gratings on LiNbO3 channel waveguides using laser ablation.
” Electr. Let. Vol. 37, No.19, pp. 312-314, 2001.
[5] B.-E. Benkelfat, R. Ferri`
ere, B. Wacogne, and P. Mollier, ” Technological Implementtation of Bragg Grating
reflectors in Ti :LiNbO Waveguides by Proton Exchange. ” IEEE. Photonics Technology Letters, Vol. 14,
No. 10, pp.1430-1432, 2002.
[6] R. Ferri`
ere, B.-E. Benkelfat, J.M. Dudley, K. Ghoumid, ” Bragg mirror inscription on LiNbO3waveguides
by index microstructuration, ” App. Optics, Vol. 45, No. 15, pp. 3553-3560, 2006.
[7] Y. Shizhuo, ” Lithium niobate fibers and waveguides : fabrications and applications. ” IEEE. Photonics Tech.
Let, Vol. 87, No. 11, pp 1962-1974, 1999.
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