
Les Diodes 
2
 
𝑈𝑈
ln𝑁𝑁
𝑛
 
NA  est  la  concentration  des  atomes  accepteurs  de  la  zone  P.  ND  est  la  concentration  des 
atomes donneurs de la zone N. ni est la concentration intrinsèque du matériau (par exemple le 
silicium). UT est la tension thermodynamique (ou thermique) définie par : 
 
𝑈
    
 (UT ≈ 26 mV à 300 K)            Unités : 𝑉
⁄
 
 
avec 
k ≈ 1,38・10−23 J/K : Constante de Boltzmann en joules par kelvin. 
q ≈ 1,6・10−19 C : Valeur absolue de la charge de l’électron en coulombs. 
T : Température absolue en Kelvin (0◦C = 273,15 K). 
 
Question : Soit une jonction PN au silicium à 300 K avec une concentration intrinsèque du 
silicium  ni  =  1,45・1010 cm
−3,  un  dopage  NA = 10
18 cm
−3  dans  la  région  P  et  un  dopage        
ND = 1016 cm−3 dans la région N. Calculer sa tension de contact à 300 K. 
 
Réponse : U0 ≈ 0,82 mV à 300 K 
 
• Jonction PN polarisée en direct (uD > 0 en fonctionnement normal). Les tensions uD et U0 
se retranchent, la barrière de potentiel passe de U0 à U0 − uD. La largeur de la zone de charge 
d’espace diminue ainsi que l’intensité du champ électrique 𝐸
 . Le champ est alors incapable 
de s’opposer à  la diffusion d’électrons de  N vers  P  et de  trous de  P vers N.  Le courant  iD 
circule  positivement  de  P  vers  N.  La  tension  uD  ne  doit  pas  dépasser  U0 sous peine de 
destruction. 
• Jonction PN polarisée en inverse (uD < 0 en fonctionnement normal). Les tensions uD et U0 
s’ajoutent,  ce  qui  accroît  la  largeur  de  la  zone  de  charge  d’espace  et  l’intensité  du  champ 
électrique 𝐸
 . Le champ interdit alors la diffusion d’électrons de N vers P et de trous de P vers 
N. Cependant, un courant de fuite très faible circule de N vers P, iD est négatif.