Les Diodes
2
𝑈𝑈
ln𝑁𝑁
𝑛
NA est la concentration des atomes accepteurs de la zone P. ND est la concentration des
atomes donneurs de la zone N. ni est la concentration intrinsèque du matériau (par exemple le
silicium). UT est la tension thermodynamique (ou thermique) définie par :
𝑈
(UT ≈ 26 mV à 300 K) Unités : 𝑉
⁄
avec
k ≈ 1,38・10−23 J/K : Constante de Boltzmann en joules par kelvin.
q ≈ 1,6・10−19 C : Valeur absolue de la charge de l’électron en coulombs.
T : Température absolue en Kelvin (0◦C = 273,15 K).
Question : Soit une jonction PN au silicium à 300 K avec une concentration intrinsèque du
silicium ni = 1,45・1010 cm
−3, un dopage NA = 10
18 cm
−3 dans la région P et un dopage
ND = 1016 cm−3 dans la région N. Calculer sa tension de contact à 300 K.
Réponse : U0 ≈ 0,82 mV à 300 K
• Jonction PN polarisée en direct (uD > 0 en fonctionnement normal). Les tensions uD et U0
se retranchent, la barrière de potentiel passe de U0 à U0 − uD. La largeur de la zone de charge
d’espace diminue ainsi que l’intensité du champ électrique 𝐸
. Le champ est alors incapable
de s’opposer à la diffusion d’électrons de N vers P et de trous de P vers N. Le courant iD
circule positivement de P vers N. La tension uD ne doit pas dépasser U0 sous peine de
destruction.
• Jonction PN polarisée en inverse (uD < 0 en fonctionnement normal). Les tensions uD et U0
s’ajoutent, ce qui accroît la largeur de la zone de charge d’espace et l’intensité du champ
électrique 𝐸
. Le champ interdit alors la diffusion d’électrons de N vers P et de trous de P vers
N. Cependant, un courant de fuite très faible circule de N vers P, iD est négatif.