Caractérisation de VCSELs Nicolas Rivière – 2002
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Cette condition impose aux ondes d’être en phase. Les interférences sont constructives. On
remarquera que si la réflectivité des miroirs augmente, la longueur de la cavité (L) diminue.
Pour les VCSELs dont les dimensions sont réduites, on voit qu’il sera nécessaire d’obtenir de
bons miroirs réfléchissants.
Au seuil laser, le gain intra-cavité n’est pas suffisant pour compenser les pertes. La puissance
de pompage augmente tout comme l’émission stimulée. Au-dessus de ce seuil, l’émission
stimulée amorce le processus d’oscillation.
I.2 – DESCRIPTION DES VCSELS
Les lasers à émission par la tranche sont caractérisés par des faces clivées servant de miroirs.
Pour la technologie VCSEL, les miroirs doivent être implantés dans la structure. Le réseau de
miroirs de Bragg correspond à un empilement de couches minces d’AlAs et de (Ga,Al)As ou
Ga1-xAlxAs. L’épitaxie est la méthode de fabrication la mieux adaptée car elle permet
d’alterner les indices optiques. La zone centrale active est le siège de l’émission. Elle est
constituée de multi-puits quantiques (au nombre de trois dans notre cas).
Figure I.2 – a) Représentation d’une diode classique – b) Modélisation d’un VCSEL.
Les puits sont réalisés en GaAs et sont entourés de barrières de Ga1-xAlxAs. Les porteurs sont
confinés dans une seule direction : la barrière de potentiel est déformée par l’application
d’une polarisation. La dimension des puits nous permet de déterminer précisément les niveaux
énergétiques mis en jeu. Le contrôle de la largeur de la bande interdite et de la longueur
d’onde est alors aisé. L’introduction de ces puits permet également de diminuer le seuil en
courant. Par rapport aux lasers à émission par la tranche, la couche active des VCSEL est très
petite. Cette limitation est liée à la durée de l’épitaxie. La solution pour pallier ce problème
consiste à augmenter la réflectivité des miroirs et à introduire le concept de réseau de Bragg.
Les miroirs de Bragg distribués sont fabriqués par superposition d’alliage de Ga1-xAlxAs dont
l’élément de base est formé par une couche de haut indice (GaAs) et par une couche de bas
Puits quantiques
Guidage du courant
Miroirs de Bragg
Electrode négative
Electrode positive
Zone p GaAs
Ga1-xAlxAs Métallisation
GaAs
GaAs
Métallisation
GaAs ou SiO2
Ga1-xAlxAs
a) b)