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I – Mémoires Flash
La mémoire flash est une mémoire à semi-conducteurs, non volatile et réinscriptible, c'est-à-
dire une mémoire possédant les caractéristiques d'une mémoire vive mais dont les données ne
disparaissent pas lors d'une mise hors tension (mémoire de masse). Ainsi, la mémoire flash
stocke les bits de données dans des cellules de mémoire, mais les données sont conservées en
mémoire lorsque l'alimentation électrique est coupée.
En dépit de sa relative lenteur, la durée de vie et la consommation faible (et même nulle au
repos) de la mémoire flash la rendent utile pour de nombreuses applications : appareils photo
numériques, téléphones cellulaires, assistants personnels (PDA), ordinateurs portables ou
dispositifs de lecture et d'enregistrement sonore comme les baladeurs MP3, clef USB. De
plus, ce type de mémoire ne possède pas d'éléments mécaniques, ce qui lui confère une assez
grande résistance aux chocs.
La mémoire flash est un type d'EEPROM (Electrically Erasable Programmable ReadOnly
Memory) qui permet la modification de plusieurs espaces mémoires en une seule opération.
La mémoire flash est donc plus rapide lorsque le système doit écrire à plusieurs endroits en
même temps.
Elle existe sous deux formes: flash NOR et NAND, d'après le type de pont logique utilisé
pour chaque cellule de stockage.
La mémoire flash NOR est la première à être développée par Atmel. Les temps d'effacement
et d'écriture sont longs mais elle possède une interface d'adressage permettant un accès
aléatoire à n'importe quelle position. Elle est adaptée à l'enregistrement de programmes
informatiques qui sont rarement mis à jour, comme dans les appareils photo numériques ou
les organisateurs personnels. Elle peut supporter de 10 000 à 100 000 cycles d'effacement.
La mémoire flash NAND fut développée par Toshiba. Elle est plus rapide à l'effacement et à
l'écriture, offre une plus grande densité, un coût moins important par bit et une durée de vie
dix fois plus importante. Toutefois son interface d'entrée / sortie n'autorise que l'accès
séquentiel aux données. Elle est donc utilisée pour le stockage d'informations et est moins
utile en tant que mémoire pour ordinateurs.
Dans la mémoire flash NOR, chaque cellule de mémoire est similaire à un transistor standard
MOSFET, excepté qu'il y a deux portes au lieu d'une. Une des deux portes est le CG (Control
Gate) comme dans les autres transistors MOS et la seconde est la FG (Floating Gate) qui est
isolée par une couche d'oxyde. Ainsi les électrons, passant au dessus, se retrouvent
emprisonnés et stockent l'information.
Lorsque les électrons sont sur la FG, ils modifient partiellement le champ magnétique venant
du CG qui modifie la tension de la cellule. De ce fait, lorsque la cellule «est lue» une tension
spécifique est placée sur le CG, le courant électrique passe ou ne passe pas selon la tension de
la cellule qui est, elle, commandée par le nombre d'électrons stockés sur le FG. La présence
ou l'absence de courant électrique est traduite par des 0 et des 1, reproduisant ainsi les
données stockées.
Dans un dispositif à plusieurs niveaux de cellules, qui stocke plus de 1 bit de données par
cellule, connaître le flux de passage du courant électrique plutôt que simplement sa présence
ou son absence permet de mieux déterminer le nombre d'électrons stockés sur le FG.