
Université de Yaoundé 1 / Département de Physique. Cours d’électronique linéaire. Chapitre 1
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Chapitre 1 : L’ Amplificateur Opérationnel en mode
linéaire
Objectif :
Le tiers environ de tous les circuits intégrés (CI) linéaires est constitué d’amplificateurs opérationnels
(AOP). Ce sont pour la plupart des dispositifs de petite puissance puisqu’ils dissipent moins d’1 W.
L’AOP typique à un gain élevé pour un courant continu dans la bande allant de 0 Hz à 1 MHz. En
pratique, on ajuste le gain en tension et la bande passante de l’AOP en fonction de ses besoins par des
résistances externes. Dans ce cours, nous évoquons de façon linéaire la fabrication d’un CI, ensuite nous
étudions avant les amplificateurs différentiels et achevons le chapitre par l’étude de quelques montages
avec des AOP.
I. Fabrication d’un circuit intégré.
La fabrication des Aop a considérablement évoluée. Initialement, s’ils étaient constitués de composants
discrets et ils sont de nos jours fabriqués sur des puces électronique qui contiennent des centaines de
composants. Il importe donc d’avoir certaines notions de leur fabrication. Le procédé de départ est
l’invention en 1958 d’un employé de Texas Instruments : Jack Kilby. Il existe des CI analogique (dont
le composant le plus simple est le transistor…) et les CI numériques (construit à partir de portes
logiques, c’est l’exemple des composants de logique programmable tel que le FPGA : field-
programmable gate array, réseau de portes programmables ou des PLA : programmable logic array,
réseau logique programmable)
I.1. Substrat P
Le substrat P sert de support aux composants intégrés. Pour le obtenir, le fabricant commence par
produire un cristal dopé P (par exemple) de plusieurs centimètres de long (figure 1.a), qu’il découpe en
plusieurs tranches ou pastilles (figure 1.b). Il rode et polit une des faces de chaque pastille pour la
débarrasser des ses imperfections. On appelle une telle pastille un substrat P.
I.2. Couche épitaxiale N
Le fabricant place ensuite les pastilles dans un four et envoie un mélange gazeux d’atomes de silicium et
d’atomes pentavalents sur elles. Il se forme une mince couche de semiconducteur N sur la surface
chauffée du substrat (figure 1.c). On appelle cette mince couche, la couche épitaxiale. Son épaisseur est
d’environ 2.5
à 25
(figure 1.c).