Cours Plasmas Radiofréquence Basse Pression : Des Sources aux

Cours
Plasmas Radiofréquence Basse Pression :
Des Sources aux Procédés
Emilie Despiau-Pujo
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (CNRS/UJF) – Grenoble
Plasma
1-100 mTorr
+
++
++
e-
gaine
Cl
Cl
Cl
Cl
3 x 10-1 m
Cl2Pompage
1E. Despiau-Pujo - Journées du Réseau Plasmas Froids 2014 - La Rochelle (France)
2
L’essor de la Micrlectronique
E. Despiau-Pujo - Journées du Réseau Plasmas Froids 2014 - La Rochelle (France)
3
L’essor de la Micrlectronique
réalisation de structures de + en + petites
dépôt puis gravure d’empilements de couches
ultrafines avec un contrôle au niveau
nanométrique
décharges plasma (RF) basse pression
E. Despiau-Pujo - Journées du Réseau Plasmas Froids 2014 - La Rochelle (France)
Plasma
1-100 mTorr
+
++
++
e-
gaine
Cl
Cl
Cl
Cl
3 x 10-1 m
Cl2
Cl
Si
SiClx
Clx+
3 x 10-7 m
pompage
GIR = bombardement ionique anisotrope + attaque chimique par les réactifs radicaux
( + formation de couches de passivation)
Gravure Ionique Réactive (GIR)
4E. Despiau-Pujo - Journées du Réseau Plasmas Froids 2014 - La Rochelle (France)
Plan
Section 1 : Physique des Décharges RF Basse Pression
Plasmas faiblement ionisés et hors-équilibre
Structure et dynamique du plasma (bulk et gaines)
Gaines DC vs. Gaines RF
Section 2 : Sources Plasmas RF
Sources capacitives simple et multifréquences (CCP)
Sources inductives ou hautes-densités (ICP ou HDP)
5E. Despiau-Pujo - Journées du Réseau Plasmas Froids 2014 - La Rochelle (France)
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