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Résumé
La profondeur de champ est un paramètre crucial pour la conception des systèmes
optiques. Cette affirmation est particulièrement vraie dans le cas des microscopes. Plusieurs
solutions ont été proposées dans le passé pour contourner les limites imposées par ce
paramètre. L'ingénierie du front d'onde consiste par exemple à ajouter un masque de phase
dans le système optique pour rendre la fonction de transfert optique invariante par rapport à
la position axiale de l'objet.
Ce mémoire propose d'atteindre ce but en optimisant des masques de phase
polynomiaux par la méthode du recuit simulé. L'invariance de la fonction de transfert
optique est assurée par la minimisation d'une fonction de coût faisant intervenir la MTF du
système optique en fonction de l'aberration du défocus. L'optique de Fourier est utilisée
pour obtenir cette information à partir d'un modèle théorique du microscope.
Les masques de phases sont optimisés selon deux géométries en particulier
:
le
système de coordonnées cartésiennes séparables et la symétrie de rotation. Cette façon de
procéder permet d'évaluer un grand nombre de solutions différentes dans un temps
raisonnable, ce qui maximise les chances d'atteindre le minimum global de la fonction de
coût.
Le meilleur masque ainsi obtenu est fabriqué par la méthode des gravures binaires
successives. Cette technique photolithographique permet d'obtenir quatre niveaux de phase.
Le masque fabriqué est finalement ajouté au montage du microscope afin de vérifier son
effet sur la profondeur de champ. Les résultats obtenus après déconvolution des images
acquises respectent le but initialement fixé.