Dépôts de couches minces optiques par technologie magnetron sputtering pour les grandes optiques RCMO Grégory Chauveau, Chauveau, Didier Torricini et Catherine GrèzesGrèzes-Besset CILAS Marseille - ZI St Mitre, Avenue de la Roche Fourcade, 13400 Aubagne (FRANCE) Dragan Stojcevski et Michel Lequime Institut FRESNEL, Aix-Marseille Université – École Centrale Marseille – CNRS Campus de Saint-Jérôme, 13013 Marseille (FRANCE) • Objectifs, Financement et Partenariat Dans le cadre du programme Laser MegaJoule, CILAS a la responsabilité du traitement rehausseur de grandes plaques métalliques placées derrière les lampes flash des amplificateurs et utilisées pour améliorer l’efficacité de leur pompage optique. Ce traitement doit à la fois présenter une forte réflectivité, une très bonne dureté et une grande uniformité, et être appliqué sur des pièces de grande taille (typiquement 1 m²) et de forme relativement complexe. La surface totale à traiter pour l’ensemble de ce programme approche en outre les 4,000 m². Dans le même temps, CILAS avait identifié un ensemble de problèmes de traitement (miroirs des futurs systèmes d’observation de la terre, segments du miroir primaire du futur E-ELT, production de masse de composants en verre, métal et plastique destinés aux secteurs automobile, aéronautique et médical) qui ne pouvaient être abordés de manière satisfaisante sans le recours à une machine de structure entièrement nouvelle et adaptée au traitement de grandes surfaces de substrats. C’est pourquoi CILAS a décidé en 2007 d’entreprendre le développement d’une machine de dépôt adaptée à des optiques de 2 mètres et a obtenu pour cela le soutien financier du Ministère de l’Industrie et des collectivités territoriales (Région PACA, CG13), ainsi que le support du Pôle OPTITEC. Le consortium réuni pour mener à bien ce développement regroupe, outre CILAS qui en est le Maître d’Œuvre, Alliance Concept pour la fabrication de la machine de dépôt, l’Institut Fresnel pour le développement d’un contrôle optique in situ large bande et la mise au point des procédés de dépôt et Thales Alenia Space comme utilisateur final. • La machine PACA2M (Structure, Procédé de dépôt et Contrôle optique in situ) Procédé de dépôt : la pulvérisation magnétron La machine est équipée de 5 magnétrons plans, de forme rectangulaire et de longueur 2,5 mètres. Le traitement de la totalité de la surface des pièces est obtenu grâce au déplacement du porte-substrat perpendiculairement au grand axe des magnétrons et l’épaisseur de la couche est ajustée en jouant sur la vitesse de ce déplacement, sur le nombre d’allers-retours et sur la puissance de pulvérisation. DC, RF or MF Magnetrons Reactive gas Vue d’ensemble de la machine Target Materials Ar Plasma Ambiant T° High vacuum (à l’arrière plan, la chambre de dépôt, précédée du sas d’introduction des substrats et de l’ascenseur de manutention, avec, au premier plan un cadre porte-substrats vide) Substrates Transmission 6H@600 large bande VS Perkin T-6h Tec5 T-6h perkin 950 Contrôle optique in situ large bande 1,05 1 Ce système de contrôle est entièrement déporté par fibres optiques et permet de réaliser une mesure in situ des caractéristiques spectrophotométriques de la pièce en cours de traitement sur la totalité de la bande spectrale allant de 280 nm à 2200 nm. Les photographies placées à droite de ce cadre montrent l’intérieur de la chambre de dépôt, plasma en opération, ainsi que les systèmes optiques d’émission/réception fixés sur les parois de la machine. Le graphe placé à gauche de ce cadre présente les résultats de mesure de transmission réalisées in situ et ex situ sur une monocouche 6H de Ta2O5 0,95 T 0,9 0,85 0,8 0,75 0,7 400 500 600 700 800 900 1000 nm • Exemples de réalisations La qualification de la machine a été prononcée courant 2010 et les performances obtenues sont en très bon accord avec les valeurs attendues (pression résiduelle inférieure à 10-7 mbar, uniformité typique de l’ordre de 2% à une échelle de 2 mètres, fonctionnement totalement automatique). 100 100 30 90 90 25 Measurement Theory 70 Measurement Template 70 60 60 50 50 400 650 900 1150 1400 1650 1900 2150 Wavelength (nm) Miroir aluminium protégé 2400 Theory Template 80 Reflectance (%) 80 Reflectance (%) Reflectance (%) Measurement 20 15 10 5 0 300 500 700 900 1100 1300 1500 1700 1900 2100 2300 2500 Wavelength (nm) Miroir Argent rehaussé dans le bleu 400 500 600 700 800 900 1000 1100 1200 1300 1400 1500 Wavelength (nm) Antireflet large bande