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Résistance de l’émetteur
Par le calcul on peut démontrer que la contribution de l’émetteur à la résistance série est la suivante :
2
sheet
e
lR
R=
Rsheet : résistance de couche de l’émetteur
l = espace entre les lignes
L = côté de la cellule
Résistance de la grille face avant
Par le calcul on peut démontrer que la contribution de la grille métallique à la résistance série est la suivante
(dans le cas d’un seul bus barre) :
R
m
gav
=
ρ
m
: résistivité du métal
h : hauteur de la ligne métallique
d : largeur de la ligne métallique
l = espace entre les lignes
L = côté de la cellule
Résistance de contact
La résistance de contact dépend :
- Du matériau semiconducteur (silicium, arséniure de gallium, …)
- Du type de dopant (n ou p)
- Du matériau formant le contact (Ti, Ag, …)
- Du dopage au voisinage de la surface et de la surface effective du contact
Deux types de contact sont à considérer dans une cellule solaire :
- Le contact vertical : Le courant circule perpendiculairement à l’interface entre le semiconducteur et le
contact. La surface effective de contact est la surface totale de contact. Le contact arrière d’une
cellule solaire est du type vertical.
- Le contact horizontal : Le courant circule parallèlement à l’interface entre le semiconducteur et le
contact sur la majeure partie de son trajet. C’est ce qui se passe dans la couche mince diffusée
d’une cellule solaire au voisinage de la grille.
Afin d’analyser la qualité de l’interface entre les contacts et le silicium, on utilise la méthode TLM
(Transmission Line Model) qui donne accès à la résistance de contact Rc et à la résistance de couche
Rsheet.
Cette technique est basée sur la mesure de la résistance totale R entre deux plots métalliques par mesure I-
V. Rc et Rsheet sont calculées à partir de la courbe de R en fonction de l’espacement entre les plots L.