5
2.1.3.1. Consommation statique des portes logiques .....................................................46
2.1.3.2. Consommation dynamique des portes logiques................................................47
2.2. Les caractéristiques statiques et dynamiques des différentes structures logiques... 47
2.2.1. Structures logiques à charge résistive à base de NFET et de PFET..................48
2.2.1.1. Les valeurs de la résistance de charge...............................................................49
2.2.1.2. Les caractéristiques statiques et dynamiques....................................................49
2.2.2. Structures logiques complémentaires (similaires au CMOS) ............................53
2.2.3. Structures logiques domino...................................................................................55
2.2.4. Structures logiques de transfert............................................................................59
2.3. Comparaison des différentes structures logiques.........................................................61
2.5. Conclusion......................................................................................................................... 66
CHAPITRE 3 : ETUDE DE L’INFLUENCE DES VARIATIONS PARAMETRIQUES
SUR LES CARACTERISTIQUES DES PORTES COMPLEMENTAIRES.......................67
3.1. Outil automatique d’analyse des dispersions des caractéristiques des portes
logiques ..................................................................................................................................... 68
3.2. Influence des variations paramétriques des dispositifs CNTFETs............................ 69
3.2.1. Influence de la variation du diamètre ..................................................................71
3.2.2. Influence de la variation de la résistance de contact...........................................72
3.2.3. Influence de la variation de la température d’opération....................................74
3.2.4. Tableau résumé ......................................................................................................76
3.3. Influence des variations paramétriques et d’environnement sur le comportement
des portes logiques................................................................................................................... 76
3.3.1. Influence de la variation du diamètre du nanotube............................................77
3.3.1.1. Portes logiques homogènes...............................................................................77
3.3.1.2. Portes logiques hétérogènes et demi hétérogènes .............................................81
3.3.2. Influence de la variation de la résistance de contact et de la température .......89
3.3.2.1. Variation de la résistance de contact.................................................................89
3.3.2.2. La variation de la température...........................................................................90
3.3.3. Tableau de résumé .................................................................................................91
3.4. Conclusion......................................................................................................................... 92
CHAPITRE 4 : PROPOSITION DE STRUCTURES ROBUSTES POUR CIRCUITS
LOGIQUES.................................................................................................................................... 93
4.1. Défauts et fautes des circuits à base de CNTFETs....................................................... 94
4.1.1. Défauts de fabrication - défauts fonctionnels et défauts paramétriques...........94
4.1.1.1. Défauts, fautes et modèles de fautes traditionnels ............................................94
4.1.1.2. Défauts fonctionnels au niveau du dispositif CNTFET ....................................96
4.1.1.3. Modèles de fautes au niveau logique (ou porte logique) ..................................98
4.1.2. Effets non desirés dans le fonctionnement des CNTFETs................................100
4.2. Structures redondantes pour circuits à base de CNTFETs......................................101
4.2.1. Structures existantes tolérantes aux défauts fonctionnels et aux fautes..........101
4.2.2. Structure redondante proposée au niveau d'un dispositif CNTFET ..............104
4.2.3. Portes logiques à base de structures redondantes.............................................108
4.2.4. Utilisation des portes redondantes......................................................................113
4.2.5. Comparaison avec d'autres structures redondantes.........................................113