République Algérienne Démocratique et Populaire وزارة اﻟﺘﻌـﻠـﯿــﻢ اﻟﻌــﺎﻟــــﻲ و اﻟﺒﺤــــﺚ اﻟﻌﻠـﻤـــــــﻲ Ministère de l’Enseignement Supérieur et de la Recherche Scientifique LABORATOIRE UNIVERSITE D’ORAN DES SCIENCES ET DE LA TECHNOLOGIE (USTO-MB) Physique des Plasmas, Matériaux Conducteurs et leurs Applications Faculté de Physique Département de Physique énergétique Spécialité : Physique Option : Physique des Plasmas et Laser THESE Présenté par : Mr : Salim BAADJ Pour l’obtention du diplôme de Doctorat LMD en Physique Thème Etude de la cinétique réactionnelle du mélange gazeux Xe/Cl2, contribution à l’optimisation de l’efficacité lumineuse des lampes à excimer Soutenance le 23 /09 / 2014 devant la commission d’examen composée de : Qualité Nom er Prénoms Grade Etb. d’Origine Président Rapporteur Examinateur Examinateur Examinateur Mr. Benabadji Nourddine Mr. Belasri Ahmed Mr. Belaidi Abdelkader Mr. Baba Hamed Tewfik Mr. Harrache Zaheir Professeur Professeur Professeur MCA MCA USTMB. USTMB. ENPO. USTMB. USTMB. Année universitaire : 2013/2014 A mes parents A toute ma famille A toute mes proche.. Remerciement Je remercie le bon Dieu de m’avoir donné le courage, la patience et la bonté de pouvoir terminer cette thèse. Je remercie mes parents et ma famille pour leur affection et leur soutien tout au long de mes années d’études. Cette étude a été effectuée au sein du laboratoire Physique des Plasmas, matériaux conducteurs et leurs applications. (L.P.P.M.C.A). J’exprime ma profonde gratitude à Monsieur A. Belasri, Professeur à l’Université d’U.S.T.O, et directeur du Laboratoire pour m’avoir accueilli dans son Laboratoire, qui m’a permis de réaliser cette thèse dans les meilleures conditions et qui m’a initié à la recherche puis guidé dans mes travaux avec une disponibilité et une ferveur de chaque instant. Je salue sa compétence, sa patience et ses judicieux conseils. Je tiens à exprimer mes sincères remerciements aux membres du jury de cette thèse : Monsieur Benabadji Nourddine qui a accepté de présider le jury de cette thèse, je le remercie vivement ; Monsieurs, Belaidi Abdelkader, Baba Hamed Tewfik, qui m'ont fait l'honneur d’examiner ce travail. Un spécial remerciement à Mr Harrache Zaheir pour sa disponibilité, de ses encouragements, de son soutien moral et logistique. J'exprime aussi ma reconnaissance à toutes les personnes du laboratoire, Je remercie de même mes camarades et mes amies En fin, je remercie vivement mes proches qui m’ont soutenu pendant cette période. Sans leurs encouragements et leur présence affective, je n’aurai pu mener à bien ce modeste travail. SOMMAIRE SOMMAIRE PAGE DE GARDE DEDICACE REMERCIEMENT LISTE DES FIGURES LISTE DES TABLEAUX RESUME SOMMAIRE Introduction générale………………………………………………………………………1 Chapitre I : Généralités sur les décharges à barrières diélectrique et la production des rayonnements UV 1.1.Historique des DBDs………………………………………………………………...5 1.2.Généralités sur les décharges à barrières diélectriques…………………………...…6 1.3.Différents régimes des DBDs ………………………………………….…………10 a) Décharge filamentaire…………………………………………..…………………………10 b) Décharge luminescent……………………………………………………………………..11 1.3.1. Régime d’ionisation ….………………………………..………………………..…….12 1.3.2. Régime de saturation….………………………………………………………………12 1.3.3. Régime de Townsen…………………………………………………………………...13 1.3.4. Claquage du gaz …………..…………………………………………………………..14 1.3.5. Régime de décharge luminescente normale….………………………………………..16 1.3.6. Régime de décharge luminescente anormale….………………………………………… 1.3.7. Arc non thermique….…………………………………………………………………… 1.3.8. Arc thermique…………..………………………………….…………………….…….17 1.4.Applications des décharges à barrières diélectriques….………………….….…….17 1.4.1. La dépollution …………………………………………………………….……..18 1.4.2. Traitement de surface …………………………………………………………...19 1.4.3. Production d'oxygène ………………………………………….…………….…19 1.4.4. Les écrans a plasmas (PDP : Plasma Display Panels)….……………………..….21 1.4.5. Lampes à excimeres à base de décharge à barrières diélectriques ………..……22 SOMMAIRE 1.5.Applications des lampes à excimères………..…………………………………….24 1.6.Géométries courantes des lampes à excimeres « exilampes »…………………….27 1.7.Création d’excimère et exciplèxe…………………………………………………..29 1.8.Structure atomique et moléculaires du Xe et Cl2 ………………………………….31 1.8.1. La structure de la molécule XeCl ………………………………………………..31 1.8.2. Emission ultraviolette du xénon dans le plasma …………………………………32 1.8.3. Emission ultraviolette du XeCl dans le plasma ………………………………….34 1.9.Les avantages des lampes à éxcimeres..……………………………………………37 1.10. Conclusion.……………………………………………………………………39 Chapitre II : Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectriques 2.1.Introduction ……………………………………………………………………41 2.2.Description de quelques travaux et modèles…………………………………...41 2.3.L’équation de Boltzmann………………………………………………………45 2.3.1. Dérivation des équations fluides………..……………………….46 2.3.2. Vitesse de dérive …………….…………………………………..47 2.3.3. Coefficient de Townsend (α).……………………………………47 2.4.L’émission secondaire …………….………………………………...…………48 2.5.Model zéro dimensionnel ……….……………………………………………..48 2.5.1. Modèle de circuit équivalent……………………….…………….50 2.5.2. Le modèle cinétique……………………….……………………..52 2.5.3. Les espèces considérer 2.5.4. Formation des Photons et XeCl* ……………………………….61 Conclusion………………………………………………………………………..66 Chapitre III : Résultats du modèle de la lampe à excimer Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectrique 3.1.Introduction ……………………………………………………………………...68 3.2. Caractéristiques électrique ………………………………………………….……..69 3.3.Chimie plasma du mélange gazeux xénon-chlore …………………………………71 3.4.Conclusion …………………………………………………………………………78 SOMMAIRE Chapitre IV : Optimisation et amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2. 4.1. Introduction……………………………………………………………………..……… 80 4.2. Étude paramétrique ………………………………………………………………….….81 4.2.1. Effet de l’énergie déposée ……………………………………………………………81 4.2.2. Rôle du concentration en Cl2 ………………………………………………………84 4.2.3. Effet de la pression totale du gaz…………………………………………………...…85 4.2.4. Effet de la capacité diélectrique……………………………………………………….88 4.3. Amélioration de l'efficacité …………………………………………………………...89 4.4. Comparaison……………………………………………………………………..……..94 4.7.Conclusion générale…………………………………………………...…………….97 Référence………………………………………………………………….118 Annexe RESUME L’un des principaux intérêts des plasmas froid hors équilibre réside dans leur grande réactivité chimique. Cette réactivité résulte de la production d’espèces transitoires dont il est impératif de connaître parfaitement la cinétique. Une fois les cinétiques et les paramètres clefs identifiés, la réactivité peut être améliorée, d’où mise à profit dans bien des applications. Le présent travail de doctorat LMD présente une étude détaillée de la cinétique réactionnelle d’un plasma de mélange gazeux Xe/Cl2, pour l’excitation des lampes à excimères. Le développement de ce type de lampe à barrières diélectriques est motivé par l’intérêt que suscitent ces sources de photons dans de nombreuses applications comme la photochimie, le dépôt de matériaux, le traitement de surface et la dépollution ou la décontamination. Le mélange de gaz étudié comprend un gaz rare associé à un halogène dont l'interaction produit un état excité moléculaire (connu sous le nom d'exciplexe). La désexcitation radiative de cet exciplexe génère un rayonnement dans l’ultraviolet. Notre choix s’est porté sur l’association de xénon et de chlore moléculaire formant la molécule XeCl* qui émet un photon de longueur d’onde 308 nm (énergie est de quelques électron-volts). L’application particulière de ce rayonnement généré concerne la décontamination bactériologique. L’optimisation du dépôt d’énergie et l’efficacité lumineuse dans une décharge à barrière diélectrique pulsée, implique une meilleure compréhension des phénomènes physique dans le plasma et des mécanismes cinétique essentiels conduisant à la formation ou à la destruction des excimères. Les phénomènes électriques liés aux interactions entre le circuit d’excitation et la décharge affectent d’une manière significative l'énergie déposée dans le milieu plasma. Le travail est basé sur un modèle cinétique couplé au circuit extérieur. Le schéma cinétique réactionnel est développé pour le mélange Xe-Cl2 dans le cas d’une description homogène d’un plasma haute pression (100 torr < p < 300 torr). Les taux de réaction impliquant les électrons ont été tabulés, pour un mélange donné par résolution de l’équation de Boltzmann, en fonction du champ électrique réduit E/N. Les résultats montrent, durant l’impulsion de la décharge, les variations temporelles des caractéristiques électriques, des concentrations d’espèces, la puissance déposée par les électrons dans le plasma. Une analyse détaillée sur les voies d’optimisation de l’efficacité lumineuse de la lampe est mise en évidence dans ce travail. Mots-clés : Plasma froid, DBD homogène, XeCl*, Lampe, 308nm. Introduction générale D e nombreuses études sont menées au niveau de la recherche scientifique pour la compréhension et l’utilisation de plasmas hors équilibre produit par les décharges à barrières diélectriques qui sont utilisés dans de nombreux domaines scientifique et industriels liés aux divers procédés technologiques dont des dispositifs destinés à la microélectronique, traitement de surface (couches minces), lithographie, la dépollution, l’éclairage, la stérilisation, et les lampes à excimeres. Ces lampes d’excimeres utilisent mélange de gaz généralement comprend un gaz rare associé à un halogène ArF*, KrF*, XeI*, XeBr*, XeCl*, KrCl*...Ces excimeres sont très étudies de la part des scientifiques à cause de leur pouvoir de produire les radiations ultraviolets, et leur haute efficacité lumineuse. Ces sources d’UV sont mises à profit dans divers procédés technologiques et industriels, mais la plus important dans ces catégorie des sources c’est XeCl* parce que il délivre des rayonnements pratiquement monochromatiques à 308 nm. Les premières recherches sur les décharges à barrières diélectriques DBD datent de plus d’un siècle et étaient appliquées à la production d’ozone a partir de l’oxygène de l’air. Durant ces dernières années, les applications industrielles des lampes à barrières diélectriques se sont multipliées dans le domaine général des photo-sciences. Elles possèdent des durées de vie très importantes et leur géométrie s’adapte parfaitement à leurs conditions d’utilisation. Celles à base de gaz rares ou gaz rare associé à un halogène émettent un rayonnement très énergétique de faible largeur spectrale dans le domaine de l’ultraviolet UV et de l’ultraviolet lointain VUV. Dans les lampes à éxcimère, le rôle de la décharge électrique est de généré des plasmas hors équilibre permettant de produit des espèces actives, capable a initier des chaines réactionnelles susceptibles de conduire à la production d’espèces actives, responsables de la production des rayonnements ultraviolets. La génération des rayonnements ultraviolets sont fonction de la composition du milieu gazeux (gaz rares purs, mélanges de gaz rares ou des radicaux) et ca pressions partiel .La plupart des lampes actuellement en service ont une configuration à double tube. Dans cette configuration, un tube intérieur est coaxialement inséré dans un tube extérieur généralement en quartz. Les électrodes sont déposées sur la surface intérieure du tube intérieur et la surface extérieure du tube extérieur. Lorsqu’on applique une tension suffisamment élevée aux bornes de deux électrodes séparées d’un 1 diélectrique et un mélange de gaz rare-halogène, ce dernier passe de l’état isolant à l’état conducteur , Cette transition de phase est le résultat de processus collisionnels électronatomes et molécules, en engendrant l’ionisation du gaz qui va permettre la création des particules chargées. l'électrode externe doit couvrir toute la surface extérieure et aussi être suffisamment transparente pour permettre à la lumière de s'échapper vers l'extérieur. La compréhension des phénomènes physique dans le plasma et des mécanismes cinétique essentiels conduisant à la formation ou à la destruction des excimères. Contribue à l’optimisation du dépôt d’énergie et l’efficacité lumineuse dans une décharge à barrière diélectrique pulsée pour lampe à eximères. L’utilisation du modèle temporele permet une étude simpliste de la cinétique des espèces excitées, celle ci est importante si on veut étudier le rendement de la décharge électrique et des photons produits dans le but de contrôler et d’améliorer l’efficacité lumineuse de la lampe à excimeres. Le principal objectif de notre travail est étudie la cinétique réactionnelle du mélange gazeux Xe/Cl2 et les conditions de fonctionnement d’une lampe à excimères crée par une décharge à barrières diélectrique et d'optimiser l'efficacité de la lampes à excimeres. L’optimisation de la conception des lampes et leurs applications exige une connaissance de plusieurs paramètres et caractéristique électriques et cinétique chimique de la lampe, en particulier la tension applique, la pression du gaz, la composition du mélange gazeux, ainsi que le comportement temporel des atomes excités et des excimères. Cette thèse comporte quatre chapitres : Dans le premier chapitre de thèse, nous allons faire une présentation de l’évolution des lampes à excimères à travers l’histoire et quelques généralité sur les décharge à barrière diélectriques et les lampe à excimères XeCl. et leurs diverses applications dans le monde de l’industrie et dans la vie quotidienne. Cela en apportant le complément de connaissances de la physique qui nous semble nécessaire pour mieux comprendre le principe de fonctionnement de la lampe à excimères. Dans le chapitre 2, nous présentons la description du modèle physique à la base duquel à été faite cette étude et la cinétique utilisée dans notre étude, le modèle temporel d’une décharge à barrière diélectrique est ensuite exposé. 2 Le chapitre 3 présente les résultats de la simulation d’une décharge à barrière diélectriques pour la lampe à excimeres dans le mélange Xe/Cl2. Nous présentons aussi dans ce chapitre une analyse bibliographique sure quelque études effectuées dans ce contexte. Le chapitre 4 décrit les résultats de la simulation où nous aborderons l’influence des paramètres de la lampe sur ses caractéristiques électriques et sur ses performances, notamment sur l’efficacité de la décharge. ainsi qu’une étude paramétrique de la lampe à excimeres en fonction de plusieurs paramètres afin d’améliorer l’efficacité lumineuse de la lampe. Dans la conclusion, nous dressons le bilan de contribution de la thèse, ce qui permet de et permettra de reprendre les résultats obtenus, notamment en ce qui concerne la répartition de l’énergie sur les différents processus de collision. La compréhension du bilan énergétique nous ouvrira les voies d’amélioration des lampes à excimères. 3 Chapitre I Généralités sur les déchardes à barrières diélectrique et la production des rayonnements UV CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV I.1. Historique des DBDs Les plasmas hors équilibre crées par Décharges à Barrières Diélectriques (DBD), reçoivent ces dernières années un grand intérêt de la part des scientifiques en raison de leurs nombreuse applications. L‘histoire des DBD’s démarra en 1839 lorsque Schönbein identifia l'odeur apparaissant autour de l'anode pendant l'électrolyse de l'eau, comme l’attribut d'un nouveau composé chimique qu'il a dénommé ozone [1]. Il a fallu attendre jusqu’en 1857 pour arriver aux premières expérimentations connues sur les décharges à barrières diélectriques ou décharges à barrière (souvent référencées sous l’appellation de décharges silencieuses) réalisées par Von Siemens ; celui-ci breveta l’ozoneur dispositif dont la conception n’a pas fondamentalement évolué depuis. Les applications principales étaient la production d'ozone ou d'oxyde d'azote. Le système conçu par cet ingénieur allemand était constitué de deux tubes concentriques entre lesquels était injecté un flux d'oxygène. Une électrode tapissait l'intérieur du tube interne alors qu'une autre couvrait l'extérieur du tube externe et l'ensemble était soumis à une forte différence de potentiel via une batterie et une bobine. La propriété remarquable des décharges alors produites dans l'espace délimité par les deux tubes, appelées décharges silencieuses "sillent discharges", était de produire une importante quantité d'ozone, alors qu'une décharge d'arc aurait nui à la création de cette molécule instable En 1932, Buss décrit le caractère filamentaire de cette décharge dans l'air à travers les premiers clichés photographiques et mesures à l'oscilloscope réalisés sur les DBD. Dans les années soixante dix, les premières simulations et recherches sur les DBDs permettent d'élargir le champ d'application de ces décharges aux traitements de surface, aux dépôts de couche, et plus tard aux lasers, aux écrans plats, aux traitements d'effluents gazeux… Il faut attendre 1988 pour découvrir l'existence d'un régime de DBD homogène à la pression atmosphérique grâce aux recherches des Japonais [1-8]. Depuis, de nombreuses recherches ont été menées afin de comprendre les phénomènes physiques régissant les DBDs.[1-8] 5 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Les premières recherches sur les décharges à barrières diélectriques DBD datent de plus d’un siècle et étaient appliquées à la production d’ozone a partir de l’oxygène de l’air. Durant ces dernières années, les applications industrielles des lampes à barrières diélectriques se sont multipliées dans le domaine général des photo-sciences. Elles possèdent des durées de vie très importantes (plusieurs centaines d’heures) et leur géométrie s’adapte parfaitement à leurs conditions d’utilisation. Celles à base de gaz rares ou d’halogénures de gaz rares émettent un rayonnement très énergétique de faible largeur spectrale dans le domaine de l’ultraviolet UV et de l’ultraviolet lointain VUV. I.2. Généralités sur les décharges à barrières diélectriques Les plasmas de décharges réalisés au laboratoire et utilisés pour des applications technologiques sont des milieux faiblement ionisés (plasma froids) contenant des électrons libres, des ions positifs et négatifs ainsi que des molécules. Selon les valeurs de températures et le degré d’ionisation ces plasmas peuvent être classés en deux grandes catégories : les plasmas thermiques et les plasmas non thermiques hors équilibre [13], [14], [15]. Selon les techniques utilisées pour les générer, la pression appliquée et la géométrie des électrodes, les plasmas hors équilibre se présentent sous différentes formes telles que la décharge luminescente, couronne ou encore les décharges à barrières diélectriques (DBD). La décharge luminescente est une décharge obtenue le plus souvent à basse pression (moins de 10 mbar), entre deux électrodes planes. Les électrons produits dans ce type de décharge sont fortement énergétiques. Les atomes neutres excités ainsi que les molécules génèrent une luminescence typique. Toutefois, les décharges luminescentes ou ce que l’on appelle aussi les glow discharges, ne sont pas adaptées pour la synthèse chimique [18]. Notons que des décharges luminescentes à pression atmosphérique ont été développées très récemment La décharge couronne est une décharge non homogène, générée à pression atmosphérique dans un système d’électrodes fortement dissymétriques (i.e. système pointe- plan) [19], [20], [21]. En effet, lors de la décharge, l’électrode de faible rayon de courbure soumise à une haute tension est le siège d’un fort champ électrique, qui constitue le facteur clé dans l’ionisation des espèces neutres présentes dans le gaz [22]. La décharge à barrières diélectriques, ou ce qu’on appelle aussi la décharge silencieuse, combine le large volume d’excitation de la décharge glow avec les caractéristiques haute pression de la couronne. Dans ce type de décharges, un diélectrique couvre l’une des 6 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV électrodes. la surface entière de l’électrode devient effective pour les réactions chimiques [23]. La DBD est initiée en chaque point du gap. Les charges ainsi cumulées sur le diélectrique forment un champ électrique qui s’oppose au champ appliqué et permet d’interrompre le courant pendant quelques nanosecondes. La durée du pulse de courant dépend de la pression, des propriétés du gaz ainsi que de la nature du matériau diélectrique. Tableau 1: Paramètres caractéristiques des décharges dans les gaz [24] Pression Champ électrique Champ électrique Décharge glow Décharge couronne DBD < 10 mbar à 1 1 Bar 1 bar 10 V/ cm 0.5- 10 KV/cm 0.1-100 KV/cm 50 Td 2-200 Td 1-500Td réduit Les mécanismes à l’origine de l’initiation et du maintien des décharges électriques sont multiples. Ils dépendent des techniques utilisées pour l’initiation et des conditions ambiantes de pression et de composition des gaz plasmagènes. Les décharges à barrières diélectriques (DBD), également appelées décharges silencieuses, permettent de générer un plasma hors-équilibre à des pressions proches de la pression atmosphérique. Pour les applications qui nécessitent soit un grand flux de matière, soit des fortes pressions qui favorisent la cinétique des réactions souhaitées, les DBD présentent certains avantages vis-à-vis des décharges d'arc plus classiques. La fabrication industrielle de l'ozone à grande échelle est un bon exemple du premier cas, par exemple un flux de plusieurs centaines de kilogrammes de gaz par heure et une puissance électrique de quelques MW peuvent être obtenu. La lampe à excimères (molécules excitées de gaz rares) est une parfaite illustration pour le second cas, car ces excimères de gaz rares sont produits par collisions à trois corps. 7 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure1. Dispositif expérimental de Townsend Depuis les années 1980, une nouvelle génération de lampes à décharge a vu le jour. Ces lampes sont capables de produire un flux ultraviolet élevé avec une bonne efficacité et une faible largeur spectrale. Ces lampes exploitent le rayonnement en provenance d’émetteurs moléculaires instables (les excimère et les exciplexe) qui se forment dans une décharge à barrières diélectriques à pression atmosphérique et hors d’équilibre. La décharge à barrières diélectriques décharge silencieuse, est connue depuis plus d’un siècle, la première étude expérimentale a été rapportée par Siemens en 1857. Elle concernait la production d’ozone destinée au traitement de l’eau. Dans ce premier chapitre, nous nous proposons d’introduire le lecteur aux généralités sur les décharges à barrières diélectriques et à leurs diverses applications technologiques et industrielles. Les décharges à barrières diélectriques sont largement utilisées pour la production du rayonnement utilisable dans différents domaine. L’ensemble des propriétés de l’émission des excimères (ou exciplèxes) produits dans une décharge à barrières diélectriques, font de l’excilamp DBD une source d’UV potentiellement efficace, spectralement pure et adaptée en longueur d’onde à presque toutes les applications UV. Ces sources de rayonnement ultraviolet (UV) sont utilisées ainsi dans les domaines industriels et médicals, pour l’éclairage, etc. En effet, la DBD offre une souplesse extraordinaire puisqu’il est possible de contrôler 8 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV précisément la pression du gaz, ou du mélange du gaz, de remplissage, sa géométrie et son alimentation. Dans ce chapitre, nous commençons par une brève présentation des configurations de la géométrie couramment utilisée dans les décharges à barrières diélectriques (DBD) actuelles. Ensuite, nous expliquons les mécanismes de la formation des molécules d’excimères et d’exciplèxes dans un gaz rare et un mélange gaz rare/halogène. Ces molécules jouent un rôle essentiel sur la production d’UV d’une lampe à DBD. Nous terminons le chapitre par une présentation des applications technologique et industriels existantes jusqu’à aujourd’hui pour les lampes à DBD. Une décharge à barrières diélectriques se produit dans un gaz entre deux électrodes recouvertes d’un diélectrique isolant (Figure 1). Le diélectrique empêche la formation d’un arc électrique entre les deux armatures. Dans ce cas, le plasma gazeux forme dans la décharge reste hors équilibre car la décharge est transitoire et interrompue avant que les électrons ne soient thermalisés. L’application de la tension d’alimentation sur les électrodes induit un claquage du gaz qui conduit a la formation d’un canal conducteur. C’est le produit de la distance inter-électrodes d par la pression p du gaz qui définit le mode de fonctionnement du plasma. Pour des produits p× d ≥ 200Torr.cm la décharge apparait sous forme d’un ou plusieurs canaux appelés micro-décharges. Ces canaux ont des diamètres de l’ordre de quelques centaines de micromètres et la durée de la micro-décharge est de l’ordre de la centaine de nanosecondes . L’échange d’énergie entre les électrons et les atomes est alors très efficace et d’âpres Eliasson et Koghelschatz [4], l’énergie électrique injectée dans la décharge peut être convertie en énergie cinétique et en énergie stockée dans les espèces excitées avec une efficacité pouvant aller jusqu’a 90%. Les états métastables jouent un rôle prépondérant dans la cinétique de la post-décharge car ce sont des réservoirs d’énergie. La décharge à barrières diélectriques peut être décrite par une succession de différentes phases. 1. Le claquage ou la formation de la décharge : sous l’action d’un champ électrique suffisamment élèvé applique dans l’espace gazeux entre les deux électrodes (distantes de quelques millimètres), Une avalanche électronique, dirigée vers l’anode, est initiée dans le gaz. Ce phénomène d’amorçage ne dépend pratiquement pas de la présence des diélectriques [8]. 9 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV 2. Le transport des charges dans l’espace inter-électrodes (l’impulsion de courant) : une streamer positif se propage vers la cathode. Un canal de conduction s’établit, conduisant à l’apparition d’une charge d’espace. L’accumulation des charges au voisinage ou sur les diélectriques entraine une diminution rapide du champ électrique axial, localement. Par ailleurs, les mécanismes de destruction des électrons (recombinaison et attachement) deviennent plus importants que les mécanismes de production (ionisation). La décharge s’interrompt et le courant engendré est donc impulsionnel. 3. La cinétique des réactions des espèces excitées: pendant le bref passage du courant, les électrons énergétiques excitent les espèces atomiques ou moléculaires présentes dans le plasma. Cette phase d’excitation produit des espèces telles que les états métastables ou résonants qui sont les précurseurs des excimère, sources de rayonnement UVL. Cette production peut s’étendre dans la phase de post-décharge, bien au-delà de l’extinction du courant. L’efficacité de production des densités des espèces excitées précurseurs dépend de l’énergie des électrons pendant la première phase. Ces trois phases ont des temps caractéristiques bien différents. Le claquage est normalement achève au bout de quelques nanosecondes ou quelques dizaines de nanosecondes, le transport des charges dure de quelques nanosecondes a quelques centaines de nanosecondes. Ensuite, la durée de production des excimère, généralement plus long, dépendra seulement des processus réactionnels mis en jeu. Le réamorçage de la DBD est facilite par l’emploi d’une source de tension alternative qui permet de s’affranchir de l’effet de l’accumulation des charges sur les diélectriques. 1.3. Différents régimes des DBD Les décharges à barrières diélectriques fonctionnant à haute pression peuvent être classées en deux grandes familles selon leurs mécanismes de claquage : décharge filamentaire et luminescente. Le produit pression x distance inter-électrodes (P.d) joue un rôle déterminant dans le développement de ces décharges. a) Décharge filamentaire Lorsque le produit P.d est supérieur à quelques dizaines de Torr.cm, le claquage normalement observé est de type " filamentaire " (aussi appelé streamer). La théorie du 10 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV streamer a été développée en 1939, ce qui a permis d’expliquer le développement des filaments ou streamers. Proche de la pression atmosphérique, la décharge est donc constituée de filaments décrits plus haut. Ils ont des diamètres de quelques centaines de micromètres et des durées de l'ordre de la centaine de nanosecondes [4]. L'échange d'énergie entre les électrons et les atomes est alors très efficace et d'après Eliasson et Kogelschatz, il n'est pas inhabituel de transformer 90% ou plus d'énergie cinétique en énergie "stockée" dans les espèces excitées. Dans le dispositif utilisé pour notre étude, la distance inter-électrodes est de 2 mm et la pression du travail proche de la pression atmosphérique. Ainsi, le produit P.d est de l’ordre de quelques dizaines de Torr.cm et le mécanisme de claquage du gaz le plus probable est de type streamer. b) Décharge luminescente A des pressions nettement plus basses que la pression atmosphérique, le diamètre ainsi que le nombre des filaments augmentent. L'aspect de la décharge devient plus diffus et si la pression diminue encore, une décharge luminescente peut être obtenue. Cependant, sous certaines conditions particulières, des décharges luminescentes, ou même homogènes, peuvent être réalisées même à forte pression. Une description complète de ces décharges figure dans un ouvrage édité dans le cadre du réseau "Plasmas froids" expliquant les diverses phases des décharges à barrières diélectriques. Dans certaines conditions, il est possible d'obtenir une décharge homogène recouvrant l'intégralité de la surface des électrodes à la pression atmosphérique. Deux familles de décharges sont alors distinguées : les décharges par couplage de streamers et les décharges de Townsend et luminescentes. Même si elles ont une homogénéité spatiale semblable, les phénomènes de leur établissement et les mécanismes physiques responsables de leur propagation sont différents. Les premières se rapprochent de la décharge filamentaire, alors que les secondes sont voisines des décharges luminescentes à basse pression. 11 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure.2. Caractéristique tension-courant d’un plasma de décharge. La décharge formée dans le gaz peut se présenter en trois formes, au fur et à mesure que Id augmente : décharge sombre, décharge luminescente et décharge d’arc. Ces formes correspondent à trois zones différentes dans la caractéristique tension-courant du gaz (Vd vs Id), Chacun de ces régimes est maintenant présenté brièvement. (Figure.2) 1.3.1. Régime d’ionisation Malgré la faible valeur de la tension de sortie de l’alimentation Va 0 V, l’anode collecte les électrons libres qui sont présents dans l’atmosphère ; ceux-ci sont produits par le rayonnement cosmique. Un faible courant est alors mesuré dans la décharge ; ce courant s’accroît avec l’augmentation de la tension imposée (Va). Il s’agit de la zone I de la caractéristique statique de la figure 2. 1.3.2. Régime de saturation Si l’on continue d’augmenter graduellement Va, à un certain moment tous les électrons libres et les ions vont disparaître, collectés par l’anode et la cathode respectivement. Si le champ électrique imposé (Va /dd) n’est pas suffisant pour ioniser le gaz, le courant dépend uniquement de la capacité du rayonnement cosmique à ioniser le gaz. Celui-ci produit un certain nombre d’électrons (ou d’ions) dans le volume de décharge par unité de temps. 12 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV En conséquence, le courant sera constant pour toutes les valeurs de tension et son expression est donnée par la relation suivante, où V correspond au volume de la décharge et e à la charge de l’électron. I= S V e (1.1) Il s’agit de la zone II de la figure.2. La décharge produite dans ce régime (de même que celle produite par l’ionisation de fond) est qualifiée de « décharge non autonome », car elle dépend uniquement d’un facteur externe au dispositif, et si ce facteur externe disparaît, la décharge ne peut pas s’entretenir. 1.3.3. Régime de Townsend En l’absence de tout champ électrique appliqué, un certain nombre de charges créé par des mécanismes naturels, tels que rayonnement ultraviolet ou radioactivité, soit par des mécanismes artificiels, par exemple en bombardant pour en extraire des électrons . Si un champ électrique est appliqué, les électrons sont suffisamment accélérés par le champ pour produire d’autres électrons par les collisions, qui à leur tour acquièrent par le champ électrique assez d’énergie pour ioniser d’autres atomes, et ainsi de suite, et le nombre d’électrons libres continuera à augmenter comme ils continuent à se déplacer sous l’action du champ électrique. C’est ce phénomène, qui provoque un accroissement exponentiel de la densité de charge électronique lorsqu’on s’éloigne de l’électrode. Le claquage engendrant ainsi un processus de multiplication électronique (aussi appelé réaction en chaîne ou avalanche). Dans cette zone (zone III de la caractéristique sur la figure 2, le courant augmente exponentiellement avec la tension appliquée aux électrodes. Si l’une des électrodes est remplacée par une autre, en forme de pointe, la surface effective de la section traversée par le courant étant moindre pour la pointe que pour le plan, la densité de courant dans la nouvelle électrode sera supérieure à celle du plan. Du fait de la présence de la pointe, le champ électrique est assez important pour ioniser un volume au voisinage de cette pointe, produisant une luminosité dans les environs de cette zone. Ce type de décharge est qualifié de « décharge couronne » et une de ses caractéristiques est qu’elle demeure obscure au voisinage de la seconde électrode. 13 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure 3: Avalanche électronique Cette avalanche peut être étudiée quantitativement à partir de la connaissance de coefficient d’ionisation de Townsend. α, représentant le nombre d’électrons (ou ions positifs) crées par un électron par élément de longueur le long d’une ligne de force du champ appliqué. Une expression empirique exploitable considère que l’énergie thermique des électrons est acquise par le travail du champ électrique sur une distance de l’ordre du libre parcours moyen. Or ce dernier est inversement proportionnel à la pression. Donc, en introduisant les constantes A et B déterminées expérimentalement on a : α =A.P exp(-BP/E) (1.2) 1.3.4. Claquage du gaz : Transition entre le régime de Townsend et la décharge luminescente Si le champ électrique est encore augmenté et devient suffisamment important, des électrons secondaires sont émis par la cathode, à cause du bombardement des ions positifs. Ces électrons secondaires font augmenter le courant et chuter la tension aux bornes du gaz, provoquant une transition discontinue entre le régime de Townsend et le régime luminescent. Ce champ électrique peut être désigné comme le champ électrique de claquage. Il s’agit de la région IV dans la caractéristique statique de la décharge (figure 2). 14 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV La tension correspondante au champ électrique de claquage est dénommée « tension de claquage » ou « potentiel disruptif » ; selon la « loi de PASCHEN », elle dépend uniquement du produit entre la pression du gaz Pgaz et la distance inter électrodes ddech. Vclaq= . . ( γ (1.3) ) Dans cette équation, A et C sont des constantes propres à chaque gaz et γ est le coefficient d’émission électronique secondaire, qui représente le rapport entre le nombre d’électrons secondaires émis par la cathode et la somme des ions et photos qui la percutent (ce coefficient dépend du matériau de la cathode). La loi de PASCHEN peut être transformée sous la forme (1.4), afin d’introduire la valeur du produit pression distance (pd), pour lequel la tension de claquage est minimale et vaut Vclaq. On cherchera aussi à déterminer la valeur de cette tension. Une fois ces deux paramètres identifiés pour un gaz, nous pouvons estimer la tension de claquage pour un système expérimental, dont nous connaissons le produit pression distance, en utilisant la « courbe universelle de PASCHEN ». Vclaq=V claq min . ( . ) (1.4) Cette relation est très utile pour déterminer l’ordre de grandeur des tensions de claquage. Par exemple, si l’on veut prévoir quelle est la tension de claquage dans l’air, avec des électrodes en fer, séparées de 500 μm à pression atmosphérique (760 Torr). Les sources bibliographiques [1.6] fournissent les valeurs suivantes : Vclaqmin = 360 V et (p.d)min = 5,7 x 10-3 Torr m. Ainsi nous obtenons une tension de claquage de 4615 V. Cette approche est utilisée pour estimer l’ordre de grandeur de la tension de claquage des lampes utilisées pour les expérimentations. 1.3.5. Régime de décharge luminescente normale Une fois la transition au régime de décharge luminescente franchie, Vd reste (zone V sur la figure 2) à une valeur constante (plus faible que la tension de claquage) pour plusieurs ordres de grandeurs de Id. 15 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV En effet, dans ce régime, la densité de courant aux électrodes reste constante, ce qui veut dire que la décharge n’occupe pas la totalité de la surface des électrodes. De cette décharge nous pouvons souligner deux choses, le début de l’émission lumineuse par la décharge et la présence d’une région dans le volume gazeux appelée colonne positive. La colonne positive possède les caractéristiques d’un plasma : un champ électrique faible (typiquement de 1 V/cm) et une charge d’espace nulle (même nombre d’électrons que des ions). Ici, la température des électrons est supérieure à celle des ions et des neutres, ce qui fait de ce volume un plasma hors équilibre. 1.3.6. Régime de décharge luminescente anormale Dans la décharge luminescente normale, nous avions une densité de courant constante ; quand le courant augmentait, la surface du plasma s’élargissait. Si nous continuons à augmenter le courant, la surface du plasma couvre la totalité des électrodes. Pour monter plus haut en courant, il est nécessaire de réaliser une augmentation de la densité de courant ; ainsi, la charge d’espace augmente, entrainant le renforcement du champ électrique ; ceci se traduit par un accroissement dans la tension de décharge. Ce régime correspond au secteur VI dans la figure 2. 1.3.7. Arc non thermique Avec l’augmentation de la densité de courant, la cathode se chauffe jusqu’au point d’incandescence et produit, par effet thermoïonique, des électrons supplémentaires. Ces électrons créent un phénomène d’avalanche et font chuter de façon discontinue, la tension dans la décharge. Si la densité de courant continue d’augmenter, la tension est de plus en plus faible, à cause de la génération d’électrons par le même effet. Ceci donne une caractéristique de résistance négative, correspondant à la zone VII dans la figure 2. Le régime d’arc non thermique peut apparaître à l’œil comme une décharge luminescente. Néanmoins, dans le régime d’arc, les densités de courant sont de l’ordre de quelques A/cm². 16 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV 1.3.8. Arc thermique Dans ce régime, nous avons une température similaire pour toutes les espèces dans le gaz ; en d’autres termes, nous sommes près de l’équilibre thermodynamique (plasma chaud). Cette zone est caractérisée par une tension très faible et une faible augmentation de la tension avec le courant (résistance locale positive). Egalement, le niveau de courant est très élevé (normalement supérieur à 50 A). Il s’agit de la zone VIII de la caractéristique statique de la décharge sur la figure 2. 1.4. Applications des décharges à barrière diélectrique Les applications industrielles des décharges électriques sont très variées et touchent des domaines d’applications assez différentes, touchent des domaines scientifique et industrielle, allant du traitement de surface (couche mince) à la réduction des polluants en passant par la production de rayonnement UV (lampes à éxcimeres). La figure suivante résume le principe général des DBDs et énumère leurs applications majeures. 17 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure.3. diagramme schématiques pour les principales applications des décharges à barrière diélectrique [16] 1.4.1. La dépollution : L’utilisation des plasmas froids pour la dépollution de l’air est actuellement en pleine expansion. De nombreux brevets, majoritairement asiatiques, ont été déposés sur le sujet. Parmi eux, on peut compter des procédés par plasma seul ou bien par combinaison plasma/catalyse, voire plasma/photocatalyse. Cette dernière catégorie est étudiée depuis une dizaine d’années et a montré des résultats prometteurs. Une décharge à barrière diélectrique DBD, a permis d’identifier différents mécanismes constituant plasma/photo catalyseur dans la dégradation d’une molécule test. De plus, les mesures électriques ont mis en évidence un comportement particulier du plasma vis-à-vis de la barrière diélectrique, et l’existence d’une auto organisation des filaments de plasma. Ces résultats sont marqués par le développement d’une théorie baptisée « effets collectifs ». Cette théorie repose sur une interaction particulière entre le plasma et les charges adsorbées sur la surface diélectrique. 1.4.2. Traitement de surface : L'étude engagée depuis plusieurs années sure les plasmas hors équilibre, conduit à explorer les potentialités de ces plasmas non thermiques à effectuer divers traitements sur les tôles de grandes largeurs au défilé rapide. L'objectif est de remplacer les traitements actuels par voies humides qui sont polluants (bain de grandes dimensions de produits acides ou basiques dégageant des vapeurs toxiques) par des traitements secs respectueux de l'environnement. Naturellement, le choix du plasma à utiliser est largement conditionné par les contraintes propres à l'application: l'extrapolation en 2D doit pouvoir se faire sans problème et les temps de traitements doivent impérativement être inférieurs à 10 secondes. Face à ce cahier de charges et aux contraintes de coûts, Il à été choisi d'étudier les plasmas produits à pression atmosphérique par décharge à barrières diélectriques (DBD). Un des principaux enseignements des études a été la mise en évidence de l'efficacité bien supérieure du mode impulsionnel par rapport au mode sinusoïdal traditionnellement utilisé pour l'excitation des DBD. Après avoir démontré l'efficacité de l’approche pour le nettoyage de surface, l’entrepris l'étude du dépôt de couches minces de SiOxCHy à partir de mélanges gazeux comportant du HMDSO en tant que précurseur. Ces recherches sur les dépôts de 18 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV couches minces. Pour le dépôt de couches minces à la pression atmosphérique montré que la difficulté majeure était le contrôle de l'homogénéité du dépôt, qui résulte d'une interaction complexe entre l'hydrodynamique du flux de gaz et l'énergétique de la décharge. La confrontation des résultats expérimentaux aux prédictions du code FLUENT, a permis de comprendre les processus en jeu et de déterminer les conditions permettant d'obtenir des dépôts homogènes de grande surface. 1.4.3. Production d'oxygène En 2004 LPGP lancé une nouvelle thématique d'étude sur les micro-décharges qui présentent des propriétés de stabilité tout à fait remarquables, permettant de générer des plasmas stables à haute pression et à forte densité de puissance injectée. D'un point de vue fondamental, l'étude de ces micro-décharges hors-équilibre ouvre un nouveau champ de recherche en physique des plasmas. Du point de vue des applications, ces micro-plasmas à pression élevée peuvent permettre le développement de micro-réacteurs laissant entrevoir de nouvelles potentialités très prometteuses, en particulier pour la production de flux importants d'espèces réactives ou de photons UV. Le projet « MicroPlasRé » vise à utiliser les plasmas haute pression hors équilibre thermodynamique créés dans des micro-décharges pour produire des flux importants de radicaux et de métastables. Figure 3 : Schéma de principe d'une "Micro-Cathode Sustained Discharge" (MCSD) produite dans de l'oxygène (photo de droite) à partir d'une "Micro-Hollow Cathode Discharge" (MHCD) de dimension 400 μm (photo de gauche). 19 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV I.4.4. Les écrans à plasmas (PDP : Plasma Display Panels) Le principe de fonctionnement des écrans à plasma est de transformer un signal électrique en lumière visible. Pour cela, on crée une décharge gazeuse entre deux électrodes et le rayonnement ultraviolet qu’elle produit est ensuite converti en signal lumineux. Après l’application du signal électrique entre les électrodes, Chaque pixel d’écran panneau à plasma est constitué de trois cellules indépendantes pour les trois couleurs fondamentales. Dans une cellule une décharge est initiée. Il en résulte une émission de photons ultraviolets (VUV) collectés par des luminophores. Ces luminophores sont déposés sur des barrières pour convertir les photons UV en photons visibles. Un panneau à plasma (PAP) est constitué de deux verre parallèles entre un mélange de gaz rares, en général des mélanges binaires (90% néon-10% xénon) ou ternaires (He, Ne, Xe) à une pression de 350 à 600 torr. Le xénon est utilisé car il va produire des photons VUV en se désexcitant. Le néon est utilisé pour son fort coefficient d’émission secondaire, permettant d’allumer et d’entretenir la décharge pour de faibles tensions. Figure.4. Schéma d'une cellule d'écran à plasma I.4.5. Lampes à excimer à base de décharge à barrières diélectriques L’utilisation des décharge à barrières diélectriques pour produire du rayonnement excimer s’est avérée être un concept très utile. Leur avantage principal est la simplicité, le manque d’électrodes internes, le rendement élevé et le prix réduit. Des lampes scellées de 20 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV différentes géométries planaires et cylindrique peuvent être conçues. La largeur du gap de décharge s’étend de 0,1 millimètres à plusieurs centimètres. La pression de remplissage peut s’étendre de 104 Pa à 5x105 Pa. Dans beaucoup de cas, un troisième gaz amortisseur He, Ne est ajouté à l’excimer binaire formant ainsi le mélange gazeux. Ceci facilite l’allumage et fournit le contrôle additionnel de la distribution d’énergie d’électron. La gamme de fréquences d’opération est de 50 Hertz à 1 MHz, La tension appliquée de quelques 100 V à plusieurs kV. Maintenant des lampes commerciales d’excimer sont offertes pour les longueurs d’onde de 126 nm (Ar2*) ; 146 nm (Kr2*) ; 172 nm (Xe2*) ; 222 nm (KrCl*) et 308 nm (XeCl*). Pour les applications traitant les radiations UV des lampes XeCl* cylindrique de longueur allant jusqu’a 2 m sont disponibles. Les efficacités typiques s’étendent de 5-40%. Ces dernières années des lampes a puissantes et efficaces à XeI* et XeBr* rayonnant à 253 et à 282 nm, respectivement, ont été étudiées. La plupart des lampes d’excimères concentrent leur émission dans une région étroite de longueur d’onde. Même aux puissances d’entrée électriques élevées les versions refroidies peuvent fonctionner près de la température ambiante. Des phosphores peuvent être employés pour transformer le rayonnement UV à la lumière visible. C’est la base des lampes fluorescentes à mercure-libres et des panneaux d’affichage plats à plasma avec une diagonale d’image allant jusqu’à 1,5 m. Au début des années 90, apparaissent les premières lampes à décharge (sans filament et contenant du gaz xénon) ; beaucoup moins polluante que les lampes à décharge à vapeur de mercure ou de sodium ces lampes sont conçues exceptionnellement pour les phares de voitures modernes. Aujourd’hui les projecteurs ainsi équipés sont surtout montés sur des berlines de haute gamme. Les phares au Xénon ou projecteurs à décharge de haute intensité émettent un faisceau lumineux de couleur bleutée. Cette technologie (sans filament et contenant du gaz Xénon), permet de profiter d’une meilleure visibilité, sans pour autant éblouir les autres conducteurs. Les avantages sont : -une durée de vie des lampes multipliée 4 fois plus. -une consommation d’énergie divisée par 2 et un flux lumineux 2 fois plus puissant par rapport aux projecteurs à lampe halogène. La lumière d’un projecteur à xénon se rapproche plus de la lumière du jour, ce qui offre une très bonne pénétration dans les ondulations de la chaussée, une atténuation des reflets et un meilleur éclairage des panneaux routiers. 21 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Ils offrent un éclairage homogène qui porte plus loin (à plus de 400 m) en feux de route et plus largement sur les bas-côtés en feux de croisement. Lorsqu’on croise un véhicule équipé de ce type de projecteurs, l’éblouissement est moindre et la lumière projetée semble très bleue. Résultat : un confort visuel accru et une plus grande sécurité. Les statistiques montrent qu’un automobiliste qui a opté pour l’éclairage à décharge ne reviendra jamais à un éclairage traditionnel. Le principe est le suivant : les filaments des lampes disparaissent pour laisser place à une décharge électrique qui excite un gaz, le xénon, présent dans l’ampoule. Pour bénéficier de ces projecteurs a xénon, les véhicules doivent posséder un allumage électronique, un correcteur dynamique qui règle la hauteur de l’éclairage en fonction de l’assiette du véhicule (en charge, à l’accélération, au freinage) et d’un lave-phares sous pression pour assurer un rendement maximum au système. Jusqu’à présent, il était nécessaire d’avoir deux lampes pour bénéficier de l’éclairage xénon en feux de croisement et feux de route. Désormais, cette technologie permet de produire les faisceaux route et croisement avec une seule lampe à décharge. Cette technologie bi-fonction comprend, dans le cas d’un projecteur à réflecteur traditionnel, un dispositif qui déplace la lampe de quelques millimètres pour assurer le passage des feux de croisement en feux de route. Dans le cas d’un projecteur elliptique, le faisceau croisement est obtenu par l’interposition d’un occulteur (déplacement de l’occulteur) entre le flux lumineux et la lentille de projection. I.5. Applications des lampes à excimère Les lampes à espèces excitées, excimères ou exciplexes, présentent des avantages par rapport aux techniques de production d’UV : Elles n’ont pas besoin d’un système de chauffage du gaz (mercure) et peuvent être employées dans des applications à basse température (régime luminescente au lieu du régime d’arc). Le spectre d’émission peut être réglé avec le mélange gazeux, avec multiples choix avec une largeur de raie de l’ordre de la dizaine de nanomètres. n’utilisent pas le mercure dans le mélange gazeux, évitant des conséquences graves pour la santé et l’environnement. Les lampes a excimères base de xénon ou d’halogénure de gaz rare ont beaucoup d’applications dans : 22 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV La stérilisation UV/ ozone d’instruments médicaux. La modification de la structure et de la composition de surfaces ; Le nettoyage UV/ozone sans génération externe d’ozone ; Le dépôt chimique en phase vapeur photo-induite ; L’activation de surface : prétraitement de divers matériaux (métal, plastiques, caoutchouc) Le nettoyage a sec de surfaces, la décomposition et l’oxydation de résidus ; Afin d’améliorer la liaison, la mouillabilité, etc. ; La métallisation photo-induite ; Le matage par UV ; L’ablation de plastiques photo-induite ; Le durcissement par UV d’encres d’imprimerie ; Le traitement post-procède – durcissement des revêtement et adhésifs ; La modification de textiles et de fibres industrielles ; I.5.1. Eclairage Le contact entre l’électrode et le gaz dans les lampes, est la principale source de contamination du gaz et d’érosion des électrodes ; la DBD est une bonne solution à ce problème, et permet d’augmenter la durée de vie des lampes de nouvelle génération. Elles permettent aussi l’élimination du mercure, qui est un élément dangereux pour la santé. En ce qui concerne l’éclairage, les lampes à DBD, ont également l’avantage de pouvoir produire un rayonnement homogène à travers la surface des électrodes; cette propriété est exploitée pour les lampes d’éclairage de fond dans les écrans LCD. Les lampes DBD fluorescentes (en réalité il s’agit de lampes phosphorescentes) sont utilisées pour produire les pixels dans les écrans à plasma. Elles sont de plus dotées d’un revêtement de poudre phosphorescente à l’intérieur de la paroi externe. La décharge dans le gaz conduit à la production de photons dans la région UV ; ces photons entrent en collision avec la substance phosphorescente, générant ainsi de la lumière visible. Dans ces lampes DBD, le diélectrique externe (et parfois l’électrode externe qui est transparente) filtre l’UV, ne permettant que le passage de la couleur correspondante à une longueur d’onde visible. Cette longueur d’onde peut être choisie avec la substance fluorescente, ce qui est exploité 23 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV dans la construction des écrans plats pour la télévision. Une application spécifique des DBD concerne les dispositifs destinés à produire un rayonnement UV [32], créé par des excimères ou des exciplexes. Parmi les applications les plus courantes de ces lampes, basées sur l’utilisation du rayonnement UV produit, nous trouvons : les traitements dermatologiques, la stérilisation de l’eau et les procédés pour la microélectronique [33]. Les lampes à espèces excitées, excimères ou exciplexes, présentent des avantages par rapport aux techniques classiques de production d’UV: • elles n’utilisent pas le mercure dans le mélange gazeux, évitant des conséquences graves pour la santé et l’environnement ; • elles n’ont pas besoin d’un système de chauffage du gaz (mercure) et peuvent être employées dans des applications à basse température (régime luminescent au lieu du régime d’arc) ; • leur spectre d’émission peut être réglé avec le mélange gazeux, avec multiples choix, avec une largeur de raie de l’ordre de la dizaine de nanomètres. I.5.2. Photolithographie La photolithographie est un processus clé dans la vaste industrie des semi-conducteurs puisqu'il s'agit de l'étape au cours de laquelle les micro-pistes et composants du circuit sont gravés sur le substrat de silicium. Ces plaquettes de silicium subissent ensuite plusieurs traitements pour former, à la fin, un circuit intégré qui est par la suite utilisé dans tous les systèmes électroniques qui nous entourent. Les pistes et les composants d'un circuit intégré sont d'abord conçus puis imprimés sur un support transparent qui constitue alors le masque. La photolithographie consiste à projeter l'image de ce masque sur la surface d'un substrat en silicium pour ensuite y graver le circuit. Le processus typique consiste à déposer une couche métallique (ou produire une couche d'oxyde) à la surface d'une tranche de silicium de quelques nanomètres d'épaisseur, puis à la recouvrir d'une résine photosensible. Le masque est déposé au-dessus et l'ensemble est soumis à une forte irradiation UV. La résine durcit sous l'effet du rayonnement et se fixe ainsi dans les zones transparentes du masque. La tranche de silicium est alors lavée de la résine non durcie et sa surface présente à ce stade une image en négatif du motif imprimé sur le masque. 24 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Les parties couvertes par la résine sont ainsi protégées alors que les zones découvertes sont soumises à des attaques chimiques destinées à éliminer le métal ou l'oxyde. Cette couche est ainsi gravée selon le schéma du masque. Pour éviter l'apparition de défauts à la surface du semi-conducteur, le masque n'est généralement pas appliqué directement à la surface de la résine et un léger espace sépare les deux surfaces. Par conséquent, un des facteurs qui limite la résolution de la gravure est la diffraction du rayonnement sur les bords des motifs du masque. Elle représente une valeur d'environ la racine carrée du produit de la longueur d'onde d'irradiation UV et de la distance masque-résine. I.5.3. Photothérapie Dans les applications biomédicales, la photothérapie occupe une place de choix notamment en dermatologie. Les techniques conventionnelles utilisent généralement des sources laser dont la longueur d’onde peut s’accorder exactement à l’absorption de la lésion, pour éviter tout contact et de forts dépôts d’énergie dans les domaines spectraux inutiles voire même nocif. De ce fait, leur utilisation n’est pas aisée et nécessite une qualification spécifique du praticien. I.6. Géométries courantes des lampes à excimères « exilampes » Le terme de DBD regroupe toutes les configurations de décharges pour lesquelles un courant transite entre deux électrodes métalliques séparées par un gaz et par au moins une couche d’un matériau isolant (diélectrique solide). 25 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV La présence d’un diélectrique entre les électrodes peut être considérée comme une capacité en série avec l’espace de gaz. Sa charge limite la tension appliqué au gaz ce qui évite d’entretenir le plasma d’une manière continu et donc la transition vers un arc. L’accumulation de charges issues du plasma sur le diélectrique entraîne une chute du potentiel et du champ appliqués sur le gaz conduisant à l’extinction de la décharge. Les matériaux couramment utilisés comme barrière diélectrique sont le verre, le quartz, l’alumine, et certaines céramiques particulières. Des différences de potentiel de l’ordre de dizaines de kV sont nécessaires pour allumer les décharges dans un espace inter-électrodes de quelques millimètres. Pour plusieurs auteurs, l’alimentation impulsionnelle permet de mieux contrôler le dépôt d’énergie sur les électrons, et d’obtenir ainsi une meilleure efficacité de l’excitation, tel que R. Bussiahn et al [18] utilisé des pulses carré de haute tension d’amplitude de 3 à 7KV. Par contre dés autres chercheurs utilisé des alimentations sinusoïdales pour obtenir une meilleure efficacité d’excitation et donc meilleure efficacité lumineuse. La DBD est normalement utilisés entre des fréquences de 10 kHz à 300 KHz. Figure.5. Lampes à excimères de configuration cylindrique Des configurations typiques cylindriques ou planaires des électrodes des décharges à barrières diélectriques sont montrées sur la figure ci-dessous : les DBDs sont caractérisées par la présence d’une ou plusieurs couches de diélectrique dans le chemin du courant entre les électrodes métalliques, en plus du gap de décharge. Comme le montre la Figure 1.7, deux types de configurations sont présentées : la configuration plane (avec un ou deux diélectriques avec des positions différentes) et la configuration cylindrique. 26 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure 6 : figure représente un schéma descriptif de la géométrie coaxial des électrodes. Figure 7 : Schéma descriptif de la géométrie coplanaire des électrodes. I.7. Création d’excimères et exciplèxes La décharge électrique provoque des collisions, entre les électrons émis depuis la cathode vers l’anode et les espèces du gaz, Ces collisions peuvent produire des changements temporaires ou définitifs, dans la structure du gaz. 27 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Les excimères et exciplèxes sont des états faiblement liés des molécules diatomiques excitées qui, dans des conditions normales, ne possèdent pas un état fondamental moléculaire stable. Le terme excimer provient de la contraction de « excited-dimer ». On utilise quelque fois la dénomination « exciplexe » pour designer spécifiquement les molécules constituées de deux atomes différents (provenant de « excited-complexe »). Ces molécules se désexcitent en émettant un photon dont l’énergie est de quelque électro-volts ; dont la longueur d’onde se situe entre le visible et l’ultraviolet lointain ; ils se distinguent par la conversion de leur énergie d’excitation en une émission spontanée pendant une courte duré de l’ordre du nanoseconde. Ces radiations sont enfermées dans une étroite bande spectrale. En principe, tous les gaz rares et les gaz rare-halogène peuvent former un état légèrement lié excité et aussi ils peuvent former des excimers. Une classe importante de molécules exciplexes est constituée par les halogènes de gaz rare (RgH). C’est cette catégorie de molécules qui a donné lieu aux recherches et développement les plus importants, en raison de l’efficacité lumineuse basés sur ces exciplexes, de l’énergie élevée, et des potentilles applications technologiques. Dans la plus part des cas, les réactions cinétiques conduisant à la formation des espèces excimers complexes sont sélective. Ainsi, il est possible de guider une source de radiation avec une grande intensité dans certaines régions spectrales assez étroites. Les meilleurs systèmes étudiés sont les excimers des gaz rares Xe2*, Ar2*, Kr2* et les excimères l’halogénure des gaz rares ArF*, XeCl*, KrCl* qui sont employés dans des lasers à UV et dans les lampes à excimeres. Les propriétés des rayonnements de ces excimers et la cinétique de leur formation ont été longtemps étudiées théoriquement et expérimentalement en utilisant différentes méthodes d’excitation : faisceau d’électrons à énergie élevée, les particules α, les protons, les radiations synchrotron, les décharges pulsées, les décharges micro-onde… Des expériences assez récentes avec la formation d’excimer dans de microdécharges à barrière ont été également rapportés. 28 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Le tableau 2. Collisions produites par des électrons, dans une décharge électrique Processus collisionnel Collision élastique e+A A+e Ionisation e+A 2e+A + Excitation e+A A * +e Ionisation (Penning) e+A* 2e+A + Dissociation e+AB A+B+e Ionisation dissociative e+AB 2e+A + B Attachement dissociatif e+AB A +e Recombinaison e+A B A+B Tableau 3. Les longueurs d’ondes pour les différentes transitions d’excimeres. Les longueurs d’ondes pour les différentes transitions d’excimeres. R – atome Y –atome Les de transitions, (nm) de gaz rare halogéne longueurs d’onde correspond au les différentes D1/2→X1/2 B1/2→X1/2 C1/2→A1/2 D1/2→A1/2 Ne F 106 108 110 111 Ar F 185 193 203 204 Ar Cl 175 Ar Br 165 172 183 Kr F 220 248 275 272 Kr Cl 200 222 240 235 Kr Br 207 222 228 Kr I 190 195 225 Xe F 264 351 460 410 Xe Cl 236 308 345 340 Xe Br 221 282 300 325 Xe I 203 253 265 320 195 29 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV I.8. Structure atomique et moléculaires du exciméres et dess exiplexes I.8.1. La structure de la molécule XeCl Configuration électronique Les atomes de xénon possèdent comme tous les gaz rares une couche électronique externe complète. Les configurations électroniques de cet atome s'écrivent: 1s2 ,2s2,2p6,3s2,3p6,3d104s2 4p6,4d10 ,5s2,5p6. (I.5) L'électron excité est donc caractérisé par un nombre quantique principal n et un nombre quantique orbital l .La configuration électronique des états excités du xénon prendra la forme 5p5nl avec n ≥ 6. L’état ionique est caractérisé par les nombres quantiques lc = 1 et Sc = 1/2. Le moment angulaire total de l'ion Xe+ peut prendre deux valeurs : JC = 3/2 et JC =1/2 conduisant à deux états d'énergie pour l’état ionique : le doublet 2 P 3/ 2, 2 P 1/ 2. les valeurs propres de K (K=J +l,..., \J −l\ ) figurent entre crochets. C C Le crochet est précédé du nombre quantique principal et le type de l'orbitale de l'électron extérieur est primé si l'état est 2 P 1/ 2. 30 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Tableau 5: Niveaux d'énergie des états atomiques et les limites d'ionisation pour le xénon I.8.2. Emission ultraviolette du xénon dans le plasma Le rayonnement ultraviolet de la décharge dans la lampe est produit par la désexcitation radiative des niveaux atomiques et moléculaires élevés du xénon et l’eximer XeCl. Une description des états atomiques et moléculaires du xénon et la molécule XeCl se voit donc nécessaire afin d’identifier les niveaux électroniques intéressants. Les réactions entrant en jeu dans un mélange xénon chlorure seront également données. 31 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Sur la figure. 8 sont représentées les courbes de potentiel de la molécule de xénon pour les différents états impliqués dans l’émission de la décharge électrique transitoire d’une lampe à exciméres. Figure 8. Courbes de potentiel de la molécule de xénon. Ne sont représentés que l’état Fondamental et les premiers niveaux d’excitation. Il y a deux états résonnants (3P1, 1P2) et deux états métastables (3P0, 3P2). Les émissions vont être soit des raies de résonance soit des continuums. Les raies de résonance sont dues à une transition directe entre l’état excité considéré et l’état fondamental d’un atome. Les continuums U.V. des molécules de gaz rares résultent des transitions depuis les états excités liés moléculaires les plus bas vers l’état fondamental non lié. La première raie de résonance Le terme de raie de résonance s’applique aux transitions optiques, i.e. désexcitations radiatives, depuis un état initial excité de l’atome considéré vers un état final qui est son état fondamental. Elle est émise par la désexcitation radiative du deuxième niveau résonnant du xénon, l’état 1P1. Cette raie est à peine visible même à faible pression (< 5 torr) et ne 32 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV participera donc pas à la cinétique mise en jeu dans la décharge transitoire d’une lampe puisque la pression est de plusieurs centaines de torrs. (I.6) La deuxième raie de résonance Elle est émise par un niveau plus bas en énergie (Xe (3P1)) et joue un rôle important dans l’émission U.V. de la décharge. (I.7) Le premier continuum Ce continuum commence juste après la deuxième raie de résonance. Son origine est la désexcitation des niveaux vibrationels élevés de l’état moléculaire Ou+ vers l’état fondamental Og + de la molécule Xe2. (I.8) Le deuxième continuum Il provient de la désexcitation des bas niveaux vibrationnels des états moléculaires du Xe2 excités vers l‘état fondamental dissociatif. Il est centré autour de 173 nm et débute dès la fin du premier continuum. (I.9) Les différents niveaux qui sont impliqués dans l’émission U.V. de la décharge (2ème raie de résonance et les deux continua) sont d’importance différente suivant la pression du gaz et suivant le pourcentage de xénon présent dan le mélange. De nombreuses études ont été faites sur ce sujet. Les résultats obtenus lors de ces différents travaux montrent la dominance du deuxième continuum sur l’ensemble de spectre pour des valeurs élevées de pression et de pourcentage de xénon dans le gaz. I.8.3. Emission ultraviolette du XeCl dans le plasma Le schéma de principe des niveaux d’énergie mis en jeu dans la molécule exciplèxe XeCl* est représenté sur la Figure 9. La transition laser, émise à 308 nm, a lieu entre l’état XeCl (B) et l’état fondamental XeCl (X). L’état supérieur résulte essentiellement de la 33 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV recombinaison ion positif Xe+ et ion négatif Cl-. L’ion Xe+ est créé par ionisation dans la décharge et l’ion Cl- par attachement dissociatif des électrons libres de la décharge. Contrairement à certains autres halogénures de gaz rares, XeCl possède un état fondamental non-dissociatif. Ce caractère liant a été mis en évidence expérimentalement bien avant les travaux théoriques dans des études sur des molécules XeCl à l’état solide dans des matrices d’argon à 20K et plus tard à l’état gazeux. Les forces de Van Der Waals qui interviennent dans la liaison entre atomes ne sont pas suffisamment intenses dans le cas de l’état X pour expliquer la présence d’un puits de potentiel qui même faible (la profondeur est de l’ordre de kT), peut contenir entre 12 et 20 niveaux vibrationnels. L’augmentation relative de l’énergie de liaison dans l’état X par rapport à celle de l’état A peut s’expliquer là encore par la prise en compte de l’interaction de configuration. Nous allons voir que l’état A est lui aussi très légèrement lié. Son énergie de liaison est deux fois moins élevée que celle de l’état X. Figure 9. Diagramme d’énergie d’exciplex XeCl*. 34 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Figure. 10 Simplified scheme of chemical kinetic of Xe/Cl2 gas mixture. Figure 11. L’intensité lumineuse pour l’émission du mélange Xe/Cl2. 35 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Une densité d’électrons de pré-ionisation de l’ordre de 108 cm-3 permet d’assurer une bonne homogénéité de la décharge. Cette pré-ionisation peut être effectuée préalablement par application d’une tension entre les électrodes ou bien, la tension étant établie, une injection brève d’électrons provoque le démarrage de la décharge, c’est la technique plus récente du photo-déclenchement. La pré-ionisation est généralement produite soit par le rayonnement UV d’une décharge annexe, soit par des rayons X engendrés par impact d’un faisceau d’électrons d’énergie comprise entre 50 et 100 KeV sur une feuille mince de matériaux . I.9. Les avantages des lampes à éxcimeres : Les caractéristiques des lampes à éxcimeres eont : La durée de vie des lampes à xénon dépend essentiellement du nombre d’heures de fonctionnement et aussi du nombre d’allumages. une lampe à xénon atteindre 100% de son flux lumineux après environ 30% à l’allumage, environ 80% après 5 secondes, 100% après environ 1 minute La puissance absorbée pour un projecteur est entre 40-45W dont 35W pour la source de lumière. Une lampe à xénon supporte facilement plus de 20000 allumages et extinctions. Ce résultat fait suite à des tests de survivance normalisés. Sur un véhicule où on solliciterait très fréquemment les codes, on pourrait atteindre des valeurs dépassant les 50000 allumages et extinctions. Quant au ballast, la règle veut qu’il supporte plus de 50000 allumages et extinctions La phase de mise en route (allumage et stabilisation) d’une lampe au xénon est complexe et le courant varie beaucoup également suivant le type de ballast employé. Les tensions d’amorçages se situent entre 10 et 20kV avec des impulsions très courtes (< 1ms.) En général au moment pendant la phase de démarrage après l’enclenchement de la lampe au xénon, il circule pendant quelques secondes un courant d’environ 2.6A (typiquement : 2– 3 s). Dans les 30 secondes qui suivent, le courant baisse de manière exponentielle jusqu’à une valeur de l’ordre de 0.4A. La tension d’arc de cette lampe est de 85 V (nominale). 36 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV Le brûleur en quartz peut atteindre une température maximum. De 700 °C. Dans le secteur de l’automobile la durée de vie moyenne de cette lampe est de l’ordre de 3000 heures. 37 CHAPITRE I I. Généralités sur les déchardes à barrières diélectriques et la production des rayonnements UV 1.10. Conclusion N ous avons présenté succinctement dans ce chapitre, les éléments essentiels à la compréhension de la suite de nos travaux. Les concepts de base ont été introduits, notamment les différents régimes de décharges dans les gaz, la classification des plasmas en fonction du degré d’ionisation. Une part prépondérante de cette étude bibliographique est consacrée aux décharges à barrières diélectriques. Nous avons commencé par les principes généraux des DBDs, leurs configurations courantes et les différentes applications industrielles. Compte tenu de l’axe d’orientation choisi pour cette thèse, nous avons insisté sur le principe de base régissant les excilampes et avons dressé un panorama, non exhaustif, de leurs applications. 38 Chapitre II Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectriques homogène CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectriques homogène A. INTRODUCTION L es lampes à gaz rares tel que Ar2*, Xe2*, ArF*, KrF*, XeI*, XeBr*, XeCl*, KrCl*…sont très étudies de la part des scientifiques à cause de leur pouvoir de produire les radiations UV, et leur haut efficacité lumineuse. Ces sources d’UV sont mises à profit dans divers procédés technologiques et industriels, mais la plus important dans ces catégorie des sources c’est XeCl* parce que ce délivrer des rayonnements pratiquement monochromatiques à 308 nm. L’excitation de cette excilampe est assurée par une décharge à barrières diélectriques. La différence de potentiel entre deux électrodes et de 9 KV pour un mélange de Xe-Cl2 1% pression et de 400 torr, la distance entre les deux électrodes est de 4 mm. Le chemin de réaction prédominante conduisant à la formation d’exciplexe XeCl * dans de telles conditions c’est la recombinaison de Xe+ avec Cl-. Tel que l’émission à 308 nm, a lieu entre l’état XeCl(B) et l’état fondamental XeCl(X). L’état supérieur résulte essentiellement de la recombinaison d’ion positif Xe+ et d’ion négatif Cl-. L’ion Xe+ est créé par ionisation dans la décharge et l’ion Cl- par attachement dissociatif des électrons libres de la décharge sur la molécule Cl2. L’équation de Boltzmann : Dans les plasmas de basse température, la distribution de chaque espèce F(r,υ,t) satisfait en général a l’équation bien connue de Boltzmann : (II.1) Ici X est la force agissant sur les particules, et (∂F/∂t)c est le taux de changement de F du aux collisions. Considérant, par exemple, des électrons libres, ce terme de collision doit expliquer les collisions élastique et inélastique électron neutre, et, aux degrés d’ionisation relativement 41 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène élèves, les collisions électron– électron et électron ion. Le symbole est tient, comme d’habitude, pour le gradient dans l’espace de configuration (x, y, z) tandis que le symbole représente le gradient dans l’espace de vitesse : (II.2) La signification de l’équation de Boltzmann devient claire si on note que le coté gauche de cette équation représente le dérivé totale (ou le convecteur) de F dans l’espace des phases (II.3) Où ∂F/∂t est la dérive par rapport au temps. Les trois prochaines termes sont juste F, alors que les trois dernies termes, tenant compte de la troisième loi de newton m(dυ/dt)=X sont définis comme X/m ∂F/∂v . L’équation de Boltzmann indique simplement que dF/dt est zéro s’il n’y a pas de collisions. Les collisions ont l’effet d’enlever une particule d’un élément de l’espace de vitesse et de la remplacer dans des autres, ou même de créer une nouvelle particule dans le cas d’ionisation. II.3. Dérivation des équations fluides Les équations macroscopiques ou de conservation sont simplement déduites de l’équation de Boltzmann. La plus simple des ces grandeurs est obtenue juste en intégrant cette équation dans l’espace des vitesses. (II.4) Où dυ représente un élément de volume tridimensionnel dans l’espace des vitesses. En transformant le troisième terme du cote gauche en se servant du théorème de Green et apres des calculs francs, on obtient l’équation de continuité (II.5) Où u est la vitesse moyenne et S représente le terme source des particules par unité de volume comme résultat des collisions (par exemple, dans le cas des électrons, ce terme tient compte de nouveaux électrons crées par l'ionisation et des pertes d'électrons dues à la recombinaison avec les ions ou l'attachement). 42 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Le moment suivant de l'équation de Boltzmann est obtenu en multipliant par le produit mυ et en intégrant dans dυ. On a (II.6) Le coté droit représente la variation de moment du aux collisions entre les particules. Le premier terme de coté gauche donne (II.7) La troisième intégrale de coté gauche donne, par le théorème de Green (II.8) En conclusion, pour évaluer la deuxième intégrale de la cote gauche, on note d'abord : (II.9) II.3.1. Vitesse de dérive Le mouvement des particules chargées est une combinaison d'activité thermique aléatoire et de la dérive régulière imposée par les champs électriques. L'équilibre des forces implique l'effet du champ électrique (-eE) sur les électrons et le changement de quantité de mouvement de la particule (mυ), ou il est supposé que la quantité de mouvement d'électron est transfère au gaz par des collisions qui ont lieu avec une fréquence v. Dans ce modèle on suppose que le libre parcours moyen entre les collisions doit être beaucoup plus petit que la taille de n'importe quelle région de l’espace, λ << d (dans Ar : λ ~1/3 mm a 1 Torr). La vitesse de dérive est alors liée au champ électrique par la mobilité, μ : Vdérive= (e/mv) E= μE (II.10) En général, la mobilité diminue quand la pression du gaz augmente. Strictement c’est une fonction d’énergie d’électron mais les modèles simples la traitent en tant que constante. La théorie cinétique lie la diffusion à la mobilité par la relation d’Einstein 43 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène D/μ = kT/e. (II.11) II.3.2. Coefficient de Townsend (α) Townsend a relié le libre parcours moyen d’ionisation au libre parcours moyen total de dispersion (λ) en le traitant comme un processus actif par l’énergie de dérive gagnée par le champ. Ceci mène à une formule qui donne le taux connu sous le nom le coefficient d’ionisation de Townsend (II.12) Puisque le libre parcours moyen est inversement proportionnel a la pression (p), le coefficient peut être écrit sous forme : α =A.P exp(-BP/E) (II.13) Où les constantes A et B sont des propriétés du gaz. II.3.3. L’émission secondaire L’accélération des électrons primaires dans le champ électrique mène, en principe, a l’émission des électrons secondaires à partir du gaz. On défini alors γ le nombre d’électrons secondaires par électron incident. Les processus de l’émission secondaires et de la multiplication deviendront autonomes si les électrons de la multiplication entre x=0 et x=d ont des énergies suffisantes pour ionise d’autres atomes ou molécules du gaz. Selon les équations (2.18) et (2.19) N0 électrons initiaux produiront aN0 exp(αx) dx électrons secondaires dans la galette dx a la position x. A travers l’espace, donc il y aura produit N0 [exp(αd)-1] électrons secondaires : (II.14) et (II.15) 44 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène II.4. Model d’une décharge homogène Nous avons développé la cinétique du mélange Xe-Cl2 , tel qu’on a utilisé un modèle zéro dimensionnel où le plasma est considéré comme un milieu homogène et uniforme dont la conductivité et lié à l’évolution de la densité électronique dans le plasma. e modèle est constitue du circuit extérieur, chargé par une résistance variable en temps Rg représentant la décharge. La résolution des équations différentielles décrivant le circuit permet d’obtenir à chaque instant la tension aux bornes du plasma, donc le champ électrique dans le plasma. Le modèle zéro dimensionnel est constitué de trois systèmes d’équations couplées : 1- Equation de Boltzmann électronique 2- Equations du circuit équivalent 3- Equations cinétiques pour chaque espèce Donc, le plasma représenté par une résistance de valeur variable dans le temps dépend de la densité électronique du plasma, de la distance interélectrode d, de la surface de la décharge A et de la mobilité électronique e et la gaine par une capacité. Le circuit équivalent de la décharge est en série avec la capacité équivalente des diélectriques qui couvrent les électrodes. Couplés au circuit électrique de la décharge pour décrire le comportement électrique et chimique de la lampe à excimère. La résistance du plasma est donnée par l’équation suivante : R d Aene e (II.16) Ce modèle est géré par trois systèmes d’équations couplées : l’équation du circuit de la décharge, l’équation de Boltzmann et un système d’équations cinétique pour les espèces considérés. En introduisent les taux de réactions impliquant les électrons, l’équation de Boltzmann et le système d’équations cinétique servent à obtenir la densité et la mobilité des électrons, qui sont utilisées pour déterminer la résistance du plasma intervenant dans l’équation du circuit de la décharge ces trois systèmes d’équations sont fortement liées et relatives. 45 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Le modèle cinétique a été développé dans le but de mieux comprendre et simplifier la cinétique des mélanges XeCl2 pour les lampes à excimères afin de déterminer les mécanismes à l’origine de la production des photons. L’avantage du modèle temporel est sa simplicité et par sa rapidité d’exploitation. Ainsi La comparaison des réactions entre elles permet de comprendre l’influence de chacune sur la décharge. Les équations cinétiques du plasma couplées et à celle du circuit extérieur sont résolues à l’aide de la méthode GEAR classique entre t et t+δt. II.4.1. Modèle de circuit équivalent. Le circuit équivalent de la cellule de décharge peut décomposée en deux parties: la barrière diélectrique équivalente à un condensateur Cd et la colonne positive équivalente à une résistance Rp [38, 45]. Figure 12. Le circuit équivalent au DBD. Le condensateur Cd représente la capacité équivalente de deux couches de diélectrique. Ces couches, généralement de quartz, de 1mm d'épaisseur, ont une constante diélectrique r = 3,7, un espace inter-dg = 10mm. Le condensateur Cd est léquivalent dedeux condensateurs en série pour les deux couches diélectriques, étant donné par la formule suivante: Cd = C d1 C d2 C d1 +C d2 (II.17) 46 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Ces couches en quartz généralement sont deux cylindres coaxiale d’épaisseur entre 0.6mm et 1mm., L’espace interélectrode de longueur dg est de l’ordre de quelque dizaine de millimètre. Le condensateur Cd c’est un condensateur équivalent des condensateurs cylindrique en série pour les deux couches diélectrique donne par l’équation 18. Où la capacité du diélectrique pour la géométrie des diélectriques coaxial est calculé par l’expression : C 2 0 r L r ln ext rint (II.18) Et pour une géométrie coplanaire : C 0 r S d (II.19) Où L est la longueur du tube, S la surface des diélectriques et d l’épaisseur du diélectrique. Diélectrique coaxial Constant Diélectrique r Quartz 3.7 Silice (SiO2) 4.0 L’alumine (Al2O3) Quartz 9 coplanaire Silice (SiO2) L’alumine (Al2O3) 3.7 4.0 9 Epaisseur diélectriques (mm) 0.6 1 0.6 1 0.6 1 S=1cm² S=4cm² S=1cm² 1 S=4cm² S=1cm² S=4cm² des Capacité des d diélectriques Cd (pF) 222.89 131.38 240.97 142 542.18 319.57 1.64 6.55 1.77 7.08 3.98 15.94 Tableau 3: les caractéristiques des barrières diélectriques de la décharge. La décharge est schématisée par une source de courant, idis(t). D’après le schéma électrique donné dans la figure 12, on a : Vcell (t) Vdis (t) Vdie (t) (II.20) 47 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène icell (t) idis (t) igap (t) igap (t ) C gap (II.21) dVdis (t ) dt (II.22) En dérivant l'équation (4) nous obtenons : dVcell ( t ) dV dis ( t ) dV die ( t ) dt dt dt (II.23) Le courant de la décharge idis(t) est ensuite obtenu : idis (t ) icell (t ) igap ( t ) icell ( t ) C gap dVdis ( t ) dVdis (t ) dVcell (t ) icell (t ) C gap C gap dt dt dt (II.24) Le courant de la décharge idis(t) peut être évalué, à condition que la tension appliquée, ucell(t), et le courant de la cellule, icell(t), soient mesurés : Cgap dVcell idis (t ) 1 icell (t ) Cgap dt Cdie (II.25) Le courant capacitif igap(t) qui traverse Cgap est ensuite déduit en utilisant l’équation (5). Electrode AC R1 Le mélange du Gaz Diélectrique Quartz R2 Figure 12: Schéma descriptif de la géométrie coaxiale des électrodes. 48 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène II.4.2. Le modèle cinétique II.2.2.1. Les espèces considérer La cinétique utilisée est simplifié suffisante pour décrire la décharge. Le modèle comporte 74 réactions impliquant 22 espèces chargées et excitées et les photons correspond auux les longueurs d’ondes172, 259, 308, 330, 490 nm. processus Taux de collision Référence processus d’ionisation (cm3/s) * + f E/ N [44] * + f E/ N [44] f E/ N [44] 3.88 (-9) exp(-15.5/ Te ) [45] R5 e+Cl2 Cl +Cl +e 8.55(-10) exp(-12.65/ Te ) [45] R6 e Cl Cl 2e 3.17(-8) .Te0.53.exp(-13.29/Te ) [45] R7 e+C l 2e+ C l 7.0(-11) [51] 3 4.0(-5) Te exp 7.5 / Te [59] R1 e+Xe r 2e+Xe R2 e+Xe m 2e+Xe + R3 e+Cl2 2e+Cl2 + R4 e+Cl2 2e+Cl +Cl + - + R8 e+Xe2Cl* Xe2 +Cl+2e Attachement électronique - R9 e+Cl2 Cl+Cl + * R10 e+Cl2 Cl +Cl + R11 e+Cl2 2Cl + ** R12 e+Xe 2 Xe +Xe f E/ N [44] 2.0(-8) [51] 9.0(-8) Te 0.5 [46] 2.0 (-7) Te 0.5 [59] Transfère de Charge 49 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène R13 Cl + +Xe Xe + +Cl 1.0(-12) [60] R14 Cl + +Xe* Xe + +Cl 1.0(-12) [51] R15 Cl + +Xe ** Xe + +Cl 1.0(-12) [51] 6.0(-11) [51] 1.0(-9) [51] R18 Cl* +Xe Xe + +Cl+e 1.0(-10) [51] R19 Cl* +Xe* Xe + +Cl+e 1.0(-10) [51] R20 Cl* +Xe** Xe + +Cl+e 1.0(-10) [51] R21 Xe* +Xe* Xe + +Xe+e 2.0(-10) [51] R22 Xe** +Xe** Xe + +Xe+e 2.0(-10) [51] R23 Xe2 +Xe2 Xe2 +Xe+Xe+e 3.5(-10) [61] R24 Cl - +Cl 2Cl+e 5.0 (-10) [60] 2.0(-6) [60] 2.0(-6) [51] + + R16 Xe +Cl2 Xe+Cl2 + + R17 Cl +Cl2 Cl2 +Cl ionisation Penning * * + recombinaison Ion-ion + - * R25 Cl +Cl Cl2 - + * R26 Cl +Cl2 Cl +2Cl +Cl- XeCl* Calculé par Flannery formule de [62] + Calculé par Flannery formule de [62] + R27 Xe - * R28 Xe2 +Cl XeCl +Xe collisions Electron-neutre * f E/ N [44] R30 e+Xe Xe +e ** f E/ N [44] R31 e+ Cl2 2Cl +e 1.04(-7)/(Te0.29 )*exp(-8.84/Te ) [46] R29 e+Xe Xe +e 50 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène 1.14(-14).exp(-5.34/Te ) [46] 5.0(-6) [51] * 1.2(-7) [64] R35 XeCl (C)+e Xe+Cl+e * 1.2(-7) [64] R36 e+Xe2Cl* e+Xe+Xe+Cl 2.0(-7) [51] R37 e+Xe2Cl* XeCl*+Xe+e 3.0(-8) [59] R38 2Cl+Cl2 2Cl2 5.4(-32) [63] R39 2Cl+Xe Cl2 +Xe 5.4(-32) [63] 1.55(-10) [60] 2.6(-14) [66] 1.5 (-15) [67] 6.0(-33) [51] * R32 e+Cl2 e+Cl 2 * * R33 XeCl (B)+e XeCl (C)+e R34 XeCl (B)+e Xe+Cl+e collisions neutres-neutres * * R40 Cl2 +Xe XeCl (B)+Cl * * R41 Xe r +Xe Xe m +Xe * * R42 Xe m +Xe Xe r +Xe * * 1 R43 Xe r +Xe +Xe Xe2 ( u ) + Xe * Xe2*( 3 u ) + Xe 1.9 (-32) [51] * Xe2*(O ) + Xe 1.55 (-35) [23] * 5.0(-32) [68] R47 Xe +Cl2 XeCl +Cl 7.0(-10) [51] R48 Xe +Cl2 XeCl +Cl 7.0(-10) [51] R49 Xe** +Xe Xe * + Xe 2.0 (-11) [23] 5.0(-32) [68] R44 Xe m +Xe +Xe R45 Xe r +Xe +Xe * R46 Xe +Xe+Cl2 Xe2 +Cl2 * ** ** * * * R50 Xe +Xe+Xe Xe2 +Xe 51 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène R51 Xe +Xe+Cl2 Xe2 +Cl2 5.0(-32) [68] * + * 1 R52 Xe2 (O )+Xe Xe2 ( u )+Xe 4.0 (-11) [59] 1.0 (-10) [26] 7.1(-10) [51] * 2.3(-11) [64] R56 XeCl (B)+Cl2 Cl2 +Xe+Cl * 2.6(-10) [51] * * R57 XeCl (B)+Xe+Cl2 Xe2Cl +Cl2 7.3(-31) [51] * * R58 XeCl (B)+Xe+Xe Xe2Cl +Xe 7.3(-31) [51] 6.3(-10) [64] R60 XeCl (B)+Xe XeCl (C)+Xe 1.1(-10) [64] * * R61 XeCl (C)+Xe+Xe Xe2Cl +Xe 4.0(-31) [64] * 8.0(-12) [59] R63 Xe2Cl +Cl2 Xe+Xe+Cl+Cl2 * 4.5(-10) [59] R64 3.0 (-10) [60] 2.0(-10) [60] 1.5(7) s-1 [59] 4.3 (5) s-1 [60] 9.0 (6) s-1 [66] ** * * 3 R53 Xe2 ( u )+Xe 3Xe * * R54 Xe2 +Cl2 XeCl +Xe+Cl R55 XeCl +Xe Xe+Xe+Cl * R59 XeCl (B)+Cl Xe+Cl+Cl * * R62 Xe2Cl +Xe Xe+Xe+Xe+Cl * * + - XeCl +XeCl Xe +Cl +Xe+Cl * R65 Xe2Cl +Cl Xe+Xe+Cl+Cl Emission spontané R66 Xe ** Xe * h ν * R67 Xe r Xe+ hv(147) * + R68 Xe2 (O ) Xe +Xe+hv(152) 52 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène 1.8(8) s-1 [59] 1.0 (7) s-1 [59] R71 Cl2 Cl2 +hν(259nm) 1.0(7) s-1 [59] R72 9.1(7) s-1 [59] 7.7(6) s-1 [65] 5.0(6) s-1 [59] R69 u * 1 2 Xe ( ) Xe+Xe+hν(172nm) R70 u * 3 2 Xe ( ) Xe+Xe+hν(172nm) * * * XeCl (B) XeCl (X)+hν(308nm) R73 * * XeCl (C) XeCl (X)+hν(330nm) * R74 Xe2Cl Xe+Xe+hν(490nm) Tableau 4. La cinétique chimique du mélange Xe/Cl2 pour la lampe à excimer. Les densités des espèces excitées et ionisées sont régies par un ensemble d'équations bilan de cinétique du mélange qui tiennent compte de l'ensemble des processus dans lesquels sont impliquées ces espèces. Parmi ces processus, il faut, bien entendu, inclure toutes les collisions électroniques et qui produisent un changement d'état ou d'énergie interne des espèces (ionisation, excitation et désexcitation, recombinaison...). Il faut aussi tenir compte les processus radiatifs, et de lémission spontanée, des collisions entre espèces lourdes qui sont essentiellement des collisions à deux corps et trois corps, qui sont importantes en raison la pression qui était élevée. Les principaux états effectifs dont nous tenons compte pour les équations cinétiques sont les suivants : les électrons, l’état excité Xe*res, Xe*met, qui contient deux niveaux correspond à 8.31eV et 8.41eV, Xe** correspond aux 4 niveaux énergétiques 9.95ev, 10ev, 1 11ev, 11.70ev,Cl*, le Cl, les ions , Xe+, Xe2+, Cl-, Cl2+,et les molécules , Xe2 *( u ), Xe2*( 3 u ), Xe2*( O ), Cl2*, XeCl*(B), XeCl*(C), Xe2Cl*, (147, 153, 172, 256, 308, 330, 490 nm).(Tableau.5). 53 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Species types Espéces neutres Cl2, Xe, Cl Les états excités Xe*, Xe**, Cl* Ions négatifs, e-, ClIons positifs Xe+, Xe2+, Cl+, Cl2+ Les molecules exciméres and exciplexes Xe2*, Cl2*, XeCl(X), XeCl*(C), Xe2Cl* XeCl*(B), Photons hv (172nm), hv (256nm), hv (308nm), hv (330nm), hv (490nm) Tableau. 5 les espèces considérées dans le modèle. Le modèle cinétique a été développée dans lobjectif de mieux comprendre la cinétique de mélange Xe/Cl2 mélanges pour lampes à exciméres afin de déterminer les mécanismes responsables de l'émission UV. L'avantage du modèle temporel est sa simplicité et sa rapidité de fonctionnement. Donc pour comparer les réactions entre eux pour comprend l'influence de chacun de la décharge. Les densités des espèces excitées et ionisées sont régies par un système d'équations d'équilibre cinétique qui tiennent compte de tous les processus qui sont impliqués dans ces espèces. Ces processus doivent évidemment inclure toutes les collisions électroniques et produire un changement d'état ou d’énergie interne des espèces (ionisation , d'excitation, désexcitation , la recombinaison ... ) . Nous devons aussi considérer les collisions entre les 54 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène espèces lourdes essentiellement comme deux corps et les collisions de trois corps, et le processus d'émission spontanée. L'ensemble des réactions et leurs taux utilisés dans le présent ouvrage sont présentés sur le Tableau 3. Dans une décharge dans un mélange gazeux Xe/Cl2, on peut écrire l'évolution temporelle de n'importe quelle concentration de l'espèce chimiques a partir de l'équation de continuité décrite par l'équation algébrique suivante : dN dt Tel que le terme chaque réaction: = k i C i - k jC j i (II.26) j Ci représente la multiplication de la concentration des espèces étudiées pour Ci =k Nk k=1,2,3.. , N k c'est la concentration des espèces réactives k (II.27) , i désigne la réaction conduisant à la création des espèces étudiées et j représente la réaction conduisant à la disparition de ces espèces. Chaque processus inélastique est associé à une section efficace. Cette grandeur est définie comme étant le rapport du nombre de particules incidentes pouvant subir la réaction, sur le produit du nombre de particules cibles par l’épaisseur de la tranche de plasma traversée. Les sections efficaces dépendent de l’énergie de particules chargées ainsi que de la nature des particules, il est possible d’obtenir expérimentalement ces grandeurs. La gamme d’erreur reste tout de même élevée et il est souvent préférable de chercher à obtenir une grandeur qui nous permet d’avoir une description de la réaction au niveau macroscopique. Ces grandeurs sont les taux de réaction. Ils sont liés aux sections efficaces par la formule suivante : (II.28) Où f0 est la partie isotrope de la fonction de distribution de l’énergie électronique et σ est la section efficace totale caractérisant le processus inélastique. 55 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Figure 13: Sections efficaces des collisions (1) élastique, (2) résonant, (3) métastable, et (4) ionisation du xénon. Figure14 : Sections efficaces des collisions (1) élastique, (2) excitation, (3) attachement, et (4) ionisation du Chlore. 56 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Les taux des réactions électronique dépend du champ électrique réduit E / N Il sont obtenus à partir de la résolution de l'équation de Boltzmann électronique du mélange gazeux xénon chlore à l'aide du solveur Bolsig [20]. Les taux des réactions R4, R5 dépendent de la température électronique [21]. La variation temporelle de la concentration des espèces chargées, donnée par les équations cinétiques suivantes: d ne i 1, 2,3, 4,5,15,16,17,18,19, 20, 21, 22,30 = k i C i - k j C j , dt i j j 6, 7 d Xe + dt i d Xe + 2 dt i d Cl+ 2 dt i 15, 21 j 27, 28 = k i C i - k jC j , j j j i 3,12,13 j 7,24 (II.33) i 5, 6 j 22, 23, 24, 25, 26, 29,30 = k i C i - k jC j , i j (II.31) (II.32) = k i C i - k jC j , i (II.30) i 3,12,13 j 7, = k i C i - k jC j , dt d Cl - j i d Cl + dt i 15, 21 j = k i C i - k jC j (II..29) (II.34) 2. Formation des photons et de la molécule XeCl* Les mécanismes réactionnels conduisant à la production de XeCl* sont définis par deux chemins ; la réaction de harpon (R44) dans lequel les espèces métastables de xénon transfèrent leurs électrons faiblement liés à la molécule de chlore pour former un état excité de XeCl * et par la recombinaison des trois corps de Xe + et Cl-(R25, R27) (tableau 3). Où l'ion Xe+ créés par ionisation dans la décharge et le Cl- l’ion par attachement dissociatif d'électrons libres de la décharge qui peut être analysé par l'équation des continuités et les taux des réactions. 57 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Les atomes métastables de xénon Xe* participant à la réaction de harpon sont produites par excitation électronique des atomes de xénon, où la variation temporelle de la concentration est décrit par l'équation suivante: d Xe * dt = k i C i - k jC j , i (II.35) j i 1, 2,3, 4,5,15,16,17,18,19, 20, 21, 22,30 Où j 6, 7 L'équation cinétique décrivant l'évolution temporelle de la concentration XeCl * (B) peut être écrite comme suit: d XeCl*(B) dt i 25, 27, 41, 44, 45, 48 = k i Ci - k jC j , i j j 35, 36, 49,51,52,53,54,55, 63 (II.36) Et pour une évolution temporelle des photons UV correspondent à la longueur d'onde de 308nm, l'équation cinétique correspondant s’écrit sous la formet: d hv(308nm) k63Ci dt i (II.37) 58 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène 59 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Figure15 : Fréquences de collisions le xénon résonant et métastable et les processus d’ionisations du Xe et Cl. Sur la figure (II.7) nous avons tracé les différents taux de réactions pour un mélange de 1% de chlore où les taux des réactions électronique dépend du champ électrique réduit E / N est compilé a partir de la résolution de l'équation de Boltzmann électronique du mélange gazeux xénon chlore à l'aide logiciel Bolsig [20]. 60 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Il figure, les ionisations directes du xénon et du chlore, les excitations du xénon et du chlorure vers les états métastable et résonnant, et l’ionisation du xénon et du chlore à partir de leurs états excités. En ce qui concerne l’énergie moyenne et la vitesse de dérive des électrons, sont calculées dans les mêmes conditions que le calcul des fréquences de réactions. 61 CHAPITRE II II. Modélisation d’une excilampe crée par une décharge à barrières diélectrique homogène Conclusion Dans ce chapitre, nous avons présenté le modèle développé pour la à exciméres dans le mélange gazeux Xe/Cl2 dans le cadre d’une description homogènes de la décharge à barrières diélectrique. Ce modèle numérique global de la lampe est basé sur la description du modèle cinétique d’un décharge à barrières diélectriques homogéne et au circuit extérieur. Nous avons développé une cinétique chimique pour un ensemble de 86 réactions imùpliquant 22 espèces chimiques différentes : les électrons, l’état excité Xe*res, Xe*met, qui contient deux niveaux correspond à 8.31eV et 8.41eV, Xe** correspond aux 4 niveaux énergétiques 9.95ev, 10ev, 11ev, 11.70ev,Cl*, le Cl, 1 3 les ions , Xe+, Xe2+, Cl-, Cl2+,et les molécules , Xe2*( u ), Xe2*( u ), Xe2*( O ), Cl2 *, XeCl*(B), XeCl*(C), Xe2Cl*, (147, 153, 172, 256, 308, 330, 490 nm). Les coefficients de transport ont été calculés à l’aide d’un logiciel de résolution de l’équation de Boltzmann. Ce modèle nous permet de décrire l’évolution temporelle des espèces considérées et la molécule exciplexe XeCl* responsable de l’émission durant une courte impulsion de la décharge. 62 Chapitre III Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 créée par une décharge à barrières diélectriques CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 créée par une décharge à barrières diélectriques Introduction L es lampes à éxciméres pouvant être pompés par différents et plusieurs modes d’excitation de décharge, telles que les décharge micro-ondes, les décharges à barrières diélectrique, les décharges axial pulsionnelle contenue, les décharge impulsionnelle transversales et les décharges longitudinales photo-déclenchées. Dans les lampes à éxcimere, le rôle de la décharge électrique est de généré des plasmas horse équilibre permet de produit des espèces actives, capables a initier des chaines réactionnelles susceptibles de conduire à la production d’espèces actives, responsables de la production des rayonnements ultraviolets. Ces plasmas hors équilibre ont été initialement développés et étudiés par de physiciens compétents en physique atomique, électromagnétisme et génie électrique. La recherche sure les plasmas est étudies sur une large gamme de pression alant de quelque dizaine de torr à quelque centaine de torr, et de fréquence d’excitation (impulsionnelle, radiofréquence, et micro-ondes). Les différents moyens de diagnostic existants, couplés au développement de modèles auto cohérents, permettent de caractériser ces milieux en vue d’une optimisation de leur utilisation. A. Oda, l’un des physiciens compétents dans ce domaine, en effet son équipe a modélisé une décharge à barrières diélectriques pour lampes à excimères d’une géométrie cylindrique utilisant plusieurs modes des fréquences. Le gaz utilisé est le xénon pur à des pressions variables de 100-400torr. Le modèle utilisé se base sur la résolution des équations de continuité des électrons et des ions, l’équation de conservation de l’énergie et l’équation de Poisson. Ces équations sont résolues successivement et explicitement dans le temps, jusqu’à ce que les propriétés des états stables soient obtenues. M V Erofeev, par la publication de plusieurs articles sur les lampes à excimère est supposée être permis les pionner dans ce domaine, en effet sont équipe à réalisé des décharges à barrières diélectrique pour les lampes à excimères pour différente géométrie et différente 68 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques mélanges de gaz, y compris le mélange Xe-Cl2 qui nous intéresse. M V Erofeev et al [1] réalisé des lampes à barrières diélectrique pour le mélange 99%Xe + 1% Cl2 à des pressions variable de 15 à 195 torr, et gap de décharge d=8mm, avec la surface des électrodes, S=1-5 cm², la tension appliqué varies entre 3-9KV, et la fréquence variable entre 100 et 300 KHz.La puissance de la radiation maximale obtenue est de l’ordre ~30mW cm-² à efficacité de 2.5%. Le travail de M V Erofeev et al [4], reposé sur une manipulation expérimentale conduit a obtenu des exilampes à des puissances de radiation atteint 350 W cm-² pour XeCl lampe à mélange 98% Xe + 2% Cl2 à des pressions 400- 500 torr. A N Tkachev ont simulé la formation du plasma dans la région cathodique par une simple expression analytique, ils ont simulé la multiplication des électrons au voisinage de la cathode. On se basant sure les résultats de la simulation et des données expérimentales, ils ont obtiennent les coefficients Townsend, la vitesse dérive, l’énergie moyenne de l’électron en fonction du champ électrique. Ils emploient ces paramètres pour résoudre le système d’équations décrivant la formation du courant dans la région proche de la cathode. Afin de décrire qualitativement les principes de fonctionnement électrique des décharges à barrières diélectriques. Liu Shuhai et N Manfred ont développé un modèle électrique dynamique. Un modèle auto cohérent valide pour une tension d’excitation arbitraire. Ce modèle révèle des relations instantanées des paramètres électrique internes dans le gap de décharge. Toutes les interprétations physiques proviennent des mesures externes du courant multiples dans une demi-période. Dans ce modèle plusieurs termes de courant sont introduits comme le courant de déplacement interne et externe, le courant de décharge interne et externe. R Bussiah et al [16] ont réalisé des décharges à barrières diélectriques de géométrie coaxiale des électrodes pour un mélange de gaz 98%Xe + 2% Cl2 à des pressions varie entre 10 et 750mbar, La décharge est excité par des pulses carré de haute tension d’amplitude de 3 à 7KV et de fréquence de 100Hz. Ils ont montré que l’optimisation des intensités des radiations ne dépend pas seulement de la composition du gaz mais aussi la pression du gaz la tension appliqué et de nombre des pulses. Des travaux expérimentaux, menés par Mildren et al du centre du laser et applications de l’université Macquarie Sidney en Australie, ont mis en évidence l’importance de l’application 69 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques des courtes pulsations pour alimenter une décharge à barriéres diélectriques pour lampes à exciméres. En effet l’intensité du rayonnement se voit multiplier par 3 ainsi que l’efficacité du rayonnement augmente par rapport à une décharge alimentée par un potentiel sinusoïdal conventionnel même à une très haute pression. L’efficacité lumineuse d’une décharge alimentée par une tension sinusoïdale est de 10-20%. Par une tension rectangulaire est de 28% et pour une courte pulsation 150ns est de 60%. La lampe conçue par cette équipe est une lampe de géométrie plane, avec des électrodes rectangulaires couvertes d’une barrière diélectrique. Les conditions expérimentales de la lampe pulsée sont : une pression de 400torr, un taux de répétition de la pulsation de 3,2 KHZ, un potentiel de 8 KV, un gap de décharge de 0,3 cm une largeur du diélectrique de 0,2 cm et d’une permittivité égale à 3,7, la surface active de la décharge est de 4 cm² et le gaz utilisé est le xénon pur. Dans l’article [20] les auteurs ont été publie des photons d’images d’émission dans le visible et dans le vide ultraviolet VUV ont été enregistrées ce qui a permis d’étudier la structure de la décharge dans les deux cas. Dans le cas de décharge alimentée par potentiel d’excitation sinusoïdale ou potentiel pulsé de courte pulsation. Tandis que pour la tension sinusoïdale, la décharge est filamentaire. L’émission des rayonnements VUV générés est due aux taux d’excitation des espèces Xe* par impact électronique. Les travaux de A N Panchenko, sont consacrés sur l’étude des exilampes KrCl et XeCl à décharge à barrières diélectrique d’énergie de radiation plus de 25mJ, la distance électrode coaxiale est 8-12mm et la pression du gaz est 150-200torr. L’efficacité lumineuse atteindre 10%, et d’intensité ~100 W cm-². Des travaux expérimentaux, menés par A K Shuaibov, ont mis en évidence l’importance des décharges radio fréquence transversales ‘TRFD’ dans le mélange Xe-Cl2 pour des lampes à pulse nanoseconde. Ces travaux permettent d’étudier les caractéristiques d’un plasma généré par une décharge pour une lampe constituée d’un mélange du gaz. La puissance des rayonnements UV vraie entre 30-40 W et l’efficacité lumineuse de 10-15%. Et 21% dans [8] pour une puissance de radiation 1.8-8.2W. Lomaev et al [3] ont réalisé des exilampes KrCl et XeCl d’efficacité lumineuse atteint 10% pour une puissance de radiation 1-10 W. les résultats de l’expérience ont été analysés en termes de tension, courant, puissance et efficacité de la décharge. Ce travail a permis l’analyse 70 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques des propriétés électriques de la décharge en impliquant les propriétés radiatives qui sont également caractérisées. Xudong Xu [69] ont développé un modèle 1D pour simuler la cinétique du plasma pour une lampe à excimères de mélange de xénon et chlorure pour des concentrations varie entre 1% et 5% du Cl2, une pression de 0.6 et 1atm et à une différence de potentiel 10-12KV. Il est basé sur l’analyse du développement spatiotemporelle des densités des espèces. Les résultats concernent les caractéristiques électrique de la lampe (tension-courant) ainsi que les profiles temporelles des concentrations des espèces introduites dans la cinétique utilisée en impliquant les propriétés radiatives qui sont également caractérisées. Beleznai et al [31], ont également étudié une d’une lampe à DBD de Xe théoriquement et expérimentalement. Ce travail repose sur la simulation des propriétés du plasma de décharge avec un modèle 1D fluide. Les résultats de la simulation et de l’expérience sont analysés et comparés en termes de tension, courant. Ce travail a permis l’analyse des propriétés électriques de la décharge en impliquant les propriétés radiatives qui sont également caractérisées. U N Pal et al, Etude d’une lampe à DBD de Xe théoriquement et expérimentalement. Ce travail repose sur la simulation des propriétés du plasma de décharge avec un modèle électrique. Les résultats de la simulation et de l’expérience sont analysés et comparés en termes de tension, courant, puissance et efficacité de la décharge. Ce travail a permis l’analyse des propriétés électriques de la décharge en impliquant les propriétés radiatives qui sont également caractérisées. Dans l’équipe russe Bogdanov, il été utilisé utilise un modèle fluide comme modèle de décharge. Il décrit les ions et les espèces neutres et excités en utilisant l’approximation dérivediffusion pour les flux de particules. Le flux de gaz est considéré pour la résolution de l’équation de Navier Stokes pour la vitesse moyenne. La description des électrons est basée sur l’approche hybride. Dans cette approche, on résolut l’équation de continuité des électrons est résolue en utilisant l’approximation de la diffusion- dérive pour le flux de particules. Les coefficients de transport sont obtenus en résolvant l’équation de Boltzmann utilisant deux 71 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques termes sphérique harmoniques. Cette approche mène au l’auto cohérence, couple l’évolution de la densité électronique aux électrons induit et calculés par la fonction de l’énergie de l’électron (Équation de Boltzmann). Il résolut l’équation de Boltzmann zéro dimensionnelle pour certain intervalle du champ électrique E. il résolut l’équation d’équilibre de l’énergie d’électron <E> ~Te. Le modèle fluide est couplé au circuit extérieur de décharge qui est un circuit RC, talque R=50 ohm et C= 2.5pF résolus par le Code SPICE. Les conditions de décharge sont les même ceux de Carman et Mildren. Les différences dans l’algorithme numérique ont causés les différences dans certains résultats. La dynamique du claquage et l’impulsion de courant dépendent essentiellement de la densité initiale de préconisation des espèces et l’émission secondaire à la surface des diélectriques joue un rôle mineur dans la dynamique de décharge. Dans ce chapitre, nous allons exposer les résultats de la modélisation ainsi que leurs interprétations physique d’une décharge à barrières diélectrique pour lampe à excimére. Nous avons utilisé les paramètres de fonctionnement d’une décharge homogène. 72 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques I. Résulta et discussion Nous discutons dans cette section, less résultats obtenus à partir du modèle d’une décharge homogène dans le cas d’un mélange de gaz Xe/Cl2 pour différents paramètres de la décharge. Les paramètres de la lampe à décharge et les conditions de fonctionnement sont indiqués dans le tableau 2. a. Caractéristiques électrique Afin de montrer le profil de certaines caractéristiques électriques pendant une impulsion de décharge, nous avons représenté la Figure 16, pour le mélange Xe/Cl2 (1%), une densité initiale de préionisation de 109 cm-3, une tension applique de 8 kV et une pression totale de gaz de 200 Torr, les variations temporelles de la tension aux bornes de la capacité Vdie, la tension de décharge VDIS, le courant de décharge I, et la densité de puissance. Il semble que, pendant l'impulsion de décharge, l'égalité de la tension Vapp (t) = VDIS (t) + Vdie (t) est réalisée. Lorsque nous appliquons une tension entre les électrodes pendant un temps, de l'ordre nanoseconde le gaz devient un conducteur. Ce temps est nécessaire pour l'ionisation et l'émission secondaire et pour la création des charges suffisantes pour assurer le claquage. Nous pouvons voir dans la Figure 16 (a) que la densité de courant augmente est atteint une valeur maximale d'environ 1,8 A/cm2. La diminution de la densité de courant est due au chargement de couches diélectriques par des électrons et des ions produits dans la décharge de plasma, ce qui réduit la tension de décharge, La tension diélectrique Vdie augmente jusqu'à ce que valeur maximale est éteint la décharge. La variation temporelle de la densité de puissance est représentée sur la Figure 16 (b). Une fois le claquage est atteint, nous pouvons voir clairement que la densité de puissance augmente rapidement, le pic de puissance atteint la valeur typique de l'ordre 14,8 kW / cm ². 73 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques 8 2,0 Vapp Voltage [KV] 6 1,5 I 4 1,0 2 0,5 Courant density [A/cm²] a Vdie Vdis 0 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 0,0 1,50 1,25 Time [s] 16 b Power density [KW/cm²] 14 12 10 8 6 4 2 0 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 74 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques Figure16. Évolution temporelle du densité de courant (a), tension appliqué Vapp, la tension dans le gap Vdis, la tension du diélectrique Vdie, et (b) la densité de puissance disposé. Le champ électrique E dans le plasma dépend du temps. Il est calculé à l'aide solveur Bolsig [20]. Le champ électrique est la grandeur qui est une des principales causes de la création des charges électriques dans les décharges. Pour analyser les phénomènes électriques se produisant dans la décharge, Le courant de conduction ainsi généré amène les charges sur les surfaces de diélectrique. Celles-ci s’opposent donc au champ électrique au milieu du dispositif en contribuant à la diminution du champ électrique dans le gaz. II.2.2. Chimie du plasma dans le mélange gazeux Xénon chlore Dans notre schéma cinétique, quatorze réactions plasma chimiques décrivent la production et la perte de l'état moléculaire XeCl * (B); six réactions pour la création et huit réactions de perte, y compris la recombinaison ion-ion, les réactions de harpon, électronsXeCl * (B) collisions, la recombinaison, l’attachement et l'émission spontanée (voir le 75 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques Tableau 3). En général, deux types de chemins de réaction sont considérés pour la formation XeCl * [19, 38, 47]. Il est connu que, à basse pression, qui est utilisé pour la lampe XeCl *, le mécanisme de harpon est prédominante [48-49]. À haute pression, cas des lasers XeCl, la recombinaison d'ions est beaucoup plus importante [50, 51]. Pour la gamme de pression de fonctionnement intermédiaire, de nombreux auteurs ont aimé l'hypothèse de la réaction de harpon [2, 38, 52]. La densité XeCl * (B) de l'état moléculaire est décrite par l'équation suivante: d XeCl* t St , S(t ) S (t ) S t dt (39) Où S(t) c’est le terme source d’équation de continuité. S+(t) et S-(t) est le terme source de perte et de création du XeCl*(B). 1E21 Creation source termes cm s -3 -1 1E20 R1: Cl2* +Xe -->XeCl*(B)+ Cl R2: Xe* +Cl2 -->XeCl*(B)+ Cl R3: Xe** +Cl2 -->XeCl*(B)+ Cl R4: Xe+ +Cl- -->XeCl*(B) R5: Xe2* +Cl2 -->XeCl*(B)+ Xe+ Cl R6: Xe2+ +Cl- -->XeCl*(B)+ Xe R2 R3 R5 1E19 1E18 R4 1E17 1E16 R1 1E15 1E14 R6 1E13 1E12 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 1,25 1,50 Time (ns) Figure.17. Évolution temporelle des termes source de création. 76 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques R2 1E21 R1 R4 R3 1E20 -3 -1 Lost source termes (cm s ) R7 1E19 * R5 R1: XeCl (B) -->XeCl(X)+hv(308) R2: XeCl(B)+Xe -->Xe +Xe +Cl R3: XeCl(B)+Cl2 -->Cl2 +Xe +Cl * * R4: XeCl (B)+Xe +Xe -->Xe2Cl +Xe * R5: XeCl (B)+Cl -->Xe +Cl +Cl * * R6: XeCl (B)+e -->XeCl (C) +e * R7: XeCl (B)+e -->Xe +Cl +e * * + R8: XeCl (B)+XeCl (B) -->Xe +Cl +Xe +Cl 1E18 R6 1E17 1E16 R8 1E15 1E14 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time (s) Figure.18 Évolution temporelle des termes source de perte. Afin de déterminer le chemin principal de la formation XeCl *, nous avons tracé sur les Figures 17 et 18, l'évolution dans le temps de la création XeCl * (B) et les termes sources de perte, le terme source de harpon, le terme de recombinaison ion-ion, le terme d'émission spontanée, et les termes de recombinaison XeCl *. D'après la figure 3, il apparaît clairement que les réactions de harpons sont le chemin de réaction dominant conduisant à la formation de l'exciplexe XeCl * (B). Après le temps 0.54 s, quand les espèces chargées suffisamment créées, la recombinaison des Xe + avec Cl- devenu plus important. Nous pouvons voir que le terme source de création augmente rapidement et évidemment la création totale. Cette augmentation des termes de source de production est accompagnée par l'augmentation de la densité de l'état moléculaire de la XeCl * (B) dans la décharge. La Figure 18 montre que la collision de XeCl * (B) avec les états fondamentaux xénon et chlore, et l’émission radiative à 308 nm sont les mécanismes de perte principaux de l'état moléculaire de XeCl * (B). 77 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques Figure 19 illustre l'évolution temporelle de certaines espèces chargées et excités responsables de la production XeCl * ( B ) . La Figures 19 ( a) montre que les densités des espèces dominantes sont le xénon métastable Xe*met , et le xénon résonance Xe * res . Ces espèces atteignent une valeur maximale de 5.631013 cm-3 et 1.321013 cm-3 respectivement. La création d'ions Xe + est essentiellement due à l'ionisation directe de l'état du sol xénon. La source d'ions négatifs de chlore Cl - sont les deux chemins de réaction dissociation du moléculaire chlore e Cl + Cl- et Cl2 + e Cl+ + Cl- + e (Tableau 1). Les variations temporelles de molécules excimères et exciplexe sont présentés dans la Figure 19 ( b) . Il semble que les états excités dominantes formées dans la décharge sont Les états moléculaires XeCl * et Xe2Cl *. Les espèces excitées atteignent une valeur maximale de 1,30 × 1013 , 6,67 × 1012 , et 3,56 × 1012 cm - 3 respectivement pour XeCl * (B ) , XeCl * (C ) , et Xe2Cl . Cette figure montre également que, la densité électronique atteint une valeur maximale d'environ 1,5 x 1012 cm-3 et diminue à l’attachement dissociative e + Cl2 Cl + Cl-. Les espèces de 1 3 décharge Xe2 *( u ), Xe2*( u ), Xe2*( O ), et Cl2 * atteignent une valeur maximale de 3.01×1011, 5.19 ×1010, 8.58× 1010, et 7.81 ×108 cm-3 et diminuent rapidement. 1E13 a Xe*met Cl- e -3 Density (cm ) 1E12 Xe+ Xe*res 1E11 1E10 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time (s) 78 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques 1E13 b XeCl(B) 1E12 XeCl(C) Density [cm-3] 1E11 Xe2Cl* 1E10 1E9 + Xe*2(O ) + Xe*2(1u ) 1E8 + Xe*2(3u ) Cl2* 0 200 400 600 800 1000 Time (s) Figure.19 Evolution temporelle (a) des densités des espèces chargées (b) et les espèces excitées. L’énergie électrique totale déposée dans le plasma est répartie sur les espèces de particules chargées (électrons et ions). Celles-ci entrent dans différents processus de réactions avec les neutres où elles cèdent leurs énergies gagnées au profit des neutres. Le dépôt de l’énergie déposée dans le plasma est représenté schématiquement sur la figure 20. Le calcul des différentes énergies dissipées dans le plasma nous permettra de connaître l’efficacité de la décharge dans l’excitation du xénon. Dans ce qui suit nous allons définir ces différentes énergies. La puissance gagnée par les électrons est redéposée, par la suite, dans le gaz sous forme d’ionisation et d’excitation. L’énergie dissipée dans l’excitation du xénon est définie par : 79 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques (III.1) t0 étant l’instant du début de l’impulsion. Sε, Xe * est la puissance déposée par les électrons dans l’excitation du xénon, elle est donnée par la relation : (III.2) avec ne la densité des électrons à un instant et une position donnés, εk et νk le seuil d’énergie et la fréquence d’excitation du kème processus respectivement. Le produit neνk peut s’écrire également sous la forme : ne ke =ke ve vk/ve, où ve est la vitesse moyenne des électrons. On appelle vk/vele coefficient de perte d’excitation correspondant au kème processus. Il dépend du champ électrique réduit E/p, où E est le champ électrique et p la pression du gaz. On peut alors écrire la puissance sous la forme : (III.3) Le coefficient d’excitation du xénon,Xe* , est pré-calculé en fonction de E/p pour chaque mélange du gaz. L’énergie déposée par les électrons dans l’excitation du xénon est ainsi donnée par : (III.4) L’énergie dissipée dans l’ionisation du xénon s’écrit de la même forme : (III.5) 80 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques Le coefficient d’ionisation est donnée par : (III.6) où εXe, i est le seuil d’énergie d’ionisation du xénon et est l’énergie moyenne des électrons. νXe, i est les fréquences d’ionisation du xénon. Xe** excitation, 50.5% 50 Power diposation [%] 45 40 35 + 30 Xe*met 25 excitation 19.4% 20 15 10 5 Xe ionisation 23,9% Xe*res excitation 5% Cl* excitation Cl+ 0.9% ionisation 0.3% 0 Figure.20 Energie électrique déposée pour pression de gaz 200 Torr et tension appliqué de 8kV. La Figure 20 présente la fraction d'énergie déposé calculée pour les différents processus de décharge tels que l'excitation, ionisation. Il apparaît que la plupart de l'énergie est utilisée pour l'excitation. L'énergie utilisée pour la production des états excités, xénon Xe * res et Xe * est d'environ ( 24,4% ) . Ces etats sont responsables de la création de Xe2 *. Une partie importante du processus d'excitation est utilisé pour la génération des niveaux excités des atomes xénon Xe ** (50,5 % ) . La perte d'énergie, à cause de l'ionisation du xénon, atteint 81 CHAPITRE III III. Résultats du modèle de la lampe à exciméres Xe/Cl2 crée par une décharge à barrières diélectriques une valeur de (23,9 %). La perte d’énergie, à cause de l'ionisation et l'excitation des atomes de Cl, est petite par rapport à l’excitation et l'ionisation du xénon 0,3 % et 0,9%, respectivement, en raison de la faible fraction molaire de chlore. Conclusion Dans ce chapitre, nous avons modélisé une lampe à excimer crée par une décharge à barrières diélectriques. Les résultats ont mis en évidence l’évolution des caractéristiques électriques et cinétique de la décharge. Nous avons calculé la variation temporelle de la densité de courant le voltage du plasma et du diélectrique la puissance et le champ électrique et de la densité électronique, les densités des différentes espèces excitées et ionisées, l’énergie dissipée dans chaque espaces et processus d’excitation et ionisation du xénon et de chlore. Nous avons également tracé la variation temporelle des termes sources pour chaque processus collisionner. Les résultats obtenus dans ce chapitre montrent clairement les points suivants : Une fois le claquage est atteint, nous pouvons voir clairement que la densité de puissance augmente rapidement, pour atteint une valeur typique de l'ordre 14,8 kW / cm 3. Il apparaît clairement que les réactions de harponnage sont le chemin de réaction dominant conduisant à la formation de l'exciplexe XeCl * (B). Les densités des espèces dominants sont le xénon métastable Xe*met , et le xénon résonance Xe*res . La fraction d'énergie déposée calculée pour les différents processus de décharge montre apparaît que la plupart de l'énergie est utilisée pour l'excitation. 82 Chapitre IV Optimisation et amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 Introduction A fin de décrire quantitativement les principes conditions de fonctionnement de la décharge à barrières diélectrique pour lampes à excimères, nous avons développé un modèle homogène couplé au circuit extérieur de la décharge. Ce modèle révèle des relations instantanées des quantités électriques et cinétiques internes dans le gap de décharge (les différentes tensions et les différents courants, les densités électroniques et ioniques, les densités des différentes espèces dans la décharge. Ces paramètres nous permettent d’expliquer le phénomène de développement de la décharge et d’expliquer physiquement le mécanisme de l’allumage de la lampe à exciméres. Dans ce chapitre, nous allons étudier l’effet de différentes conditions de calcul qui peuvent être considérées lors d’une étude d’une décharge à barrières diélectriques homogène dans une lampe à exciméres XeCl(308nm). Cela nous permettra de voir les différentes voies d’amélioration des performances de la lampe. Et de discuter l’influence du mélange gazeux, l’énergie déposée dans la décharge, de la pression du gaz, et la capacitance du diélectrique sur l’efficacité de la décharge. Nous essayerons alors de déterminer les meilleures conditions de fonctionnement d’une lampe à eximéres créée par une décharge à barrières diélectriques. 80 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 IV. Étude paramétrique Plusieurs travaux expérimentaux et théoriques ont porté sur l'efficacité de la lampe [25, -28, 40-41, 53-55]. Ils ont montré que l'émission de rayonnements UV de lampes à excimèrs dépend des paramètres de la décharge externes tels que la tension appliquée et la pression du gaz. Dans ce paragraphe, nous discutons la dépendance de la production de photons UV, avec l'amplitude de la tension appliquée, la concentration de Cl2 et la pression totale du mélange gazeux, de la concentration du Cl2 et de capacité du diélectrique. 4.1. Effet de l’énergie déposé Nous avons effectué des calculs pour le mélange Xe/Cl2 (1 %) avec une pression totale de gaz de 200 Torr. Afin de voir comment les caractéristiques électriques et chimiques de la décharge de plasma peuvent être affectées par l’amplitude de la tension appliquée Vapp, nous avons présenté les variations temporelles de la densité de courant de décharge, les densités d'électrons et de photons, et la densité de puissance déposée. Les tensions appliquées utilisées sont de 7.5, 8 et 9 kV. La Figure 21 (a) illustre la dépendance du densité de courant à l'amplitude de la tension appliquée. Le fort effet de la tension appliquée sur le temps de rupture et le pic de courant apparaît clairement sur cette figure. Pour les trois valeurs de tension appliquée de 7.5 , 8 et 9 kV , le pic de la densité de courant atteint , respectivement , les valeurs suivantes 0,84 , 1,83 , 7,34 A / cm ² . Le pic de courant augmente quand il n'y a plus de puissance déposée dans la décharge et donc le claquage se produit sure des durées trés courts. La dépendance temporelle de la densité d'électrons est rapporté sur la Figure 21 ( b ) dans les mêmes conditions que la Figure 21 (a ) et pour les trois valeurs de la tension appliquée. Cette figure montre que la densité d'électrons augmente avec l’augmentation de l’amplitude de la tension est atteint une valeur maximale de 1,8 x 1012 cm - 3, pour une tension appliquée de 9 kV. La dépendance de l’émission des photons à 308 nm à la valeur de la tension appliquée est également représentée sur la Figure 21 (c). On voit que l'augmentation de la tension appliquée augmente l'émission de rayonnements UV. Ceci est principalement dû à la puissance déposée dans la décharge, et la majeure partie de l'énergie dissipée dans l’excitation et l'ionisation du xénon est utilisée pour la formation de XeCl * et par conséquent pour la production de rayonnements UV. La variation temporelle de la puissance de rayonnement de 308 nm correspondant à la transition XeCl * (B - X) est représenté sur la Figure 21 (d). La puissance de rayonnement augmentée de avec l'augmentation de la tension 81 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 appliquée, est atteint une valeur maximale d'environ 2,48 KW / cm 3 pour une tension appliquée de 9 kV. 8 7 9KV Courant desity [A/cm²] 6 5 4 3 2 8KV 1 7,5KV 0 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 82 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 8,00E+012 b 7,00E+012 Electron density [cm-3] Vapp=9KV 6,00E+012 5,00E+012 4,00E+012 3,00E+012 2,00E+012 Vapp=8KV 1,00E+012 Vapp=7,5KV 0,00E+000 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 308nm photons density [cm-3] 2,00E+014 c Vapp=9KV Vapp=8KV 1,50E+014 1,00E+014 Vapp=7,5KV 5,00E+013 0,00E+000 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 83 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 2,5 d Power radiation [KW/cm²] Vapp=9KV 2,0 1,5 1,0 Vapp=8KV 0,5 0,0 0,00 Vapp=7.5KV 0,25 0,50 0,75 1,00 Time (s) Figure.21 évolution temporelle pour les différent tensions (a) densité de courent, (b)densité des électrons, (c) concentration des photons 308 nm, et (d) la puissance de rayonnement 308 nm. 4.2. Rôle de la concentration du Cl2 Afin de voir l'effet de la concentration du chlore dans le mélange gazeux Xe/Cl2 sur l'émission des photons 308 nm, nous avons tracé sur la Figure 22 (a) le pic des densités des photons 308 nm, pour les trois concentrations du chlore: 1%, 2%, 3%, en fonction de la tension appliquée et à pression fixée de 200 Torr. On peut voir clairement que le pic de la densité de photons diminue avec l'augmentation de la concentration en chlore dans le mélange gazeux. Figure 22 (b) montre le pic des densités de photons 308 nm pour les trois concentrations de chlore, avec une pression totale de gaz du 160, 180, 200, et 220 Torr et pour une tension appliquée de 8 kV. D'après cette figure, on voit clairement que l'émission de photons est fortement influencée par la concentration de Cl2. 84 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 2,00E+014 308nm photon density peak [cm-3] 9KV a 1,80E+014 8KV 1,60E+014 1,40E+014 7,5KV 1,20E+014 1,00E+014 7,5KV 8,00E+013 8KV 9KV 9KV 8KV 7,5KV 6,00E+013 4,00E+013 2,00E+013 0,00E+000 1% 3% 2% Cl % 2 2 1:160 Torr 2:180 Torr 3:200 Torr 4:220 Torr 3 4 -3 308nm photon density peak [cm ] 1,60E+014 1 1,40E+014 b 1,20E+014 1,00E+014 1 8,00E+013 2 3 4 1 2 3 6,00E+013 4 4,00E+013 2,00E+013 0,00E+000 1 2 3 Cl2%\ 85 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 Figure.22 Pic des densités des photons 308nm pour différentes tension appliquées et concentrations de Cl2. 4.3. Effet de la pression totale du gaz Dans cette partie du document, l'ordre de la pression du gaz est choisi dans la gamme utilisée dans certains travaux expérimentaux et théoriques pour les lampes à excimères [ 4041 , 56-59 ] . Figures 23 représente l'effet de la pression totale du gaz sur la densité d’électrons, la densité de XeCl * (B), et le pic de densité de puissance de rayonnement à 308 nm, respectivement. On peut voir que la pression totale du gaz affecte fortement la durée d'impulsion de décharge et la densité d'électrons. La figure 23 (a ) montre que la densité électronique décroît avec l' augmentation de la pression du gaz due à l'augmentation de l’attachement dissociative e + Cl2 Cl + Cl-. Il atteint une valeur maximale de 1,76 × 1013 cm - 3 pour une pression de 160 Torr. On voit également sur la Figure 23 ( b) que la densité de l'état moléculaire XeCl * (B) diminue avec l'augmentation de la pression du gaz. Cette diminution de la densité est due en partie à sa conversion à l’exciplexe Xe2Cl * par collision du XeCl avec l'état fondamental du xénon XeCl*(B) + Xe Xe2Cl + Cl. La Figure 23 (c) montre la puissance de rayonnement de XeCl * (B) à 308 nm en fonction de la pression du gaz. la puissance d’émission de la moléculaire XeCl * ( B ) à 308 nm a été acquise à 160 Torr . Pour cette pression, la puissance de rayonnement atteint une valeur maximale d'environ 2,76 kW / cm 3. 86 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 2,00E+013 a 1,80E+013 -3 Electron density [cm ] 1,60E+013 P=160 torr 1,40E+013 1,20E+013 1,00E+013 8,00E+012 P=180 torr 6,00E+012 4,00E+012 P=200torr 2,00E+012 P=220torr 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 5,00E+013 b P=160torr -3 XeCl*(B) density [cm ] 4,00E+013 3,00E+013 P=180torr 2,00E+013 P=200torr 1,00E+013 P=220torr 0,00E+000 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time [s] 87 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 Power radiation peak[KW/cm²] 3,0 c 2,5 2,0 1,5 1,0 0,5 0,0 120 140 160 180 200 220 Pressure [Torr] Figure.23 Evolution temporelle pour les différente valeur de pression du gaz (a) densité des électron (b) densité des molécule XeCl*(B), (c) les pic des puissance des rayonnement 308 nm en fonction de pression du gaz. 4.4. Effet de la capacité diélectrique La densité des électrons et des photons 308 nm en fonction de la capacité du diélectrique sont étudiés dans les mêmes conditions que dans le paragraphe précédent, et pour trois valeurs de Cdiel = 100, 230, 400 cm-2 pF. La Figure 24 montre que les densités électroniques et photoniques à 308 nm sont affectées de manière significative par la capacité diélectrique. L'augmentation de la capacité du diélectrique augmente le courant nécessaire à la charge du diélectrique, et par conséquent, l'émission de photons devient plus grande. 88 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 2,50E+013 a 2,00E+013 -3 Electron density [cm ] Cdie=400pf 1,50E+013 Cdie=230pf 1,00E+013 Cdie=100pf 5,00E+012 0,00E+000 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 1,25 1,50 Time [s] Cdie=400pf -3 308nm photons density [cm ] 1,00E+015 b 8,00E+014 Cdie=230pf 6,00E+014 4,00E+014 Cdie=100pf 2,00E+014 0,00E+000 0,00 0,25 0,50 0,75 1,00 Time s Figure.24 Evolution temporelle des différentes valeurs de capacité diélectrique du (a) densité des électrons, (b) densité des photons 308nm. 89 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 V.3. Amélioration de l'efficacité : L’efficacité lumineuse de la décharge est définie comme le rapport de puissance des photons UV par la puissance électrique dissipée dans la décharge dépend de tension appliquée, Peut être estimée à partir de l'équation ci-dessous : P P rad dt ele dt (IV.1) La puissance dissipée par le chauffage des électron et des électron et des ions durant la décharge Pele , et la puissance des photons UV produite par la décharge Prad est en fonction des densité de molécule exciméres responsable de l’émission Xe*, Cl*, Xe*2, XeCl*, Xe2Cl*, respectivement sous les formes suivantes : (IV.2) Où le flux total de photon Φ émis dans toutes les directions par les excimères et les exciplexes sont les suivants : (IV.3) Où : Ki : Taux d’émission nette défini sur le Tableau.1 ni: Densité d’un excimère ou d’une exciplexe. Cette expression montre que le rayonnement est gouverné par l’évolution spatiale et temporelle d’une molécule ou plusieurs molécules. Leurs densités sont liées aux échanges complexes qui se produisent au cours des collisions entre les diverses espèces du plasma au cours de la décharge. L’énergie fournie par le générateur électrique alimentant la décharge est véhiculée essentiellement par les électrons qui sont accélérés dans le champ électrique et qui 90 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 la transmettent aux autres espèces par collisions élastiques et inélastiques. Le mode d’alimentation joue donc un rôle essentiel dans la distribution de l’énergie entre l’ensemble des particules et il conditionne par conséquent les canaux de transfert d’énergie dont certains sont plus favorables à la production d’excimères ou d’exciplexes que d’autres. L’amélioration de l’efficacité lumineuse est un facteur important pour les lampes à décharge, en effet cela permet d’une part de réduire la consommation électrique, mais aussi d’améliorer la durée de vie. Le but est donc de réduire le maximum d’énergie dissipée dans la 20 Cl:1% Cl:2% 18 16 Efficiency, % 14 12 10 8 6 4 7,0 7,5 8,0 8,5 9,0 voltage [KV] décharge, et améliorer le maximum d’énergie dissipé dans la production des photons UV. 91 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 20 18 16 308 330 490 172 Efficiency, % 14 12 10 8 6 4 2 0 7,0 7,5 8,0 8,5 9,0 voltage [KV] Figure 25. efficacité lumineuse pour les longueur d’onde (308,330,490,172nm) en fonction de la tension appliqué pour différents pourcentages du Cl2. Afin d'étudier le rapport entre l'alimentation et l’efficacité, nous étudions sur la Figure 11, le rendement de rayonnement partielle correspond à les longueurs d'onde UV ( 172 , 308 , 330 et 490 nm ) avec une pression totale de 150 Torr . Il semble évident, comme illustré sur ces figures, que l'efficacité total et partielles sont fortement influencés par la concentration de Cl2 dans le mélange de gaz avec une efficacité maximale de l'ordre de 20 %. 92 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 20 1% 2% 3% 18 16 Efficiency, % 14 12 10 8 6 4 2 0 100 150 200 250 300 Total pressure [Torr] 93 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 20 308 330 490 172 18 16 Efficiency, % 14 12 10 8 6 4 2 0 100 150 200 250 300 Total pressure [Torr] Figure 26. Efficacité lumineuse pour les longueur d’onde (308,330,490,172nm) en fonction de la pression totale et pour différentes pourcentages du Cl2. Nous étudions maintenant l’effet de la pression du gaz sur l'efficacité de décharge, pour une tension appliquée de 9 KV, la Figure 26 montre que l'efficacité partielle de rayonnement 380nm est de dominante (Annexe) et baisse après les valeurs de pression totale de 100 Torr. 4.6. Comparaison avec des travaux expérimentaux: A.V. Papa et al [2] réalisé des décharges à barrières diélectrique de géométrie coaxiale des électrodes pour un mélange de gaz 98%Xe + 2% Cl2 à des pressions varie entre 10 et 750mbar, La décharge excité par des pulses carrées de haute tension d’amplitude de 3 à 7KV et de fréquence de 100Hz. Ils ont montré que l’optimisation des intensités des radiations ne dépend pas seulement la composition du gaz mais aussi de la pression du gaz, de la tension appliqué et de nombre de pulses. 94 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 0,8 A.V.Pipa and all[19] Present work 0,7 0,6 rel.intensity [a.u] 2.5mm 0,5 0,4 0,3 0,2 0,1 0,0 0 50 100 150 200 250 300 Pressure [Torr] 0,6 A.V.Pipa and all[19] Present work rel.intensity [a.u] 0,5 0,4 1.3mm 0,3 0,2 0,1 0,0 0 50 100 150 200 250 300 Pressure [Torr] 95 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 2,0 A.V.Pipa and all[19] Present work 1,8 1,6 rel.intensity [a.u] 1,4 1,2 6,5mm 1,0 0,8 0,6 0,4 0,2 0,0 0 50 100 150 200 250 300 Pressure [Torr] Figure 27. Intensité lumineuse en fonction de la pression totale du gaz pour différentes largeurs du gap. Dans notre étude nous avons fait une comparaison avec le travail expérimental de A.V. Pipa et al [2] dont nous avant pris les mêmes paramètres des auteurs, La Figure27 les résultats obtenus nous montre que les intensités des radiations dépend de la pression du gaz la tension appliqué et le nombre des pulses et qu’il ya une tendance avec le travail expérimental fait par A.V.Pipa et all et les résultats obtenue par notre modèle. 96 CHAPITRE IV IV. Optimisation et Amélioration de l’efficacité lumineuse de l’excilampe Xe/Cl2 Conclusion Dans ce chapitre, nous avons étudié l’influence de différents paramètres de fonctionnement d’une lampe à exciméres crée par une décharge à barrières diélectriques. Nous avons montré l’influence de la concentration du mélange et de la pression totale du gaz, de tension appliquée et la capacitance du diélectrique sur les performances d’une décharge homogène appliquée pour lampe à exciméres. On peut voir clairement que l'émission de photons est fortement influencée par la concentration de Cl2. L’augmentation du pourcentage de xénon dans le mélange induit une meilleure efficacité mais à tension élevée. Le pic de courant augmente quand il n'y a plus de puissance déposée dans la décharge et donc le claquage se produit sure des durées trés courts. L’efficacité lumineuse est fortement influencée par la concentration de Cl2 dans le mélange de gaz avec une efficacité de l'ordre de 20 %. Les résultats obtenus nous montrent que intensités des radiations dépend de la pression du gaz de la tension appliqué et qu’il ya une tendance avec les travaux expérimental dans la littérature. 97 Conclusion CONCLUSION Conclusion D ans ce travail, nous avons présenté une approche électrique et chimique pour étudier les propriétés de la lampe à exciméres XeCl * (308 nm ) créée par une décharge à barrières diélectriques , dans le but de contrôler et d’amélioré son efficacité lumineuse. On a présenté dans cette thèse la discussion des résultats obtenu d’une étude de la cinétique réactionnelle du mélange gazeux Xe/Cl2 et les conditions de fonctionnement d’une lampe à exciméres créée par une décharge à barrières diélectriques, et l’optimisation de l’efficacité lumineuse de ces lampes à exciméres. Cette étude sera une base à une étude ultérieure plus complète de formation d’une décharge inhomogène dans le contexte des lampes. L'étude est basée sur un modèle de décharge homogène comprenant un module électrique, le module de particule, et le module cinétique chimique, fournit une analyse quantitative de l’évolution dans le temps de certaines caractéristiques électriques et chimiques. Le modèle numérique décrit dans les conditions de fonctionnement des lampes à excimères , les variations temporelles des caractéristiques électriques et chimique au cours de l' impulsion du courant; tension de décharge , la tension diélectrique , densité de courant , la puissance déposée , la concentration des espèces excitées et chargées , les émission des photons UV , et les termes source de l'état moléculaire XeCl * ( B ) sont étudie. Nous avons pu décrire de façon détaillée la formation des espèces ionique et excitée et l’évolution temporelle des éxciméres responsable de la production des rayonnements ultraviolets. Les résultats obtenus montrent clairement que les densités des espèces dominantes sont le xénon métastable Xe*met , et le xénon résonance Xe*res . Ces espèces atteignent une valeur maximale de 5.631013 cm-3 et 1.321013 cm-3respectivement. Ainsi que les états excités des excimer dominantes formées dans la décharge sont les états moléculaires XeCl * et Xe2Cl *. ces espèces excitées atteignent des valeurs maximale de 1,30 × 1013 , 6,67 × 1012 , et 3,56 × 1012 cm - 3 respectivement pour XeCl * (B ) , XeCl * (C ) , et Xe2Cl . Les résultats obtenus sont analysés et discutés ce qui permet de voir les conditions de fonctionnement de la lampe à exciméres. L'efficacité de la production de photons UV dans DBD dépend de l’énergie déposée, la composition du mélange gazeux, la pression totale du gaz, et la capacité du diélectrique. Les résultats montre que dans des conditions d'exploitation 98 CONCLUSION typiques de la DBD, la décharge à lampe XeCl * ( 308 nm ) est très affecté à la tension appliquée et la concentration de Cl2 . L'augmentation de la tension appliquée, la concentration de Cl2, la pression totale de gaz et la capacité diélectrique induit une augmentation de la génération des photons 308 nm. La puissance de rayonnement augmenté de avec l'augmentation de la tension appliquée, est atteint une valeur maximale d'environ 2,48 KW / cm 3 pour une tension appliquée de 9 kV. La dépendance de l’émission UV de la pression totale du gaz est également significative. la puissance d’émission de la moléculaire XeCl * ( B ) à 308 nm a été acquise à 160 Torr . Pour cette pression, la puissance de rayonnement atteint une valeur maximale d'environ 2,76 kW / cm ². Il semble évident, que l'efficacité total et partielles sont fortement influencés par la concentration de Cl2 dans le mélange de gaz avec une efficacité de l'ordre de 20 %. On à aussi validé les résultats obtenus par une comparaison avec des travaux expérimental de A.V. Pipa et al [19] dont nous avant pris les mêmes paramètres et caractéristique réalisé par les auteurs, les résultats obtenus nous montrent que les intensités des radiations dépend de la pression du gaz la tension appliqué et le nombre des pulses et qu’il ya une tendance avec le travail expérimental fait par A.V.Pipa et all et les résultats obtenue par notre modèle. Enfin, les résultats de ce travail en termes de caractéristiques électriques et génération des photons ultraviolets peuvent être considérés comme base pour la compréhension de la physique de décharge pour lampes à exciméres. 99 LES FIGURES Figure 1: Dispositif expérimental de Townsend Figure 2: Caractéristique tension-courant d’un plasma de décharge. Figure 3: Diagramme schématique pour les principales applications de la décharge à barrières diélectriques Figure 4: Schéma d'une cellule d'écran à plasma Figure 5: Lampes à excimeres de configuration cylindrique Figure 6 : Schéma descriptif de la géométrie coaxial des électrodes. Figure 7 : Schéma descriptif de la géométrie coplanaire des électrodes. Figure 8: Diagramme d’énergie d’exciplex XeCl*. Figure 9: Schéma Simplifie de la cinétique chimique du mélange f Xe/Cl. Figure 10. L’intensité lumineuse pour l’émission du mélange Xe/Cl2. Figure 11. Le circuit équivalent au DBD. Figure 12: Schéma descriptif de la géométrie coaxial des électrodes. Figure 13: Fréquences de collisions pour le xénon à l’état résonant et métastable et les processus d’ionisations du Xe et Cl. Figure 14: Sections efficaces des collisions (1) élastique, (2) résonant, (3) métastable, et (4) ionisation du xénon. Figure 15: Sections efficaces des collisions (1) élastique, (2) excitation, (3) attachement, et (4) ionisation du chlore. Figure 16: Évolution temporelle du densité de courent (a),de tension appliqué Vapp, de tension dans le gap Vdis, de tension du diélectrique Vdie, et (b) de densité de puissance disposée. Figure 17: Évolution temporelle de terme source de création. Figure18: Évolution temporelle de terme source de perte. Figure 19: Evolution temporelle des densités des espèces chargées (a) et les espèces excitées (b). Figure 20: Energie électrique déposée pour une pression de gaz 200 Torr et une tension appliquée de 8 kV. Figure 21: Evolution temporelles pour les différentes tensions de la densité de courent, (a) densité des électrons (b), concentration des photons 308 nm (c), et de la puissance de rayonnement 308 nm (d). Figure 22: Pic des densités des photons 308nm pour différentes tension appliqué en fonction de la concentration de Cl2. Figure 23: Evolutions temporelles pour les différentes valeurs de pression du gaz de la densité des électron (a) densité de la molécule XeCl*(B) (b), Pic des puissance des rayonnement 308 nm en fonction de pression du gaz (c). Figure 24: Evolution temporelles pour différentes valeurs de capacitance diélectrique de la densité des électrons (a), densité des photons 308nm(b). Figure 25: Efficacité lumineuse pour les longueur d’onde (308,330,490,172nm) en fonction de tension appliquée pour différents pourcentages du Cl2. Figure 26: Efficacité lumineuse pour les longueur d’onde (308,330,490,172nm) en fonction du pression totale et pour différents pourcentages du Cl2. Figure 27: Intensité lumineuse en fonction de la pression totale du gaz et pour différente largeur de gap. LES TABLEAUX Tableau 1: Paramètres caractéristiques des décharges dans les gaz Tableau 2: Collisions produites par des électrons, dans une décharge électrique (A et B sont deux atomes du gaz). Tableau 3: Les longueurs d’ondes pour les différentes transitions d’excimer. Tableau 4: Les caractéristiques de la décharge à barrières diélectriques. Tableau5: Niveaux d'énergie des états atomiques et les limites d'ionisation pour le xénon. Tableau 6: Les caractéristiques de la décharge à barrières diélectriques. Tableau 7: La cinétique chimique du mélange Xe/Cl2 pour lampe à excimeres. Tableau 8: Les espèces considérées dans le modèle. REFERENCES Référence (1) Erofeev, M.V.; Tarasenko, V.F. J. Phys. D. Appl. Phys. 2006, 39, 3609. (2) Sosnin, E.A; Erofeev, M.V.; Tarasenko, V.F. J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 3194. (3) Lomaev, M.I.; Skakun, V.S.; Sosnin, E.A.; Tarasenko, V.F.; Shitts, D.V.; Erofeev, M.V. Physics–Uspekhi 2003, 46, 193. (4) Eliasson, B.; Kogelschatz, U. Appl. Phys. B 1988, 46, 299. (5) Erofeev, M.V.; Tarasenko, V.F. J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 3609. (6) Kogelschatz, U. Pure Appl. Chem.1990, 62, 1667. (7) Gellert, B.; Kogelschatz, U. Appl. Phys. B 1991, 52, 14. (8) Kogelschatz, U. Appl. Surf. Sci.1992, 54, 410. (9) Braun, A.M.; Maurette, M.T.; Oliveros, E. Photochemical Technology; Wiley & Sons: New York, 1991. (10) Yokatani, A.; Takezoe, N.; Kurosawa, K.; Igarashi, T.; Matsuno, H. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 1399. (11) Gonzalez, M. C. et. Braun, A. M. Journal of Photochemistry and Photobiology A : Chemistry, vol. 93, no 1, 1996. 7 – 19. (12) Scheir, R.F.; Fencl, B.F. Heat. Pip. Air. Cond. J. 1996, 68, 109. (13) Elliott, D.J. Microlithography: Process Technology for IC Fabrication; McGrawHill: New York, 1986. (14) Collier, D.; Pantley, W. Laser Focus World 1998, 34, 63. (15) Merbahi, N.; Sewraj, N.; Marchal, F.; Salamero, Y.; Millet, P. J. Phys. D. Appl. Phys. 2004, 37, 1664. (16) Kogelschatz, U.; Eliasson, B.; Egli, W. J. Phys. IV France 1997, 7, C447. 112 (17) Scheytt, H.; Esrom, H.; Prager, L.; Mehnert, R.; Von Sonntag, C. Proc. NATO Advanced Research Workshop on Non-Thermal Plasma Techniques for Pollution Control, Part B, Eds. Penetrante, P; Schulthesis, S., Berlin: Springer, 1993. (18) Bussiahn, R.; Pipa, A.V.; Kindel, E. Contrib. Plasma. Phys. 2010, 50, 1822. (19) Pipa, A.V.; Bussiahn, R. Contrib. Plasma Phys. 2011, 51, 850. (20) Mildren, R.P.; Carman, R.J. J. Phys. D. Appl. Phys. 2001, 34, L1 (21) Zhang, J.Y.; Boyd, I.W. App. Surf. Sci. 2000, 168, 296. (22) Carman, R.J.; Mildren, R.P., Ward, B.K., Kane, D.M. J. Phys. D. Appl. Phys. 2004, 37, 2399. (23) Oda, A.; Sugawara, H.; Sakai, Y.; Akashi, K. J. Phys. D. Appl. Phys. 2000, 33, 1507. (24) Beleznai, Sz.; Mihajlik, G.; Agod, A.; Maros. I.; Juhasz, R.; Nemith, Zs.; Jakab, L.; Richter, P. J. Phys. D. Appl. Phys. 2006, 39, 3777. (25) Bogdanov, E.A.; Kudryavtsev, A.A.; Arslanbekov, R.P.; Kolobov, V.I. J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, 2987. (26) Oda, A.; Sakai, Y.; Akashi, H.; Sugawara, H. J. Phys. D: Appl. Phys. 1999, 32, 2726. (27) Liu, S.; Neiger, M. J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 3144. (28) Carman, R.J.; Mildren, R.P. J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 19. (29) Carman, R.J.; Mildren, R.P. IEEE. Trans. Plasma Sci. 2002, 30, 154. (30) Shiga, T.; Pitchford, L.C.; Boeuf, J.P.; Ikoshiba, S. J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 512. (31) Beleznai, Sz.; Mihajlik, G.; Maros, I.; Balazs, L.; Richter, P. J. Phys. D. Appl. Phys. 2010, 43, 015203. (32) Piquet, H.; Bhosle, S.; Diez, R.; Cousineau, M.; Djibrillah, M.; Le Thanh, D.; Dagang, A.N.; Zissis, G. Quantum Electronics 2012, 42, 157. 113 (33) Belasri, A.; Bendella, S.; Baba-Hamed, T. Phys. Plasmas 2008, 15, 053502. (34) Belasri, A.; Khodja, K.; Bendella, S.; Harrache, Z. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 445202. (35) Zvereva, G.N. Optics Spectr. 2003, 94, 191. (36) Belasri, A.; Harrache, Z. Plasma Chem. Plasma Process. 2011, 31, 787. (37) Bollanti, S.; Clementi, G.; Di Lázaro, P.; Flora, F.; Giordano, G.; Letardi, T.; Musi, F.; Shina, G.; Zheng, Z.E. IEEE. Trans. Plasma Sci. 1999, 27, 211. (38) Boichenko, A.M.; Skakun, V.S.; Transenko, V.F.; Yakovlenko, S.I. Laser Physics 2000, 10, 540. (39) Kolts, J.H.; Setser, D.W. J. Chem. Phys. 1978, 68, 4848. (40) Jou, S.-Y.; Hung, C.-T.; Chiu, Y.M.; Wu, J.-S.; Wei, B.Y. Plasma Chem. Plasma Process. 2010, 30, 907. (41) Beleznai, Sz.; Mihajlik, G.; Maros, I.; Balazs, L.; Richter, P. J. Phys. D: Appl. Phys. 2008, 41, 115202. (42) Harrache Z.; Calzada, M.D.; Belasri, A. Plasma Physics Reports 2011, 37, 904. (43) Gear, C.W. Numerical Initial Value Problems in Ordinary Differential Equations; Prentice-Hall, Englewood Cliffs, NJ., 1971. (44) Code Bolsig, the Siglo Series of Discharge Modeling Software, 1996 by Kinema Software: http://www.siglokinema.com. (45) Despiau-Pujo, E.; Chabert, P. Plasma Sources Sci. Technol. 2009, 18, 045028. (46) Thorsteinsson, E.G.; Gudmundsson, J.T. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 115201. (47) Panchenko, A.N.; Polyakevich, A.S.; Sosnin, E.A.; Tarasenko, V.F. Russian Physics Journal 1999, 42, 557. (48) Boichenko, A.M.; Yakovlenko, S.I. Laser Physics 2004, 14, 1. (49) Schwabedissen, A.; Bötticher, W. Contrib. Plasma. Phys. 1995, 35, 517. 114 (50) Schwabedissen, A.; Loffhagen, D.; Harmmer, T.; Bötticher, W. Appl. Phys. B 1995, 61, 175. (51) Kannari, F.; Kimura, D.; Ewing, J.J. J. Appl. Phys. 1990, 68, 2615. (52) Zhang, J.Y.; Boyd, I.W. J. Appl. Phys. 1996, 80, 633. (53) Erofeev, M.V.; Tarasenko, V.F. Quantum Electronics 2008, 38, 401. (54) Meunier J, Belenguer P and Boeuf J P,. J. Appl. Phys. 1995, 78 731 (55) Ouyang J, He F, Miao J, Wang J and Hu W,. J. Appl. Phys. 2007, 101, 043303 (56) Xu J, Liu W, Liang R, and Ren Z. Plasma science and Technology.3, 2001, 10271036. (57) Oda, A.; Sugawara, H.; Sakai, Y.; Akashi, K. J. Phys. D: Appl. Phys. 2000, 33, 1507. (58) Brodmann, R.; Zimmerer, G. J. Phys. B, At. Mol. Phys. 1977, 10, 3395. (59) Avtaeva Svetlana, V.; Saghi, B.; Rahmani B. IEEE Trans. Plasma Sci. 2011, 39, 1814. (60) Lück, H.; Loffhagen, D.; Bötticher, W. Appl. Phys. B 1994, 58, 123. (61) Lamrous, O.; Gaouar, A.; Yousfi, M. J. Appl. Phys. 1996, 79, 6775. (62) Flannery, M.R.; Yang, T.P. Appl. Phys. Lett. 1978, 32, 327. (63) Baulch, D.L.; Duxbury, J.; Grant, S.J.; Montague, D.C. J. Phys. Chem. Ref. Data 1981, 10, 1. (64) Riva, R.; Legentil, M.; Pasquiers, S., Puech, V. J. Phys.D: Appl. Phy. 1995, 28, 856. (65) Galy, J.; Aouame, K.; Birot, A.; Brunet, H.; Millet, P. J. Phys. B, At. Mol. Opt. Phys. 1993, 26, 447. (66) Salamero, Y.; Birot, A.; Brunet, H.; Galy, J.; Millet, P. J. Chem. Phys. 1984, 80, 4774. 115 (67) Leichner, P.K.; Palmer, K.F.; Cook, J.D.; Thieneman, M. Phys. Rev. A, Gen. Phys. 1976, 13, 1787. (68) Hokazono, H.; Midoridawa, K.; Obara, M.; Fujioda, T. J. Appl. Phys. 1984, 56, 680. (69) Xu, X. Dynamics of High- and Low-Pressure Plasma Remediation; PhD. dissertation, Univ.Illinois, Urbana, IL, 2000. (70)Billant d’Activités scientifiques de l’équipe DIP (2005-2008, Décharges Impulsionnelles de Puissance qui devient en 2009 : (71) M. Kogama, S. Okazaki, M. Uehaha et Y.Kimura, J.Phys.D ; Appl.Phys, 889-892, 1993. (72) B.Gellert, U. Kogelschatz, Appl. Phys. B 52. 1991,14-21 (73) Satiko Okazaki, Masuhiro K., M. Uehara, J. Phys.D.,Appl. Phys. 26 1993, 889-892 (74) S.Muller, R.-J. Zahn, Contrib Plasma Phys. 36,6,1996, 697-709 (75) C. Lee,M. A. Lieberman, J. Vac. Sci.Technol, A 13(2), 1995. (76) T.Letardi, H. Fang and S. Fu, IEEE journal of Quantum electronics, Vol. 28, No. 7, July 1992. (77) A. A.Lisenko and M. I. Lomaev, Opt.Atmos.Okeana, 2002, vol.15, p.293. (78) K. Stockwald, M.Neiger, Contrib. Plasma Phys. 35,1,1995, 15-22 (79) S. Liu and M. Neiger, J.Phys.D.: Appl.Phys. 34 1632-38, 2001. (80) D. Uhrlandt and R. Winkler 1996 Plasma Chem. Plasma Processes 16 517 (81) L. B. Loeb, University of California Press, 1965. (82) P.Bergonzo, U.Kogelschatz and I.W.Boyd, Appl. Surf. Science 69, 1993, 393- 397 (83) M.I. Lomaev, V. S. Skakun, E. A. Sosnin, V. F. Tarasenko, D. V. Shitts, M. Erpfeev, Phys. Ups, Vol. 173, p. 193, 2003. 116 (84) G. Marowsky, R. Sauerbrey, F. K. Tittel and W. L. Wilson, Chemical, Physics Letters, Volume 98, Issue 2, 17 June 1983, Pages 167-171. (85) Y. Tanaka. J. Opt. Soc. Am. 45, 710 (1955) (86) Junn-Ying Yhang ‘Lifetime investigation of excimer UV sources’, Appl. Surf. Science 168, 2000, 296-299 (87) H.Esrom,J.Demmy,U.Kogelschatz, Chemotronics 1989, Vol.4.,1989, 202(88) Tarasenko V.F., Chernov E.B., Erofeev M.V., Lomaev M.I., Panchenko A.N., Skakun V.S., Sosnin E.A., Shitz D.V. Applied Physics A (Materials Science & Processing). - 1999. - V. A69. - P.327-329. (89) Zoran Falkenstein, J.Adv. Oxid Techn. Vol.2, No.1.1997, 223(90) Yu B Golubovskii, V A Maiorov, J Behnke, J F Behnke 2003 J. Phys. D: Appl. Phys. 36 39–49 (91) T. Shinoda and K.Awamoto, IEEE Trans. Plasma Sci. 34 (2006) 279. (92) W.J Chung, B.J Shin, T.J Kim, H.S Bae, J.H Seo, and K.W, Whang IEEE Trans. Plasma Sci. 31 (2003) 1038. (93) A.Belasri, W.Benstâali, et H.Haffaf, Revue Internationale des Energies Renouvelables, Alger, 2003. (94) S Rauf and M J Kushner, J. Appl. Phys. 85 (1999) 3470. (95) R. Veeransingam, R. B. Cambell, and R.T. Mc Grath, ‘‘One Dimensional Fluid and Circuit Simulation of an AC Plasma Display Cell’’, IEE Trans, Electrons Device 23, 688 (1995). (96) H.S Bae, J.K Kim, and K.W Whang, IEEE Trans. Plasma Sci. 35 (2007) 467. 117 (97) Auday G, Guillot Ph and Galy J 2000 J. Appl. Phys. 88 4871–4 (98) Motoyama Y, Matsuzaki H and Murakami H, IEEE. Trans. Electron Dev. 48 (2001) 1568 (99) Murakami Y, Matsuzaki H, Murakami H and Ikuta N, Japan. J. Appl. Phys. 40 (2001) 3382. (100) Lee S K, Kim J H, Lee J and Whang K W, Thin Solid Films, 435 (2003) 69. (101) Hur M S, Lee J K, Kim H C and Kang B K IEEE Trans.Plasma Sci. 29 (2001) 861. (102) Th.Callegari, “Modélisation et diagnostics de décharges à barrières diélectriques pour écran à plasma”, Toulouse, Paul Sabatier, Thèse d’université, 2000. (103) A. Hirech, “Diagnostics et modélisation d'une cellule d'écran à plasma (104) O. Sahni, C. Lanza, and W. E. Howard, , J. Appl. Phys. 40, 2365 (1977). (105) W.Benstâali et A.Belasri, « parametic study of a positive column AC plasma display panel cell», Revue Sciences &Technologie A, N°26, Université de Constantine 2007. (106) SIPDP-AC, Kinema Software, http://www.siglo-kinema.com (107) O. Sahni and C. Lanza, ‘‘Importance of the Dependence of the Secondary Electron Emission Coefficient on E/P for Pashen Breakdown Curves in AC Plasma Panels’’, J. Appl. Phys. 47, 1337 (1976). (108) O. Sahni and C. Lanza, J. Appl. Phys. 47, 5107 (1976). 118 ISSN 1063780X, Plasma Physics Reports, 2013, Vol. 39, No. 12, pp. 1043–1054. © Pleiades Publishing, Ltd., 2013. LOWTEMPERATURE PLASMA Electrical and Chemical Properties of XeCl*(308 nm) Exciplex Lamp Created by a Dielectric Barrier Discharge1 S. Baadj, Z. Harrache, and A. Belasri Laboratoire de Physique des Plasmas, Matériaux Conducteurs et leurs Application (LPPMCA), Université des Sciences et de la Technologie d’Oran, USTOMB, Algérie email: [email protected] Received March 6, 2013; in final form, June 6, 2013 Abstract—The aim of this work is to highlight, through numerical modeling, the chemical and the electrical characteristics of xenon chloride mixture in XeCl* (308 nm) excimer lamp created by a dielectric barrier dis charge. A temporal model, based on the Xe/Cl2 mixture chemistry, the circuit and the Boltzmann equations, is constructed. The effects of operating voltage, Cl2 percentage in the Xe/Cl2 gas mixture, dielectric capaci tance, as well as gas pressure on the 308nm photon generation, under typical experimental operating condi tions, have been investigated and discussed. The importance of charged and excited species, including the major electronic and ionic processes, is also demonstrated. The present calculations show clearly that the model predicts the optimal operating conditions and describes the electrical and chemical properties of the XeCl* exciplex lamp. DOI: 10.1134/S1063780X13120015 1 1. INTRODUCTION sure when UV radiation output is in its maximum depends on discharge geometry and voltage waveform. Nonequilibrium plasma created by dielectric bar rier discharge (DBD) is one of the widely used as ultraviolet and vacuum ultraviolet (UV/VUV) sources in excimer lamps [1–8]. These lamps are used espe cially in biological sterilization, lithography, material deposition in microelectronics, plasma display panels, destruction of pollutants and lighting [9–17]. Recent theoretical and experimental investigations showed that pulse excited DBD is much efficient as UV sources, with typical gas pressure changing between 50 and 700 Torr. The optimum content of chlorine in Xe/Cl 2 gas mixtures is about 0.5–5% and the applied voltage is approximately several tens of kV [18, 19]. The presence of a dielectric between the electrodes prevents the transition to an arc [20, 21]. The materials widely used as dielectric barrier are glass, quartz, alu mina, and some special ceramics or polymers. More over, in order to optimize the discharge luminance efficiency, many experimental and theoretical simula tion studies of the plasma kinetics in pulseexcited DBDs have been realized in the last decade [22–36]. It has been shown that the efficiency is rather high and can reach 60% by employing a short pulsed voltage excitation [25, 26, 37–41]. As illustrated in [18], the optimization of the intensities of radiation depends not only on the gas composition but also on the gas pressure, the applied voltage and the number of pulses. In other works, as shown in [19], the optimum pres 1 The article is published in the original. The aim of this work is to investigate the electrical and chemical characteristics of XeCl*(308 nm) excil amp excited by a pulsed DBD in Xe/Cl2 gas mixture. Here, we present a computer modeling of homoge neous DBD. The main mechanisms of XeCl* mole cules formation and the UV production dependence on the total gas pressure, the Cl2 percentage, the applied voltage and the dielectric capacitance are reported and analyzed. This work is organized as follows. Section 2 describes the physical discharge model and the chem ical kinetics scheme. In Section 3, the electrical and chemical proprieties of the lamp discharge are pre sented and discussed, followed by a parametric study. Finally, the conclusion is drawn in Section 4. 2. DESCRIPTION OF THE DISCHARGE MODEL The model of homogeneous discharge (socalled zerodimensional (0D) model) was based on three modules: the electrical module based on the equation of the discharge circuit, the particle module based on the Boltzmann equation and the chemical kinetic module based on a system of kinetic equations for the considered discharge species [36, 42]. The scheme of the DBD presented in this paper is shown in Fig. 1. 1043 1044 BAADJ et al. The full set of reactions used for the present model of xenon/chlorine mixture is reported in Table 1. It takes into account 22 species regrouped in 74 reac tions. These species are electrons, Xe+, Xe 2+ , Cl–, Cl 2+ , Cl, Xe*res , Xe*met , Xe**, Xe*2 (1 Σ u+ ), Xe*2 (3 Σ u+ ), Xe*2 (O + ), Xe/Cl2 plasma Cd1 Cd1 Vapp Fig. 1. Scheme of the DBD. The applied voltage through the discharge is given by Vapp (t ) = Vdis (t ) + Vdie (t ) , (1) where Vdie(t) is the voltage across the dielectric given by the formula (2) Vdie = 1 I (t )dt . Cd The discharge current I(t) can be obtained by the following equation: ∫ V I (t ) = dis . Rg (t ) (3) The chemical kinetics module constructs differen tial equations for the evolution of the species density. The system of equations describing the dielectric and the plasma kinetics are solved as follows: for a given voltage at a time t, the plasma kinetics equations cou pled with the dielectric equation are solved with the classical GEAR method [43] between the instants t and t + dt. Voltage, kV 8 Vapp Current density, A/cm2 2.0 6 3. RESULTS AND DISCUSSION We discuss in this section some results obtained from the homogeneous discharge model in the case of a Xe/Cl2 gas mixture for different discharge parame ters. The discharge lamp parameters and operating conditions are indicated in Table 2. 3.1. Electrical Characteristics In order to show the profile of some electrical char acteristics of the discharge during the pulse, we have Power density, kW/cm3 16 14 (a) Vdie Cl *2 , XeCl*(B), XeCl*(C), Xe2Cl*, and photons (147, 153, 172, 256, 308, 330, and 490 nm). The con sidered reactions include electronneutral elastic col lisions, direct electron impact ionization, excitation, stepwise ionization, recombination, heavy particle collisions and radiation processes. The reaction rate coefficients of electron–atom or molecule collisions, depending on the reduced electric field E/N, are tab ulated by solving the homogenous electron Boltzmann equation, using the BOLSIG solver [44]. It is worth noting that the rate coefficients of electron collisions with chlorine species are taken from [45, 46]. They are calculated as function of the electron temperature which is calculated as Te = 2ε , where ε is the mean 3K B electron energy calculated as a function of the reduced electric field [44] and KB is the Boltzmann constant. 1.5 (b) 12 10 1.0 4 I 2 8 6 0.5 Vdis 4 2 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Time, μs 1.25 0 1.50 0 0.25 0.50 Time, μs 0.75 1.00 Fig. 2. Time evolutions of (a) the current density, the applied voltage Vapp, the voltage across the gap Vdis, the voltage across the dielectric Vdie, and (b) the deposited power density. PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES 1045 Table 1. List of reactions and rate coefficients used in the computer simulation of XeCl excilamp for Xe/Cl2 gas mixture Process Rate Reference 3 1. Ionization processes (cm /s) e + Xe r* 2e + Xe+ e + Xe m* 2e + Xe+ f(E/N) f(E/N) + e + Cl2 2e + Cl 2 e + Cl2 e + Cl2 Cl+ f(E/N) 3.88 × 10 × exp(–15.5/Te) 8.55 × 10–10 × exp(–12.65/Te ) –9 2e + + Cl + – Cl + Cl + e e + Cl Cl+ + 2e e + Cl– 2e + Cl [44] [44] 0.53 3.17 × 10–8 × T e × exp(–13.29/Te ) 7 × 10–11 3 + [44] [45] [45] [45] [46] 4.0 × 10–5 × T e × exp(–7.5/Te ) e + Xe2Cl* Xe 2 + Cl + 2e 2. Electron attachment and detachment (cm3/s) e + Cl2 Cl + Cl– f(E/N) + 2.0 × 10–8 e + Cl 2 Cl* + Cl [47] – 0.5 [48] 2.0 × 10–7 × T e – 0.5 [47] 1.0 × 10–12 1.0 × 10–12 1.0 × 10–12 6.0 × 10–11 [49] [46] [46] [46] 1.0 × 10–9 [46] 1.0 × 10–10 1.0 × 10–10 1.0 × 10–10 2.0 × 10–10 2.0 × 10–10 3.5 × 10–10 5.0 × 10–10 [46] [46] [46] [46] [46] [50] [49] 2.0 × 10–6 [49] + e + Cl 2 9.0 × 10–8 × T e 2Cl + e + Xe 2 Xe** + Xe 3. Charge transfer (cm3/s) Xe+ + Cl Cl+ + Xe + + Xe* Xe+ + Cl Cl + + Xe** Xe+ + Cl Cl Xe+ + Cl2 + Xe + Cl 2 + Cl+ + Cl2 Cl 2 + Cl 4. Penning ionization (cm3/s) Xe+ + Cl + e Cl* + Xe Cl* + Xe* Xe+ + Cl + e Cl* + Xe** Xe+ + Cl + e Xe* + Xe* Xe+ + Xe + e Xe** + Xe** Xe+ + Xe + e + Xe 2* + Xe 2* Xe 2 + Xe + Xe + e Cl– + Cl 2Cl + e 5. Ionion recombination (cm3/s) Cl 2* Cl+ + Cl– Cl– Xe+ + Cl 2 – + + Cl + Xe 2 + Cl– XeCl* + Xe 6. Electronneutral collisions (cm3/s) e + Xe X*e + e e + Xe X** e +e e + Cl2 [46] [51] [51] f(E/N) [44] [44] f(E/N) 1.04 × 10–7 × 2Cl + e 0.29 Te × exp(–8.84/Te) 1.14 × 10–14 × exp(–5.34/Te) 5.0 × 10–6 1.2 × 10–7 1.2 × 10–7 2.0 × 10–7 3.0 × 10–8 e + Cl2 e + Cl 2* XeCl*(C) + e XeCl*(B) + e Xe + Cl + e XeCl*(B) + e Xe + Cl + e XeCl*(C) + e e + Xe2Cl* e + Xe + Xe + Cl e + Xe2Cl* XeCl* + Xe + e PLASMA PHYSICS REPORTS 2.0 × Calculated by Flannery formulas Calculated by Flannery formulas 10–6 Cl* + 2Cl XeCl* Vol. 39 [44] [46] No. 12 2013 [48] [48] [46] [52] [52] [46] [47] 1046 BAADJ et al. Table 1. (Contd.) Process Rate Reference 7. Neutralneutral collisions (cm3/s for twobody reactions and cm6/s for threebody reactions) 2Cl + Cl2 2Cl2 5.4 × 10–32 2Cl + Xe Cl2 + Xe 5.4 × 10–32 1.55 × 10–10 Cl 2* + Xe XeCl*(B) + Cl Xe r* + Xe Xe m* + Xe Xe m* + Xe Xe r* + Xe [53] [53] [49] 2.6 × 10–14 [54] –15 1.5 × 10 [55] Xe r* + Xe + Xe 1 + Xe 2* ( Σ u ) + Xe 6.0 × 10–33 [46] Xe m* + Xe + Xe Xe 2* ( Σ u ) + Xe 1.9 × 10–32 [46] Xe r* + Xe + Xe Xe 2* (O+) + Xe Xe 2* + Cl2 1.55 × 10–35 [23] 3 + [56] –10 7.0 × 10 7.0 × 10–10 2.0 × 10–11 [46] [46] [23] 5.0 × 10–32 [56] 5.0 × 10–32 [56] 4.0 × 10–11 [47] 1.0 × 10–10 [26] 7.1 × 10–10 [46] 2.3 × 10–11 2.6 × 10–10 7.3 × 10–31 7.3 × 10–31 6.3 × 10–10 1.1 × 10–10 4.0 × 10–31 8.0 × 10–12 4.5 × 10–10 3.0 × 10–10 2.0 × 10–10 [52] [46] [46] [46] [52] [52] [52] [47] [47] [49] [49] 1.5 × 107 [47] 4.3 × 105 [49] 9.0 × 106 [54] +Xe + Xe + hν(172 nm) 1.8 × 108 [47] +Xe + Xe + hν(172 nm) 1.0 × 107 [47] 1.0 × 107 [47] 9.1 × 107 7.7 × 106 5.0 × 106 [47] [57] [47] Xe* + Xe + Cl2 Xe* + Cl2 XeCl* + Cl Xe** + Cl2 XeCl* + Cl Xe** + Xe Xe* + Xe Xe** + Xe + Xe Xe 2* + Xe Xe** + Xe + Cl2 Xe 2* + Cl2 1 + Xe 2* ( Σ u ) Xe 2* (O+) + Xe 3 + Xe 2* ( Σ u ) + Xe + Xe 3Xe Xe 2* + Cl2 XeCl* + Xe + Cl XeCl* + Xe Xe + Xe + Cl XeCl*(B) + Cl2 Cl2 + Xe + Cl XeCl*(B) + Xe + Cl2 Xe2Cl* + Cl2 XeCl*(B) + Xe + Xe Xe2Cl* + Xe XeCl*(B) + Cl Xe + Cl + Cl XeCl*(B) + Xe XeCl*(C) + Xe XeCl*(C) + Xe + Xe Xe2Cl* + Xe Xe2Cl* + Xe Xe + Xe + Xe + Cl Xe2Cl* + Cl2 Xe + Xe + Cl + Cl2 XeCl* + XeCl* Xe+ + Cl– + Xe + Cl Xe2Cl* + Cl Xe + Xe + Cl + Cl 8. Spontaneous emission (s–1) Xe** Xe* + hν Xe + hν(147) Xe r* Xe 2* (O+) Xe + Xe + hν(152) 1 + Xe 2* ( Σ u ) 3 + Xe 2* ( Σ u ) Cl 2* Cl2 + hν(259 nm) XeCl*(B) XeCl*(C) Xe2Cl* 5.0 × 10–32 XeCl*(X) + hν(308 nm) XeCl*(X) + hν(330 nm) Xe + Xe + hν(490 nm) PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES plotted in Fig. 2, for a gas mixture of Xe/Cl2 (1%), an initial density of preionization of 109 cm–3, an applied voltage of 8 kV and a total gas pressure of 200 Torr, the temporal variations of the voltage across the capacity Vdie, the discharge voltage Vdis, the discharge current I, and the power density. It seems that at any time during the discharge pulse, the voltage equality Vapp(t) = Vdis(t) + Vdie(t) is realized. When we apply a voltage between the electrodes the gas expends a time, of the order of nanoseconds, to become conductor. This time corresponds to one necessary for ionization and sec ondary emission for the creation of sufficient charges to ensure the breakdown. We can see from Fig 2a that the current density increases and reaches a peak value of about 1.8 A/cm2. The decrease of the current den sity is due to the charging of the dielectric layers by electrons and ions generated in the plasma discharge, which reduces the gap voltage, the dielectric voltage Vdie increases to its maximum value and extinguishes the discharge. The time variation of the deposited power density is plotted in Fig. 2b. Once the break down is reached, we can see clearly that the power density increases quickly, the dissipated power peak reaches typical value of about 14.8 kW/cm3. 3.2. Xenon Chlorine Plasma Chemistry In our kinetic scheme, fourteen plasma chemical reactions describe the production and loss of the XeCl*(B) molecular state; six reactions for creation and eight reactions for loss, including ion–ion recom bination, harpoon reactions, electron–XeCl*(B) col lisions, recombination, quenching, and spontaneous Creation source terms, cm–3/s R3 R5 1019 Parameter R2 R4 d ⎡XeCl * (t )⎤ ⎣ ⎦ = S (t ) , dt S (t ) = S + (t ) − S − (t ) , R1 R6 19 R5 1018 R7 1017 R3: Xe** + Cl2 → XeCl*(B) + Cl R4 R3 R4: Xe+ + Cl– → XeCl*(B) 1016 R5: Xe2* + Cl2 → XeCl*(B) + Xe + Cl 1014 R6: Xe2+ + Cl– → XeCl*(B) + Xe R8 1015 R6 1013 (4) R1: XeCl*(B) → XeCl(X) + hv(308) R2: XeCl(B) + Xe → Xe + Xe + Cl R3: XeCl(B) + Cl2 → Cl2 + Xe + Cl R4: XeCl*(B) + Xe– → Xe2Cl* + Xe R5: XeCl*(B) + Cl → Xe + Cl + Cl R6: XeCl*(B) + e → XeCl*(C) + e R7: XeCl*(B) + e → Xe + Cl + e R8: XeCl*(B) + XeCl*(B)– → Xe + Cl + Xe+ + Cl– R2 R2: Xe* + Cl2 → XeCl*(B) + Cl 1015 160, 180, 200, 220 300 10 8 1 7.5, 8, 9 109 3.7 The XeCl*(B) molecular state density can be described by the following equation: 10 R1: Cl2* + Xe → XeCl*(B) + Cl 1016 1, 2, 3 emission (see Table 1). Generally, two kinds of reac tion channels are considered for the XeCl* formation [19, 38, 58]. It is known that at low pressure, which is used for XeCl* lamp, the harpoon mechanism is pre dominant [59, 60]. At high pressure, case of XeCl lasers, the ion recombination is much more important [47, 61]. For the intermediate operating pressure range, many authors speculated the harpoon reaction [2, 38, 62]. 1020 R1 Value Gas mixture Xe/Cl2 with chlorine percentage (%) Total gas pressure (Torr) Gas temperature (K) Interelectrode distance (mm) Discharge gap (mm) Dielectric barrier thickness (mm) Applied voltage (kV) Preionization density (cm–3) Dielectric relative permittivity (εr) 1021 1018 1017 Table 2. Lamp parameters and operating conditions using in the present model Loss source terms, cm–3/s 1021 1020 1047 1014 1012 0 0.25 0.50 0.75 1.00 1.25 1.50 Time, μs Fig. 3. Time evolution of XeCl*(B) creation sources term for a gas mixture Xe/Cl2 (1%), a total gas pressure of 200 Torr, and an applied voltage of 8 kV. PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Time, μs Fig. 4. Time evolution of XeCl*(B) loss sources term for a gas mixture Xe/Cl2 (1%), a total gas pressure of 200 Torr, and an applied voltage of 8 kV. 2013 1048 BAADJ et al. Concentrations, cm–3 Power deposition, % 1013 50 (a) Cl– 40 e 1012 Xe* 30 1011 20 Xe*res * Xemet 10 1010 0 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Xe*res Xe*met Xe** Xe+ Cl* Cl+ excitation excitation excitation ionization excitation ionization 5% 19.4% 50.5% 23.9% 0.9% 0.3% 1013 XeCl(B) Fig. 6. Fraction of the electrical energy deposition for a total gas pressure of 200 Torr, an applied voltage of 8 kV and gas mixture Xe/Cl2 (1%). (b) 1012 XeCl(C) 1011 creation source term increases rapidly and evidently the total creation term increases. This increase of pro duction source terms is accompanied by the increase of the XeCl*(B) molecular state density in the dis charge. Figure 4 shows that the collision of XeCl*(B) with xenon and chlorine ground states, and the radia tive decay at 308 nm are the principal loss mechanisms of XeCl*(B) molecular state. 1010 109 Xe2*(O+) 108 Xe2Cl* Xe2*(1S) Cl*2 0 0.2 Xe2*(3Σu+) 0.4 0.6 Time, μs 0.8 1.0 Fig. 5. Time variations of (a) the charged and excited spe cies densities and (b) the excited molecular species densi ties. The gas mixture composition is Xe/Cl2 (1%), the total gas pressure is 200 Torr, and the applied voltage is 8 kV. where S(t) is the source term of the continuity equa tion and S+(t) and S–(t) are the source terms of the various creation and loss processes of the XeCl*(B), respectively. In order to determine the main channel of XeCl* formation, we have plotted in Figs. 3 and 4, the time evolution of the XeCl*(B) creation and loss source terms, the harpoon source term, the ion–ion recom bination term, the spontaneous emission term, and the XeCl* recombination terms. From Fig. 3, it seems clearly that the harpoon reactions are the dominant reaction path leading to the formation of the exciplex XeCl*(B). After the time 0.54 μs, when sufficient charged species are created, the recombination of Xe+ with Cl– become more important. We can see that the Figures 5 illustrates the temporal evolution of some charged and excited species responsible of the XeCl*(B) production. Figures 5a shows that the dom inant species densities are the metastable xenon Xe *met , and the resonant xenon Xe *res . These discharge species reach maximum values of 5.63 × 1013 cm–3 and 1.32 × 1013 cm–3, respectively. The ion Xe+ creation is due essentially to direct ionization of xenon ground state. The source of negative ions of chlorine Cl– is the two reaction channels for molecular chlorine dissociation: Cl2 + e → Cl + Cl– and Cl2 + e → Cl+ + Cl– + e (Table 1). The time variations of excimer and exciplex molecules are shown in Fig. 5b. It seems that the dom inant excited states formed in the discharge are XeCl* and Xe2Cl* molecular states. The excited species reach a maximum values of 1.30 × 1013 cm–3, 6.67 × 1012 cm–3, and 3.56 × 1012 cm–3 for XeCl*(B), XeCl*(C), and Xe2Cl*, respectively. This figure also shows that the electron density reached a maximum value of about 1.5 × 1012 cm–3 and decreases as a result of the disso ciative attachment: e + Cl2 → Cl + Cl–. The discharge species Xe*2 (1 Σ u+ ), Xe*2 (3 Σ u+ ), Xe*2 (O + ), and Cl *2 reach maximum values of 3.01 × 1011, 5.19 × 1010, 8.58 × 1010, PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES Current density, A/cm2 1049 Electron density, 1012 cm–3 8 8 7 7 (a) (b) 6 9 kV 6 9 kV 5 5 4 4 3 3 2 8 kV 2 8 kV 1 1 7.5 kV 7.5 kV 0 0 0.25 0.50 0.75 1.00 308 nm photon density, 1014 cm–3 2.0 0 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Radiation power, kW/cm3 2.5 (c) 9 kV (d) 2.0 9 kV 8 kV 1.5 1.5 7.5 kV 1.0 1.0 8 kV 0.5 0.5 7.5 kV 0 0 0.25 0.50 Time, μs 0.75 1.00 0 0.25 0.50 Time, μs 0.75 1.00 Fig. 7. Time evolutions for different values of the applied voltage of (a) the discharge current density, (b) the electron density, (c) the 308nm photon concentration, and (d) the radiation power of 308nm emission. and 7.81 × 108 cm–3, respectively, and decrease quickly. Figure 6 presents the calculated fractional energy dep osition for the several discharge processes such as exci tation, ionization. It appears that the most of the energy is utilized for excitation. Energy used for the production of xenon excited states, Xe*res and Xe*met , is about 24.4%. These states are responsible for the Xe*2 creation. An important part of the excitation processes is used for the generation of the high levels excited states of xenon atoms Xe** (50.5%). Energy loss, due to xenon ionization, reaches a value of 23.9%. Energy losses for ionization and excitation of Cl atoms are small compared to the ionization and excitation of xenon (0.3 and 0.9%, respectively) due to the low mole fraction of chlorine. PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 3.3. Parametric Study Several experimental and theoretical works have focused on the lamp efficiency [25, 28, 40, 41, 63–65]. They have shown that the UV emission of excimer lamps depends on the external discharge parameters such as the applied voltage and the gas pressure. In this subsection, we discuss the dependence of UV photon generation, discharge behavior on the amplitude of the applied voltage, the Cl2 concentration, and the total gas mixture pressure. 3.3.1. Effect of the applied voltage. Here, we per formed calculations for Xe/Cl2 (1%) gas mixture and total gas pressure of 200 Torr. In order to see how the electrical and chemical characteristics of the plasma discharge can be affected by the amplitude of the applied voltage Vapp, we have presented the temporal 1050 BAADJ et al. Photon density peak, 1014 cm–3 Photon density peak, 1014 cm–3 2.00 2.0 (a) (b) 1.8 1.75 1% 1.6 1% 1.50 1.4 1.25 1.2 1.0 1.00 2% 3% 0.50 2% 0.8 0.75 7.5 8.0 8.5 Voltage, kV 3% 0.6 9.0 160 170 180 190 200 Pressure, Torr 210 220 Fig. 8. (a) Variation of the 308nm photon density peak versus the applied voltage for different Cl2 percentages in the gas mixture; (b) variation of the 308nm photon density peak versus the total gas pressure for the different Cl2 percentages in the gas mixture. variations of the discharge current density, the electron and photon densities, and the deposited power density. The used applied voltages are 7.5, 8, and 9 kV. Figure 7a illustrates the dependence of the discharge current on the amplitude of the applied voltage. The strong effect of the applied voltage on the breakdown time and the current peak appears clearly on this figure. For the three values of applied voltage 7.5, 8, and 9 kV, the peak of the current density reaches values of 0.84, 1.83, and 7.34 A/cm2, respectively. The current peak increases when there is more power deposited in the discharge and therefore the breakdown occurs on short times. The time dependence of the electron den sity is reported on Fig. 7b under the same conditions as in Fig. 7a and for the three values of the applied volt age. This figure shows that the electron density increases with the increasing of magnitude of voltage, and reaches a maximum value of 7 × 1012 cm–3 for an applied voltage of 9 kV. The dependence of the photon emission at 308 nm on the value of the applied voltage is also represented in Fig. 7c. We see that the increase of the applied voltage increases the emission of light. This is mainly due to more power deposited in the dis charge, and most of the energy dissipated in the exci tation and ionization of xenon is used for the forma tion of XeCl* and, consequently, for the production of UV. The temporal variation of the radiation power for 308 nm emission and corresponding to the XeCl* (B– X) transition is shown in Fig. 7d. The radiation power increases with the increase of the applied voltage, it reaches a maximum value of about 2.48 kW/cm3 for an applied voltage of 9 kV. 3.3.2. Effect of the Cl2 concentration. In order to see the effect of the chlorine concentration in the Xe/Cl2 gas mixture on the 308 nm photons emission, we plotted in Fig. 8a the peak of the 308 nm photons density, for three concentrations of chlorine (1, 2, and 3%) as function of the applied voltage and at a fixed pressure of 200 Torr. We can see clearly that the peak of the photons density decreases with the increase of the chlorine concentration in the gas mixture. Figure 8b illustrates the peak of 308 nm photons density for the three concentrations of chlorine, with a total gas pres sure of 160, 180, 200, and 220 Torr and for an applied voltage of 8 kV. From this figure, it is seen clearly that the photon emission significantly influenced by the Cl2 concentration. 3.3.3. Effect of the total gas pressure. In this part of the paper, the gas pressure’s order is chosen, in the range of that used in some experimental and theoreti cal works on excimer lamps [40, 41, 48, 66–69]. Fig ure 9 represents the effect of the total gas pressure on the electron density, the XeCl*(B) density, and the power density peak at 308 nm. We can see that the total gas pressure affects strongly the duration of discharge pulse and the electron density. Figure 9a shows that the electron density decreases with the increasing of the gas pressure due to the increase of the dissociative attachment: e + Cl2 → Cl + Cl–. It reaches a maxi mum value of 1.76 × 1013 cm–3 for a pressure of 160 Torr. We see also from Fig. 9b that the density of the XeCl*(B) molecular state decreases with the increase of the gas pressure. This decreasing in density is due in part to its conversion to Xe2Cl* exciplex by collision with xenon at the ground state XeCl*(B) + Xe → Xe2Cl + Cl. Figure 9c shows the radiation power of XeCl*(B) emission at 308 nm as a function of the gas pressure. The most intense 308 nm emission of PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES 1051 XeCl*(B) molecular state density was gained at 160 Torr. For this pressure, the radiation power reaches a maximum value of around 2.76 kW/cm3. Electron density, 1013 cm–3 2.0 3.3.4. Effect of the dielectric capacitance. The elec tron and 308 nm photon densities as functions of the dielectric capacitance are studied under the same con ditions as in the previous subsection, and for three val ues of Cdiel = 100, 230, and 400 pF cm–2. Figure 10 shows that the electron and 308nm photon densities are affected significantly by the dielectric capacitance. The increasing of the dielectric capacitance increases the current required to charge the dielectric, and, con sequently, the photons emission becomes larger. 1.6 3.3.5. Efficiency improvement. It is well known that the DBD lamps convert electrical energy into the light by transforming electrical energy into the kinetic energy of moving electrons, which in turn is converted into electromagnetic radiation as a result of some kind of collision process with atoms of gas. However, the efficiency of UV photon generation, defined as the ratio of the light output power density to the input power density, depends on the applied voltage wave excitation, the chlorine percentage in the gas mixture and the total gas pressure. This efficiency is calculated by the relation: ∫P η= ∫P raddt 1.8 (a) 1.4 1.2 160 Torr 1.0 0.8 0.6 180 Torr 0.4 200 Torr 0.2 220 Torr 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Time, µs XeCl*(B) density, 1013 cm–3 5 (b) 160 Torr 4 3 180 Torr 2 . (5) 200 Torr 1 eledt 220 Torr Figure 11a shows the variation, in the Xe/Cl2 gas mixture, of the partial efficiency η308 as a function of the applied voltage with Cl2 percentage (1 and 2%) at a total pressure of 150 Torr. This figure indicates that the partial efficiency at 308 nm is significantly influ enced by the Cl2 concentration in the gas mixture. For a Cl2 percentage of 1% and a voltage of 9 kV, the 308nm efficiency reaches a typical value of about 19%. We plotted in Fig. 11b the variations of the partial η172 , η330 , η308 , and η490 excilamps radiation efficien cies as functions of the applied voltage. The Cl2 per centage in the Xe/Cl2 gas mixture is 1% and the total gas pressure is 150 Torr. The efficiency at 308 nm is the highest compared to the other partial efficiencies. 0 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Time, µs Radiation power peak, kW/cm3 3.0 (c) 2.5 2.0 1.5 1.0 In Fig. 12a, we show the variations of the partial efficiency η308 as a function of the total gas pressure with Cl2 percentage (1, 2, and 3%) and for an applied voltage of 9 kV. At low Cl2 concentration (1%), the 308nm partial efficiency reaches a maximum value. The gas pressure dependence of the UV output of the 172, 330, 308, and 490 nm emissions at fixed chlorine concentration (1%) is shown in Fig. 12b. We note also that the efficiency at 308 nm presents the highest values. PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 0.5 0 120 140 160 180 200 220 Pressure, Torr Fig. 9. Time evolutions for different values of the total gas pressure of (a) the electron density and (b) the XeCl*(B) molecular state density; (c) variation of the radiation power peak of 308nm emission versus the gas pressure. 1052 BAADJ et al. Electron density, 1013 cm–3 3.0 308 nm photon density, 1014 cm–3 (a) 10 (b) 400 pF 2.5 400 pF 8 2.0 230 pF 6 1.5 230 pF 4 1.0 100 pF 0.5 2 100 pF 0 0 0 0.25 0.50 0.75 1.00 Time, μs 1.25 1.50 0 0.25 0.50 Time, μs 0.75 1.00 Fig. 10. Time evolutions for different values of the dielectric capacitance of (a) the electron density, (b) the 308nm photon density. 308 nm efficiency, % 20 (a) 18 4. CONCLUSIONS [Cl2] = 1% [Cl2] = 2% 16 14 12 10 8 6 4 Efficiency, % 20 (b) 18 16 14 12 10 8 6 4 2 0 7.0 η308 η330 η490 η172 7.5 8.0 Voltage, kV 8.5 9.0 Fig. 11. (a) Variations of the 308 nm efficiency versus the applied voltage and for two chlorine percentages (1 and 2%) with total gas pressure of 150 Torr; (b) variations of the partial η172 , η330 , η308 , and η 490 excilamp radiation effi ciencies as functions of the applied voltage. The chlorine percentage in the Xe/Cl2 gas mixture is 1%, and the total pressure is 150 Torr. In this work, we present an electrical and chemical approach to study the proprieties of the XeCl* (308 nm) lamp excited by a DBD, with the aim of controlling its UV emission. The study, based on a homogeneous discharge model including electrical module, particle module, and chemical kinetic mod ule, provides a quantitative analysis of time evolution of some electrical and chemical discharge properties. The computer model describes under the conditions of excimer lamp functioning, the time variations of the electrical and chemical discharge properties during the pulse: discharge voltage, dielectric voltage, current density, deposited power, charged and excited species concentrations, UV photons emission, and source term of the XeCl*(B) molecular state. The results dis cuss the UV emission and the optimization of dis charge conditions for the excimer lamp. The effi ciency of UV photon generation in DBDs depends on the applied voltage, the gas mixture composition, the total gas pressure, and the dielectric capacitance. The results predict that under typical operating conditions of the DBD, the discharge XeCl* (308 nm) lamp is very affected at high applied voltage and Cl2 concen tration. The increase in the applied voltage and the dielectric capacitance induces an increase in the 308nm photon generation. The efficiency at 308 nm is the highest compared to the other partial excilamps radiation efficiencies. For a Cl2 percentage of 1% and a voltage of 9 kV, the 308nm efficiency reaches a typ ical value of about 19%. The dependence of the UV emission on the total gas pressure is also significant. Finally, the results of this work in terms of electrical characteristics and UV photons generation can be considered as basis for comprehension of the dis charge physics of exciplex lamps. PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES 308 nm efficiency, % 20 18 16 14 12 10 8 6 4 2 0 [Cl2] = 1% [Cl2] = 2% [Cl2] = 3% (a) Efficiency, % 20 18 16 14 12 10 8 6 4 2 0 η308 (b) η330 η490 η172 100 150 200 250 Total pressure, Torr 300 Fig. 12. (a) Variations of the 308nm efficiency versus the total gas pressure for different Cl2 percentages (1, 2, and 3%) with applied voltage of 9 kV; (b) variations of the par tial η172 , η330 , η308 , and η 490 excilamp radiation effi ciencies as functions of the total gas pressure. The chlorine percentage in the Xe/Cl2 gas mixture is 1%, and the applied voltage is 9 kV. ACKNOWLEDGMENTS This work has been supported by Agence Nationale pour le Développement de la Recherche Universitaire (Algeria) in the frame of project PNR (Ref. 13/0/91). One of the authors, Z.H., would like to thank Dr. D. Amir Aid for helpful discussions during the realization of this work. REFERENCES 1. M. V. Erofeev and V. F. Tarasenko, J. Phys. D 39, 3609 (2006). 2. E. A. Sosnin, M. V. Erofeev, and V. F. Tarasenko, J. Phys. D 38, 3194 (2005). 3. M. I. Lomaev, V. S. Skakun, and E. A. Sosnin, Phys. Usp. 46, 193 (2003). PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013 1053 4. B. Eliasson and U. Kogelschatz, Appl. Phys. B 46, 299 (1988). 5. M. V. Erofeev and V. F. Tarasenko, J. Phys. D 39, 3609 (2006). 6. U. Kogelschatz, Pure Appl. Chem. 62, 1667 (1990). 7. B. Gellert and U. Kogelschatz, Appl. Phys. B 52, 14 (1991). 8. U. Kogelschatz, Appl. Surf. Sci. 54, 410 (1992). 9. A. M. Braun, M. T. Maurette, and E. Oliveros, Photo chemical Technology (Wiley, New York, 1991). 10. A. Yokatani, N. Takezoe, K. Kurosawa, et al., Appl. Phys. Lett. 69, 1399 (1996). 11. M. C. Gonzalez and A. M. Braun, J. Photochem. Pho tobiol. A 93, 7 (1996). 12. R. F. Scheir and B. F. Fencl, Heat. Pip. Air. Cond. J. 68, 109 (1996). 13. D. J. Elliott, Microlithography: Process Technology for IC Fabrication (McGrawHill, New York, 1986). 14. D. Collier and W. Pantley, Laser Focus World 34, 63 (1998). 15. N. Merbahi, N. Sewraj, F. Marchal, et al., J. Phys. D 37, 1664 (2004). 16. U. Kogelschatz, B. Eliasson, and W. Egli, J. Phys. IV France 7, 4 (1997). 17. H. Scheytt, H. Esrom, L. Prager, et al., in NonThermal Plasma Techniques for Pollution Control, Ed. by B. M. Penetrante and S. E. Schultheis (SpringerVer lag, Berlin, 1993), Nato ASI Series G34 (B), 91 (1993). 18. R. Bussiahn, A. V. Pipa, and E. Kindel, Contrib. Plasma. Phys. 50, 1822 (2010). 19. A. V. Pipa and R. Bussiahn, Contrib. Plasma Phys. 51, 850 (2011). 20. R. P. Mildren and R. J. Carman, J. Phys. D 34, 1 (2001). 21. J. Y. Zhang and I. W. Boyd, App. Surf. Sci. 168, 296 (2000). 22. R. J. Carman, R. P. Mildren, B. K. Ward, et al., J. Phys. D 37, 2399 (2004). 23. A. Oda, H. Sugawara, Y. Sakai, et al., J. Phys. D 33, 1507 (2000). 24. Sz. Beleznai, G. Mihajlik, A. Agod, et al., J. Phys. D 39, 3777 (2006). 25. E. A. Bogdanov, A. A. Kudryavtsev, R. P. Arslanbekov, et al., J. Phys. D 37, 2987 (2004). 26. A. Oda, Y. Sakai, H. Akashi, et al., J. Phys. D 32, 2726 (1999). 27. S. Liu and M. Neiger, J. Phys. D 36, 3144 (2003). 28. R. J. Carman and R. P. Mildren, J. Phys. D 36, 19 (2003). 29. R. J. Carman and R. P. Mildren, IEEE. Trans. Plasma Sci. 30, 154 (2002). 30. T. Shiga, L. C. Pitchford, J. P. Boeuf, et al., J. Phys. D 36, 512 (2003). 31. Sz. Beleznai, G. Mihajlik, I. Maros, et al., J. Phys. D 43, 015203 (2010). 32. H. Piquet, S. Bhosle, R. Diez, et al., Quant. Electron. 42, 157 (2012). 33. A. Belasri, S. Bendella, and T. BabaHamed, Phys. Plasmas 15, 053502 (2008). 1054 BAADJ et al. 34. A. Belasri, K. Khodja, S. Bendella, et al., J. Phys. D 43, 445202 (2010). 35. G. N. Zvereva, Opt. Spectrosc. 94, 191 (2003). 36. A. Belasri and Z. Harrache, Plasma Chem. Plasma Process. 31, 787 (2011). 37. S. Bollanti, G. Clementi, P. Di Lazzaro, et al., IEEE. Trans. Plasma Sci. 27, 211 (1999). 38. A. M. Boichenko, V. S. Skakun, V. F. Transenko, et al., Laser Phys. 10, 540 (2000). 39. J. H. Kolts and D. W. Setser, J. Chem. Phys. 68, 4848 (1978). 40. S.Y. Jou, C.T. Hung, Y.M. Chiu, et al., Plasma Chem. Plasma Process. 30, 907 (2010). 41. Sz. Beleznai, G. Mihajlik, I. Maros, et al., J. Phys. D 41, 115202 (2008). 42. Z. Harrache, M. D. Calzada, and A. Belasri, Plasma Phys. Rep. 37, 904 (2011). 43. C. W. Gear, Numerical Initial Value Problem in Ordinary Differential Equations (PrenticeHall, Enlewood Cliffs, NJ, 1971). 44. W. L. Morgan, J. P. Boeuf, and L. C. Pitchford, The Siglo Database (CPAT and Kinema Software, Monu ment, CO, 1995–1998). 45. E. DespiauPujo and P. Chabert, Plasma Sources Sci. Technol. 18, 045028 (2009). 46. F. Kannari, D. Kimura, and J. J. Ewing, J. Appl. Phys. 68, 2615 (1990). 47. S. V. Avtaeva, B. Saghi, and B. Rahmani, IEEE Trans. Plasma Sci. 39, 1814 (2011). 48. E. G. Thorsteinsson and J. T. Gudmundsson, J. Phys. D 43, 115201 (2010). 49. H. Lück, D. Loffhagen, and W. Bötticher, Appl. Phys. B 58, 123 (1994). 50. O. Lamrous, A. Gaouar, and M. Yousfi, J. Appl. Phys. 79, 6775 (1996). 51. M. R. Flannery and T. P. Yang, Appl. Phys. Lett. 32, 327 (1978). 52. R. Riva, M. Legentil, S. Pasquiers, et al., J. Phys. D 28, 856 (1995). 53. D. L. Baulch, J. Duxbury, S. J. Grant, et al., J. Phys. Chem. Ref. Data 10, 1 (1981). 54. Y. Salamero, A. Birot, H. Brunet, et al., J. Chem. Phys. 80, 4774 (1984). 55. P. K. Leichner, K. F. Palmer, J. D. Cook, et al., Phys. Rev. A 13, 1787 (1976). 56. H. Hokazono, K. Midoridawa, M. Obara, et al., J. Appl. Phys. 56, 680 (1984). 57. J. Galy, K. Aouame, A. Birot, et al., J. Phys. B 26, 477 (1993). 58. A. N. Panchenko, A. S. Polyakevich, E. A. Sosnin, et al., Russ. Phys. J. 42, 557 (1999). 59. A. M. Boichenko and S. I. Yakovlenko, Laser Phys. 14, 1 (2004). 60. A. Schwabedissen and W. Bötticher, Contrib. Plasma. Phys. 35, 517 (1995). 61. A. Schwabedissen, D. Loffhagen, T. Harmmer, et al., Appl. Phys. B 61, 175 (1995). 62. J. Y. Zhang and I. W. Boyd, J. Appl. Phys. 80, 633 (1996). 63. M. V. Erofeev and V. F. Tarasenko, Quant. Electron. 38, 401 (2008). 64. J. Meunier, P. Belenguer, and J. P. Boeuf, J. Appl. Phys. 78, 731 (1995). 65. J. Ouyang, F. He, J. Miao, et al., J. Appl. Phys. 101, 043303 (2007). 66. J. Xu, W. Liu, R. Liang, et al., Plasma Sci. Technol. 3, 1027 (2001). 67. A. Oda, H. Sugawara, Y. Sakai, et al., J. Phys. D 33, 1507 (2000). 68. R. Brodmann and G. Zimmerer, J. Phys. B 10, 3395 (1977). 69. X. Xu, PhD thesis (University of Illinois, Urbana Champaign, IL, 2000). PLASMA PHYSICS REPORTS Vol. 39 No. 12 2013