puissance et énergie

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Architectures matérielles, puissance et énergie
Daniel Etiemble
[email protected]
Densité de puissance
1000
Nuclear
Nuclear Reactor
Reactor
2
Watts/cm
100
Rocket
Nozzle
Pentium®
Pentium® 4
Hot plate
10
Pentium®
Pentium® III
Pentium®
Pentium® II
Pentium®
Pentium® Pro
Pentium®
Pentium®
i386
i486
1
1.5µ
1µ
0.7µ
0.5µ
0.35µ
0.25µ
0.18µ
0.13µ
0.1µ
0.07µ
* “New Microarchitecture Challenges in the Coming Generations of CMOS
CMOS Process Technologies”
Technologies” –
Fred Pollack, Intel Corp. Micro32 conference key note - 1999.
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2
1
Le spectre d’implémentation
Microprocesseur
Matériel
Reconfigurable
ASIC
– ASIC
• Haute performance – dédié à l’application
• Non modifiable
– Processeur
• Programmable
• Non dédié à l’application
– Matériel reconfigurable
• Bon compromis
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3
Le conflit énergie/flexibilité
Opérations/Watt
[MOps/mW]
10
1
0.1
0.01
DSP-ASIPs
rables
ASIC
configu
e
r
s
e
/systèm
Circuits
seurs
Proces
1.0µ
0.5µ
0.25µ
0.13µ
Nécessiter
Nécessiterd’optimiser
d’optimiser
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µPs
0.07µ
Technologie
[H. de Man, Keynote, DATE‘02;
T. Claasen, ISSCC99]
4
2
La technologie MOS
Grille G
•
Source S
Drain D
•
Grille
Oxyde
(Si O2 )
S
D
Semiconducteur
Silicium dopé
•
substrat (bulk)
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Au début (RCA
1962) la grille était
en Aluminium d'où le
nom MOS :
Métal/Oxyde/Semiconducteur
Le MOS est
parfaitement
symétrique et on
appelle SOURCE
(d'électrons) le coté
le plus négatif (le
plus positif pour les
PMos)
Le substrat est mis à
la masse (à Vdd pour
les PMOS)
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5
Coupe d’un transistor
Un circuit intégré est une superposition de couches, semi-conductrices, conductrices ou isolante
contacts
diffusion
poly
métal (aluminium)
oxyde
poly
oxyde
substrat
Si O2 oxyde
diffusion
substrat
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6
3
Equations (simplifiées) du transistor MOS
S
Si Vgs − Vt < 0, mode bloqué : I ds = 0
n+
Si 0 < Vds <Vgs − Vt , mode linéaire
I ds = µ
G
D
n+
L
(p)
Cox W
(2(Vgs − Vt )Vds − Vds2 )
2 L
e
W
Si 0 <Vgs − Vt < Vds , mode saturé
n+
Cox W
I ds = µ
(Vgs − Vt ) 2
2 L
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n+
L
(p)
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7
Modélisation du comportement dynamique
Vdd
Vdd
Entrée
Vc
p Ip Sortie
n
0V
0
In
Sortie
Entrée
Td
CL
Somme des
capacités parasites
l'inverseur est un générateur de
courant déclenché par le passage du
seuil
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Tm
Td = Vc
CL
I satn
Tm = Vc
CL
I satp
8
4
Consommation d’énergie
• Consommation d’énergie
– Quand une capacité est chargée ou déchargée
– Une capacité chargée est un 1 logique, déchargée est un 0 logique
E=CV2
E
S
10
01
• Les capacités peuvent être les grilles d’autres transistors ou des fils
(bus et interconnexion longues)
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Consommation d’énergie
•
Des effets secondaires comme les courants de fuite et de court-circuits augmentent
avec les technologies modernes
IN
OUT
0
Fuites
IN
OUT
1 1/2
CourtCourt-circuit
(sub(sub-threshold)
threshold)
•
Les fuites augmentent considérablement avec les technologies modernes
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10
5
L’extensibilité (scalability)
Largeur = W = 0, 7 Longueur = L = 0, 7 tox = 0, 7
Les dimensions latérales et verticales diminuent de 30%
0, 7 × 0, 7
= 0, 7
0, 7
C ap. bord = C f = 0, 7
C ap. surface = C a =
C ap. totale ⇒ C = 0, 7
Les capacités diminuent de 30%
Surface puce = X × Y = 0, 7 × 0, 7 = 0, 7 2
La surface de puce diminue de 50%
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11
L’extensibilité (scalability)
Cap
0, 7
=
= 0, 7
Transistor
1
La capacité par transistor diminue de 30%
Cap
0, 7
1
=
=
Surface 0, 7 × 0, 7 0, 7
La capacité par unité de surface augmente de 43%
Vdd = 0, 7 Vt = 0, 7 I =
T=
1 W
0, 7 2
(Vdd − Vt ) 2 =
= 0, 7
tox L
0, 7
C × Vdd 0, 7 × 0, 7
0, 7 × 0, 7 2
=
= 0.7, Puissance = C × V 2 × f =
= 0, 7 2
I
0, 7
0, 7
Délai diminue de 30%, puissance diminue de 50%
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12
6
Puissance et énergie
Energie
• “Capacité à faire quelque chose d’utile”
• Important pour
– Durée de vie des piles et batteries
– Facture d’électricité
• Mesurée au cours du temps
• Proportionnelle à la somme des capacités et au carré
de la tension (CV2)
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Puissance et énergie
Puissance
• Travail effectué par unité de temps
•
– Mesuré en Watts
P = αCV2f
(α : activité, C: capacités, V: tension, f : fréquence)
• “Mesurée” à sa valeur maximale
• Plus de puissance Plus de courant
– Ne peut dépasser les contraintes de puissance maximale
disponible
• Plus de puissance Température plus élevée
– Ne peut dépasser les contraintes thermiques
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7
Tension, puissance et fréquence
• Les transistors commutent plus vite à une tension plus élevée
tension plus élevé permet des fréquences plus élevées
• La fréquence maximale croît presque linéairement avec la tension
… dans une plage Vmin-Vmax
– V < Vmin
les transistors ne commutent pas
1000
XScale processor freq. & power vs. voltage *
900
800
– V > Vmax
risque de destruction par surchauffe
600
500
• “Loi cubique”:
P=
Fequency(M hz)
Power (mWatt)
700
400
kV3
300
200
(or ~1%V=3%P)
100
0
0.5
0.7
0.9
1.1
1.3
1.5
1.7
1.9
* Source: Intel Corp.
Corp. (http://developer.intel.com
(http://developer.intel.com))
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15
Technologie de fabrication : l’extensibilité
Objectif (Idéal) : à chaque génération (2-3 ans)
• Réduire le délai des portes de 30%
– Gain de fréquence de 50%
• Doubler la densité d’intégration
– Réduction d’un facteur 0,7 par côté
– Les dimensions Z et L du transistor sont réduites de
30%
– Le pas d’interconnexion est réduit de 30%
– On ajoute des niveaux d’interconnexion pour tenir
compte des pas et des capacités RC
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16
8
Technologie de fabrication
• A chaque génération (tous les 2-3 ans), idéalement :
– Réduire le délai des portes de 30%
gain de fréquence d’environ ~50% (100/70)
– Vdd réduit de ~30%
Résultats :
Réduction de 2/3 de l’énergie par transition
(CV2 0.7 x 0.72 = 0.34X)
Réduction de moitié en puissance
(CV2f0.7 x 0.72 x 1.5 =0.5X)
» La densité de puissance est inchangée
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17
Des scénarii idéaux
• “Réduction parfaite”
– Nb transistors 1X
– Taille 0.5X
– Fréquence 1.5X
–
–
–
–
Puissance 0.5X
IPC 1X (instr./cycle)
Performance 1.5X
Densité de puissance 1X
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• Nouvelle µarchi (CPU)
–
–
–
–
Même taille de puce
Nb transistors 2X
Taille 1X
Fréquence 1.5X
–
–
–
–
Puissance 1X
IPC 2X
Performance 3X
Densité de puissance 1X
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18
9
Les technologies de fabrication : la réalité
• En réalité
– Les nouvelles réalisations multiplient par 2X la fréquence
– Les nouvelles réalisations utilisent plus de transistors (2X-3X pour 1.5X1.7X performance)
• A chaque nouveau procédé et génération d’architecture
– La puissance augmente d’un facteur proche de 2X
– La densité de puissance augmente de 30 à 80%
• Cela va empirer avec les prochaines générations de procédé
de fabrication
– La réduction des tensions va diminuer
– Les fuites augmentent considérablement
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La loi de Moore
Transistors
Par puce
108
256M
Mémoire
Microprocesseur
107
106
256K
i486™
i486™
64K
4K 16K
1K
103
102
4M
1M
105
104
16M
64M
4004
80286
Pentium®
Pentium® III
Pentium® II
Pentium® Pro
i386™
i386™
8086
8080
101
100
’70
’73
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’76
’79
’82
’85
’88
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’91
’94
'97
2000
Source: Intel
20
10
Les microprocesseurs ces 25 dernières années
•
•
La densité de transistors double tous les 30 mois
Augmentation de la taille de puce
source Fred Pollack,
MicroMicro-32
– Augmentation de la taille des “wafers”
– Progrès technologiques
• ⇒ Doublement du nombre de transistors tous les 18 mois
Tech
1,0µ
0,7µ
0,5µ
0,18µ
mm
6,5
9,5
12,2
10,3
µArch (n)
i386C
i486C
Pentium®
Pentium® III
mm
11,5
17
17,3
?
µArch (n+1)
i486
Pentium®
Pentium® Pro
Pentium 4
Ratio
Ratio
3,1
3,2
2,1
2--3
Implications : (pour la même technologie)
1. Nouvelle µArch ~ surface de puce 2-3X par rapport à l’ancienne
2. Fournit 1.5-1.7X les performances “entières” de l’ancienne
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21
Evolution de la puissance dissipée des CPU
?
100
Pentium® II
Pentium®
Pentium® 4
Max Power (Watts)
Pentium® Pro
Pentium® III
10
Pentium®
Pentium®
w/MMX tech.
i486
i386
1
1.5µ
1µ
0.8µ
0.6µ
0.35µ
0.25µ
0.18µ
0.13µ
La nouvelle génération augmente toujours la puissance
Réduction : performance plus élevé
levée avec moins de puissance
On part du haut de gamme et on réduit vers les “portables”
portables”
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22
11
La densité de puissance
1000
Rocket
Nozzle
Watts/cm 2
Nuclear
Nuclear Reactor
Reactor
100
Pentium®
Pentium® 4
Pentium®
Pentium® III
Pentium®
Pentium® II
Hot plate
10
Pentium®
Pentium® Pro
Pentium®
Pentium®
i386
i486
1
1.5µ
1µ
0.7µ
0.5µ
0.35µ
0.25µ
0.18µ
0.13µ
0.1µ
0.07µ
* “New Microarchitecture Challenges in the Coming Generations of CMOS
CMOS Process Technologies”
Technologies” –
Fred Pollack, Intel Corp. Micro32 conference key note - 1999.
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23
Efficacité des µarchitectures
Tech
1.0µ
0.7µ
0.5µ
0.18µ
µArch
(n)
i386C
i486C
Pentium® proc
Pentium III® proc
mm
6.5
9.5
12.2
10.3
µArch
(n+1)
i486
Pentium® proc
Pentium Pro® proc
Pentium® 4 proc
mm
11.5
17
17.3
14.7
RapportRapport
Surface Perf.
3.1
3.2
1.8
2.1
1.5
2
1.4
3,5
Implications:
Implications: (dans
(dans la même technologie)
technologie)
1. µarch(n)
arch(n) ~2~2-3X surface de (n(n-1)
2. Fournit 1.41.4-1.8X performance entiè
entière de
(n(n-1)
Area
3
Perf.
2,5
2
1,5
1
0,5
0
486=>PP
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PP=>Ppro
PIII=>P4P
24
12
Evolution de puissance (théorique)
200
200
100
100
Puissance
Puissance de
de fuite
fuite
Puissance
Puissance active
active
Densité
Densité de
de puissance
puissance
75
75
Watts
150
150
50
50
100
100
25
25
50
50
00
Power Density (W/cm 2)
250
250
00
0.25µ
0.25µ
0.18µ
0.18µ
0.13µ
0.13µ
0.1µ
0.1µ
Puce de 15 mm de côté
côté (225 mm2)
Doublement de fré
fréquence à chaque génération
Estimation pour les générations futures
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25
Réduction de la tension d’alimentation
• Tension plus élevée = fréquence plus élevé
• Compromis fréquence - puissance
– Statiquement, à la fabrication
– Dynamiquement, à l’exécution (e.g., Intel’s
SpeedStep® Technology)
• L’étendue réelle dépend de la conception et
du procédé de fabrication
• Exemples*:
1000
– Les processeurs Intel® XScale™ fonctionnent
de 0,75V (150MHz/50mW)
à 1,65V (800MHz/900mW)
– Le processeur Intel mobile Pentium® III
fonctionnait de 1,1V (600MHz) à 1,7V (1GHz)
700
XScale proc. freq & power vs voltage
900
800
Fequency(Mhz)
Power (mWatt)
600
500
400
300
200
100
* Source: Intel Corp. (http://developer.intel.com)
0
0.5
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0.7
0.9
1.1
1.3
1.5
1.7
1.9
26
13
Réduction de la tension d’alimentation (2)
• Effet considérable sur la puissance
20% diminution de fréquence 20% diminution de tension
35% diminution d’énergie (αCV = αC*0,8 = αC*0,64)
50% diminution de puissance. (αCV f = αC*0,8 = αC*0,51)
2
2
2
3
• Encore plus impressionnant par rapport à la
performance
– 20% variation de fréquence seulement 10%-15%
variation de performance*
• La diminution de tension peut être utilisée pour un
compromis performance - puissance
* Dé
Dépend essentiellement du rapport de fré
fréquence processeur/bus et de la taille des caches
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Réduction de Vdd
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28
14
Compromis performance - puissance
La réduction de tension d’alimentation seule n’est
pas suffisante.
On doit effectuer un compromis performance –
puissance
• Réduction de la taille de puce => réduction des capacités active =>
réduction Perf(C) et Puissance(C)
• Réduction de Vdd et fréquence => Perf(freq) et Puissance (freq, Vdd2)
• Réduction de la taille des puces, de Vdd et de la fréquence
Prendre une métrique qui prend en compte performance et
puissance
Utiliser le produit Energie* Délai (E*D) pour évaluer le
compromis
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Compromis Energie*Délai
E = énergie / instruction
= Puissance * sec / instruction
= Watt / MIPS
D = sec / instruction
= 1 / MIPS
2
3
2
1
0
0
0
1
2
Vdd (volts)
0
1
2
Vdd (volts)
3
400
ExD
E *D ~ Watt / MIPS
1
Delay
Energy (PJ)
4
300
200
100
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3
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15
Les différents “segments”
• Les systèmes enfouis/embarqués
–
–
–
–
•
L’essentiel de la puissance est consommée par le CPU
Pas de limitation thermique
Essentiel : durée de vie de la batterie
Dans les systèmes temps réels, on peut tirer partie des contraintes
temporelles connues
Ordinateurs portables
– Limitation thermique
– Pas d’utilisation des contraintes temporelles des applications
– Optimisation pour une durée de vie maximale de la batterie et la
performance maximale pour une puissance déterminée
• Ordinateurs de bureau:
– Problèmes de puissance et de dissipation thermique
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31
La conception “faible consommation”
•
•
•
•
•
Niveau technologique
Niveau circuit/logique
Niveau architectural
Niveau algorithmique
Niveau système
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32
16
Niveau technologique
• Dimensionement des transistors
– Ajuster les W/L aux besoins
• Action sur Vt
• SOI
– Silicium on Insulator
• Diminution d’un facteur 2 à 3 des
capacités parasites
• Meilleure résistance à la température
• Action sur Vdd
– Plusieurs Vdd
• Alimenter les parties lentes avec Vdd
plus faible
• Séparer le coeur du circuit des circuits
d’E/S
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33
Niveau circuit/logique
• Dimensionement des portes
• Choix du type de logique
– Statique/dynamique, synchrone/asynchrone
– Adiabatique, préchargement, pass-transistor, etc
•
•
•
•
•
•
Optimisations logiques
Extraction des sous-fonctions communes
Partage des ressources
Format de codage
Choix des opérateurs
Actions sur l’horloge
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34
17
Format de codage
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35
Format de codage
• Ajustement du chemin de données suivant la précision
demandée
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36
18
Prédiction ou précalcul
• Exemple : comparaison
– Précalcul des deux bits de poids fort
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37
Choix des opérateurs : additionneurs
FA
• Il y a plusieurs algorithmes pour un additionneur “entier”
– “Ripple, select, skip (x2), Look-ahead, conditional-sum”.
– Chaque type a ses caractéristiques temporelles et de puissance.
Ripple Carry
Carry Select
FA
FA
FA
FA
FA FA
FA
FA
0
FA
FA
1
Variable/Fixed
Variable/Fixed Width Carry Skip
Carry LookLook-ahead
FA
FA
FA
FA
FA
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FA
FA
FA
38
19
Puissance et délai (additionneurs)
•
D’après Callaway et Swartzlander*:
Ripple Carry
Constant Width Carry Skip
Variable Width Carry Skip
Carry Lookahead
Carry Select
Conditional Sum
FA
Energie
(pJ) Délai (ns)
117
54.27
109
28.38
126
21.84
171
17.13
216
19.56
304
20.05
En ne choisissant qu’
qu’un critè
critère :
– Puissance – utiliser “constant width carry skip”
skip”
– Délai – utiliser “carry looklook-ahead”
ahead”
* “Estimating the power consumption of CMOS adders”
adders” - Callaway,
Callaway, T.K.; Swartzlander,
Swartzlander, E.E., Jr.
Jr.
11th Symposium on Computer Arithmetic,
Arithmetic, 1993. Proceedings.
Proceedings.
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39
Niveau architectural
• Optimisation
–
–
–
–
–
Diminuer Vdd
Parallélisme/Pipeline
Encodage de bus
Eteindre les modules inutilisés
Partage des ressources exploitant la localité spatiale
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40
20
Parallélisme
• Fréquence divisée par 2
• Complexité multipliée par 2
• Puissance de traitement inchangée
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41
Pipeline
• Puissance de traitement inchangée
• Fréquence inchangée
• Complexité inchangée
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D. Etiemble
42
21
Codage de bus
• Ne transmettre que les transitions : intéressant si forte
corrélation entre les données (images)
• Code T0
– 1 bit supplémentaire INC
• =1 pour deux adresses consécutives (et on ne transmet pas les adresses)
• = 0 et on utilise les adresses normales.
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43
Codage de bus
• Codage de bus inversé
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44
22
Niveau système
•
•
•
•
•
Contrôle d’activité
Partitionement
Réduction de tension d’alimentation
Gestion de la puissance
Mises en veille
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45
Gestion dynamique de la puissance
Exemple: STRONGARM SA1100
•RUN : opérationnel
•IDLE: une routine
logicielle peut arrêter le
CPU s’il est inutilisé, tout
en continuant à “suivre”
les interruptions
•SLEEP: Arrêt de
l’activité du circuit
400mW
RUN
10µs
90µs
160ms
10µs
90µs
IDLE
SLEEP
50mW
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160µW
46
23
Les mémoires
• Pour la mémoire, l’efficacité est aussi un problème
–
–
–
–
–
Vitesse (latence et débit), “timing” prévisible ou non
Efficacité énergétique
Taille
Coût
Volatilité ou non
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47
Les problèmes du temps d‘accès
•Ecart croissant entre mémoire et CPU
Vitesse
•• Années
Années60
60(Atlas):
(Atlas):
défaut
de
défaut de page
page ~~2500
2500instructions
instructions
•• 2002
(µP
2
GHz
):
2002 (µP 2 GHz ):
accès
accès DRAM
DRAM ~~500
500 instructions
instructions
pénalité
d’échec
cache
pénalité d’échec cache bientôt
bientôt
similaire
au
défaut
de
page
dans
similaire
au
défaut
de
page
dans
≥ 2x
l’Atlas
l’Atlas
tous les
2 ans
-2
p.
a.
)
8
CP
U
(1
.5
4
2
.a.)
1.07 p
(
M
A
DR
1
0
1
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2
3
4
5
[P. Machanik: Approaches to Addressing the
Memory Wall, TR Nov. 2002, U. Brisbane]
Années
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48
24
Temps d‘accès et consommation d‘énérgie
„Actuellement, la
taille de certaines
applications double
tous les 10 mois "
Exemple (Modèle CACTI ):
[STMicroelectronics,
Medea+ Workshop,
Stuttgart, Nov. 2003]
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49
Bancs de registres multiports
Surface (λ
λ2x106)
Puissance (W)
1.8
7
14
1.7
6
12
5
10
4
8
3
6
1.2
2
4
1.1
1
2
1
0
1.6
1.5
1.4
1.3
16
32
64
Taille du banc de registres
128
Source and © H. Valero, 2001
Temps cycle (ns)
0
16
32
GP6M2
64
GP6M3
128
16
32
64
128
Taille du banc de registres
•Rixner’s et al. [HPCA’00], Technologie 0,18 µm
•Configurations VLIW GPxMyREGz avec : x={6}, y={2, 3} and z={16, 32, 64, 128}
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50
25
Puissance dissipée par la mémoire
Mobile PC
Average System Power
Mobile PC
Thermal Design (TDP) System Power
Other
13%
Other
13%
600/500 MHz uP
37%
Power Supply
10%
600/500 MHz uP
13%
Power Supply
10%
Memory+Graphics
12%
LCD 10"
30%
Memory+Graphics
15%
HDD
9%
LCD 10"
19%
[Courtesy: N. Dutt; Source: V. Tiwari]
HDD
19%
Note: Based on Actual Measurements
Multiple Platform
Components Comprise
Average Power
CPU Dominates Thermal
Design Power
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51
Puissance dissipée du processeur
EBOX
8%
DMMU
8%
Others
5%
Icache
26%
42%/40% pour la mémoire !
Clock
10%
IMMU
9%
Ibox
18%
Dcache
16%
Strong ARM
IEEE Journal of SSC
Nov. 96
Control L.
16%
Data Flow
11%
I/O
7%
Clock
19%
PLA
5%
ROM
2%
Cache
23%
Power PC
Based on slide by and ©: Osman S. Unsal, Israel Koren, C.
Mani Krishna, Csaba Andras Moritz, University of
Massachusetts, Amherst, 2001
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TLB
17%
Proceedings of ISSCC 94
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52
26
Mémoire Scratch pad (SPM)
Hiérarchie
Hiérarchie
Exemple
Exemple
MP
SPM
Espace d‘adressage
Coeurs
ARM7TDMI
réputés pour la
faible
consommation
processeur
0
Pas de
mémoire
d‘étiquettes
FFF..
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Mémoire scratch pad
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53
Consommation Scratchpad et MP
Exemple: Carte d’évaluation Atmel ARM
Réduction
Réductionen
en
courant
courant::// 3.02
3.02
Courant
32 Bit-Load Instruction (Thumb)
200
Mémoire
(sur carte)
mA
principale
150
100
116
77.2
82.2
50.9
44.4
50
48.2
1.16
53.1
0
SPM
(Sur puce)
Prog Off-Chip/ Data Prog Off-Chip/ Data Prog On-Chip/ Data Prog On-Chip/ Data
Off-Chip
On-Chip
Off-Chip
On-Chip
Courant cœur + mémoire interne (mA)
Courant mémoire externe (mA)
Processeur
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54
27
Energie Scratchpad et Mémoire principale
Les accès en MP prennent
beaucoup de cycles. Le
gain (86%) est plus grand
que pour le courant.
Exemple: Carte d’évaluation Atmel ARM
Energie
nJ
32 Bit-Load Instruction (Thumb)
140.0
120.0
100.0
80.0
60.0
40.0
20.0
0.0
115.8
Réduction
Réduction
d’énergie
d’énergie ::
// 7.06
7.06
76.5
51.6
16.4
Prog Off-Chip/
Data Off-Chip
Prog Off-Chip/
Data On-Chip
Prog On-Chip/
Data Off-Chip
100%
100% prévisible
prévisible
Prog On-Chip/
Data On-Chip
Energy
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55
L’inconvénient des caches
1. Problème des défauts de cache
Le pire cas (WCET) peut être grand
[P. Marwedel et al., ASPDAC, 2004]
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56
28
L’inconvénient des caches
2. Energie consommée pour l’accès parallèle des ensembles, dans les
comparateurs, les multiplexeurs
.
9
8
7
Energie par accès [nJ]
6
Scratch pad
5
Cache, 2 voies, 32 bits
4
Cache, 2 voies, 24 bits
Cache, 2 voies, 20 bits
3
2
1
0
256
512
1024
2048
4096
8192
Taille cache
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16384
[R. Banakar, S. Steinke, B.-S. Lee, 2001]
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Influence de l‘associativité
[P. Marwedel et al., ASPDAC, 2004]
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58
29
Références
• Un certain nombre de transparents utilisent ou s’inspirent de
transparents des cours suivants
– Avi Mendelson: “Low Power Architecture”, Technion, Israel
– Prabhat Mishra : “Components of Embedded Systems”, University of
Florida
– Alain Guyot : “Comportement électrique de la porte CMOS”, DEA
Micro-électronique, Grenoble, 1997
• http://tima-cmp.imag.fr/~guyot/Cours/Microelectronique/index.html
– Alain Guyot : “Conception pour la faible consommation”, DEA Microélectronique, Grenoble, 1996.
• http://tima-cmp.imag.fr/~guyot/Cours/Basseconso/BasseConso.pdf
– Nathalie Julien : “Conception faible consommation”, DEA
Electronique, Lorient, 2003
• Les références pour d’autres transparents sont citées dans le
transparent.
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