Développement des sources ECR D+ et H- à Saclay R. Gobin, P-Y. Beauvais, K. Benmeziane, G. Charruau, O. Delferrière, D. De Menezes, A. France, R. Ferdinand, Y. Gauthier, F. Harrault, Commissariat à l'Energie Atomique, CEA-Saclay, DSM/DAPNIA, 91191 Gif sur Yvette Cedex, France P. Leherissier, J-Y. Paquet, GANIL, Bd Henri Becquerel, 14076 Caen Cedex 5. France J. Sherman Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, N.M. 87 545, USA Source de DEUTONS Banc test H- Introduction A Saclay, développement des sources pour 3 programmes : 1) Les faisceaux intenses de H+ pour les ADS SILHI produit régulièrement des H+ > 100 mA 2) Faisceaux de Deutons pour RIB et Irradiation Tool Nouvelle source en construction 3) Des ions H- pour Spallation sources or Neutrino production Source en développement 3 sources différentes, basées sur le même principe Le Plasma est généré par résonance ECR 2.45 GHz DEUTONS En 2001, SILHI a produit des Deutons (mode pulsé) (130mA – 100 keV – D+ 96 %) [pour le programme IFMIF] Proposition pour SPIRAL2: source ECR de type SILHI, fonctionnant à 2.45 GHz avec des aimants permanents SOURCE DEUTONS Condition requises: Particules: D+ and H2+ (pour le conditioning), Energie: 40 keV Intensité: 0.15 ou 5 mA (réglable en continu de 0 à I max pour le conditioning) Fonctionnement CW Emittance < 0.2 mm.mrad Forte proportion de D+ Bonne stabilité et disponibilité Longue durée de vie (> 3 mois) Modifications envisagées Remplacer les bobines par PM Supprimer le blindage magnétique Construire un système d’extraction 40 kV pas de plateforme LEDA Injection RF via DC break } Options gardées efficaces sur SILHI: Disques de BN Fenêtre protégée EI réglable Suppresseur d’électrons SOURCE DEUTONS Simulations magnétiques avec OPERA 2D de VF Bz Opera2D 1500 200 3 Rings L=50 mm Rint 76 mm, Rext 115 mm Gaps 10 mm Gauss 3 Rings L=50 mm Rint 76 mm, Rext 115 mm Gaps 4 mm 1000 150 500 100 SILHI 0 -200 -150 -100 -50 0 50 100 -500 150 50 200 0 m Pour garder un réglage, 3 couronnes d’aimants permanents séparées par un gap ajustable SOURCE DEUTONS Système d’extraction avec les codes Axcel and OPERA-2D Forte densité de plasma pour D+ élevés Minimiser le champ électrique Minimiser l’émittance et la divergence 2 modes de fonctionnement (0.15 et 5 mA) Pas de compensation (faible pression) -2 kV 0 to 8 kV 18 kV 40 kV Max 61 kV/cm 5 mA Axcel simulation Les 2 modes de fonctionnement et la variation continue de l’un à l’autre imposent un système flexible équipé de 2 électrodes intermédiaires SOURCE DEUTONS RF Injection (2.45 GHz) via ridged transition et WR 284 Plasma Chamber l=100mm and =90 mm with 2 BN discs 5 Electrode Extraction System Extraction Aperture =2.5 mm PM, 3 Rings (r=76 and 115 mm) SOURCE DEUTONS Le point aujourd’hui 2003 - Calculs extraction et configuration magnétique - Design de la source (aimants, chambre, tube accél.) - Fabrication en cours - Début assemblage Terminés Terminé Sept. à Nov. Nov. déc. Et la suite, - Quelques mesures deutons avec SILHI mi-Octobre 2004 - Premiers Tests Installation sur la LBE SILHI Caractérisation du faisceau Rapport final avec plans Janv. et Février Mars Avr. à Septembre Octobre H- test stand Tout a commencé avec Concert puis ESS, le CERN et … Les besoins: qq 10 mA; 50 à 100 keV; mode pulsé; longue durée de vie Proposition: Développer une source ECR (2.45 GHz) dont la base repose sur du matériel de rechange de SILHI. Ce travail s’inscrit dans un réseau Européen (9 labos) dont le but est l’optimisation de sources existantes et le développement de nouvelles techniques Supporté par la Communauté Européenne (contrat HPRI CT 2001-50021) Coordonnateur CEA/Saclay H- test stand Pourquoi une source ECR pour produire des ions H- ? Ce type de source a déjà démontré son efficacité (LEDA, SILHI, TRIPS et autres) pour produire des plasmas de forte densité. Ni filament ni antenne longue durée de vie Facilité de réglage (seulement quelques paramètres) Options Fonctionnement pulsé Chambre plasma rectang. Extraction 5 mm 2.45 GHz Fenêtre protégée ECR zone à l’entrée RF Diagnostics plasma Après 1 an, résultat: rien !!! Début 2002 H- test stand Observation des premiers ions Hconfirmée avec un plasma d’helium et l’analyse des charges positives Comparison Helium et Hydrogène 10000 Faraday Cup Intensity e- Plasma Hélium Plasma Hydrogène ? La déviation des électrons par le MF fausse les mesures H- 1000 Sans MF, rapport e-/H- ~ 8000 I e- = 40 mA; I 100 10 0 0.5 1 1.5 2 Dipole analyser magnet (A) 2.5 3 3.5 H- = 5 µA H- test stand Spectroscopie du plasma (: 715.3, 674, 631.5, 627 nm) indique la présence de molécules d’H2 excitées capables de produire des ions H(attachement dissociatif) H2 (v) + 1e-(low) H- + H Conclusion: les ions produits sont détruits… Causes possibles - Pollution - Electrons de haute énergie - µ onde ou … Simulations RF (avec MAFIA) montre qu’une grille (maille de 5 mm) réfléchit l’onde non absorbée H- test stand Installation d’une grille en inox dans la chambre plasma rectangulaire Toujours sans MF H- extracted current vs grid position 90 80 H- ion intensity (µA) 70 60 50 40 30 20 10 0 0 10 20 30 40 50 60 70 80 Grid position from extraction aperture (mm) Grille à 85 mm, Gain d’un facteur 2 (10 µA) En changeant la position de la grille (avec reprise des réglages, pression, puissance RF et champ magnétique I H- = 84 µA à 30mm 90 H- test stand La grille est fixée sur l’électrode plasma L’ensemble grille et el. pl. est polarisable I H- 850 µA 1000 900 800 600 500 400 300 200 1000 Extr 10 kV, Phf 950 W, Pr 4 10-5T 900 100 800 0 0 20 40 60 80 100 120 Grid voltage (V) 10-3Torr Pression optimum: 3.5 à 4 dans la chambre plasma Extr10 kV, Vgrid 110 V, Pr 3.5 e-5 T 700 courant d'ions H- (µA) H- ion current (µA) 700 600 500 400 300 En fonction de P 200 100 0 300 400 500 600 700 puissance incidente en W 800 900 HF 1000 H- test stand Pour prouver la production d’ions H- Pas de courrant sur CF avec un plasma d’Hélium nouvelle analyse avec dipôle et comparaison H+ - H- Comparison Helium et Hydrogène 10000 Plasma Hélium Plasma Hydrogène Faraday Cup Intensity e1000 ? H- 100 10 0 0.5 1 1.5 2 Dipole analyser magnet (A) 2.5 3 3.5 Le fort taux de H3+ provient de la réaction H2 + H2+ H3+ + H + 1.71eV (caractéristique des plasmas froids favorables à la production d’ions H-) H- test stand La source fonctionne en mode pulsé (1ms/10Hz), 24H/24, Pas de dégradation de la grille après plusieurs semaines Que de travail encore ! ! ! “Bonne” efficacité: environ 1 mA / kW avec extraction de 5 mm - Accroître la puissance RF (6 kW) - Mélange de gaz, matériaux de la chambre - Filtre Magnétique - Volume et forme de la chambre plasma - Nouveau système d’extraction avec séparateur d’électrons - Développement de code (en cours) - Et le césium ! Conclusion: Il faut persévérer …